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1. (WO2019063313) METROLOGY METHOD AND DEVICE
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№ de pub.: WO/2019/063313 № do pedido internacional: PCT/EP2018/074841
Data de publicação: 04.04.2019 Data de depósito internacional: 14.09.2018
CIP:
G03F 7/20 (2006.01) ,H01L 21/66 (2006.01)
G FÍSICA
03
FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TÉCNICAS SEMELHANTES UTILIZANDO ONDAS OUTRAS QUE NÃO ONDAS ÓPTICAS; ELETROGRAFIA; HOLOGRAFIA
F
PRODUÇÃO FOTOMECÂNICA DE SUPERFÍCIES TEXTURIZADAS OU ESTAMPADAS, p. ex., PARA IMPRESSÃO, PARA PROCESSAMENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUTORES; MATERIAIS PARA AS MESMAS; ORIGINAIS PARA AS MESMAS; APARELHOS ESPECIALMENTE ADAPTADOS PARA ESSE FIM
7
Produção fotomecânica, p. ex., fotolitografia, produção de superfícies texturizadas ou estampadas, p. ex., superfícies para impressão; Materiais para esse fim, p. ex., compreendendo fotoresistes; Aparelhos especialmente adaptados para esse fim
20
Exposição; aparelhos para esse fim
H ELECTRICIDADE
01
ELEMENTOS ELÉTRICOS BÁSICOS
L
DISPOSITIVOS SEMICONDUTORES; DISPOSITIVOS ELÉTRICOS DE ESTADO SÓLIDO NÃO INCLUÍDOS EM OUTRO LOCAL
21
Processos ou aparelhos especialmente adaptados para a manufatura ou tratamento dos dispositivos semicondutores ou de dispositivos de estado sólido ou de partes dos mesmos
66
Teste ou medição durante a fabricação ou durante o tratamento
Requerentes:
ASML HOLDING N.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventores:
SHMAREV, Yevgeniy, Konstantinovich; US
PANDEY, Nitesh; NL
KOOLEN, Armand, Eugene, Albert; NL
Mandatário:
SLENDERS, Peter; NL
Dados da prioridade:
62/565,03328.09.2017US
Título (EN) METROLOGY METHOD AND DEVICE
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE MÉTROLOGIE
Resumo:
(EN) An inspection apparatus, including: an objective configured to receive diffracted radiation from a metrology target having positive and negative diffraction order radiation; an optical element configured to separate the diffracted radiation into portions separately corresponding to each of a plurality of different values or types of one or more radiation characteristics and separately corresponding to the positive and negative diffraction orders; and a detector system configured to separately and simultaneously measure the portions.
(FR) La présente invention concerne un appareil d'inspection qui comprend : un objectif configuré pour recevoir un rayonnement diffracté provenant d'une cible de métrologie ayant un rayonnement doté d'un ordre de diffraction positif et négatif ; un élément optique configuré pour séparer le rayonnement diffracté en parties correspondant séparément à chaque valeur ou type d'une pluralité de valeurs ou de types différents d'une ou de plusieurs caractéristiques de rayonnement et correspondant séparément aux ordres de diffraction positif et négatif ; et un système de détection configuré pour mesurer séparément et simultanément les parties.
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Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organização Regional Africana da Propriedade Intelectual (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Instituto Eurasiático de Patentes (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Instituto Europeu de Patentes (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organização Africana da Propriedade Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Língua de publicação: inglês (EN)
Língua de depósito: inglês (EN)