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1. (WO2019061633) RADIATION SOURCE POSITIONING METHOD AND APPARATUS
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№ de pub.: WO/2019/061633 № do pedido internacional: PCT/CN2017/108091
Data de publicação: 04.04.2019 Data de depósito internacional: 27.10.2017
CIP:
G01T 1/29 (2006.01)
G FÍSICA
01
MEDIÇÃO; TESTE
T
MEDIÇÃO DE RADIAÇÕES NUCLEARES OU DE RAIOS-X
1
Medição dos raios-X, radiação gama, da radiação corpuscular, ou radiações cósmicas
29
Medição efetuada em feixes de radiações, p. ex., na posição ou seção do feixe; Medição de distribuição espacial de radiação
Requerentes:
苏州瑞派宁科技有限公司 RAYCAN TECHNOLOGY CO., LTD. (SUZHOU) [CN/CN]; 中国江苏省苏州市 高新区锦峰路8号17栋 Bldg. 17, 8 Jinfeng Rd., Suzhou New District Suzhou, Jiangsu 215163, CN
Inventores:
姜浩 JIANG, Hao; CN
谢庆国 XIE, Qingguo; CN
Mandatário:
北京博华智恒知识产权代理事务所(普通合伙) INTEWIG & PARTNERS; 中国北京市 海淀区北三环西路甲18号院大钟寺中坤广场E612 Room 612, Tower E Dazhongsi Zhongkun Plaza, Jia 18, Beisanhuanxi Rd., Haidian District Beijing 100098, CN
Dados da prioridade:
201710898897.828.09.2017CN
Título (EN) RADIATION SOURCE POSITIONING METHOD AND APPARATUS
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE POSITIONNEMENT DE SOURCE DE RAYONNEMENT
(ZH) 一种射源定位的方法及装置
Resumo:
(EN) A radiation source positioning method, comprising the following steps: S1: measuring a first count rate group of a scintillation crystal array (10) at a first position (A); S2: calculating a first relative angle of a radiation source (60) relative to the scintillation crystal array (10) by using the first count rate group; S3: moving the scintillation crystal array (10) to a second position (B); S4: measuring a second count rate group of the scintillation crystal array (10) at the second position (B); S5: calculating a second relative angle of the source (60) relative to the scintillation crystal array (10) by using the second count rate group, the method of calculating the second relative angle being identical to that in step S2; S6: calculating the coordinates of the relative position of the radiation source (60) by using the first relative angle and the second relative angle. A radiation source positioning apparatus, comprising the scintillation crystal array (10), a silicon photoelectric multiplier array (20) that is coupled with the scintillation crystal array (10), a multi-path counting module (30) that is communicatively connected to the silicon photoelectric multiplier array (20), a calculating module (40) that is communicatively connected to the multi-path counting module (30), and a screen (50).
(FR) L'invention concerne un procédé de positionnement de source de rayonnement, comprenant les étapes suivantes : S1 : mesurer un premier groupe de taux de comptage d'un réseau de cristaux de scintillation (10) dans une première position (A) ; S2 : calculer un premier angle relatif d'une source de rayonnement (60) par rapport au réseau de cristaux de scintillation (10) à l'aide du premier groupe de taux de comptage ; S3 : déplacer le réseau de cristaux de scintillation (10) vers une deuxième position (B) ; S4 : mesurer un deuxième groupe de taux de comptage du réseau de cristaux de scintillation (10) dans la deuxième position (B) ; S5 : calculer un deuxième angle relatif de la source (60) par rapport au réseau de cristaux de scintillation (10) à l'aide du deuxième groupe de taux de comptage, le procédé de calcul du deuxième angle relatif étant identique à celui de l'étape S2 ; S6 : calculer les coordonnées de la position relative de la source de rayonnement (60) en utilisant le premier angle relatif et le deuxième angle relatif. L'invention concerne également un appareil de positionnement de source de rayonnement, comprenant le réseau de cristaux de scintillation (10), un réseau de multiplicateur photoélectrique au silicium (20) qui est couplé au réseau de cristaux de scintillation (10), un module de comptage à trajets multiples (30) qui est connecté en communication au réseau de multiplicateur photoélectrique au silicium (20), un module de calcul (40) qui est connecté en communication au module de comptage multi-trajet (30) et un écran (50).
(ZH) 一种射源定位的方法包括步骤:S1:在第一位置(A)处测量闪烁晶体阵列(10)的第一计数率组;S2:利用第一计数率组计算射源(60)相对于闪烁晶体阵列(10)的第一相对角度;S3:将闪烁晶体阵列(60)移动至第二位置(B)处;S4:在第二位置(B)处测量闪烁晶体阵列(10)的第二计数率组;S5:利用第二计数率组计算射源(60)相对于闪烁晶体阵列(10)的第二相对角度,第二相对角度的计算方法与步骤S2相同;S6:利用第一相对角度和第二相对角度计算射源(60)的相对位置坐标。一种射源定位的装置包括闪烁晶体阵列(10)、与闪烁晶体阵列(10)耦合的硅光电倍增器阵列(20)、与硅光电倍增器阵列(20)通信连接的多路计数模块(30)、与多路计算模块(30)通信连接的计算模块(40)以及屏幕(50)。
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Língua de publicação: Chinês (ZH)
Língua de depósito: Chinês (ZH)