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1. (WO2019050365) POROUS POLYURETHANE POLISHING PAD AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
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№ de pub.: WO/2019/050365 № do pedido internacional: PCT/KR2018/010562
Data de publicação: 14.03.2019 Data de depósito internacional: 10.09.2018
CIP:
B24D 3/32 (2006.01) ,B24D 18/00 (2006.01) ,C08L 75/04 (2006.01) ,C08J 9/04 (2006.01) ,C08J 9/00 (2006.01)
B OPERAÇÕES DE PROCESSAMENTO; TRANSPORTE
24
ESMERILHAMENTO; POLIMENTO
D
FERRAMENTAS PARA ESMERILHAR, BRUNIR OU AFIAR
3
Características físicas de folhas ou corpos abrasivos, p. ex., superfícies abrasivas de natureza especial; Folhas ou corpos abrasivos caracterizados por seus componentes
02
sendo os componentes utilizados como agentes aglutinantes
20
e sendo essencialmente orgânicos
28
Resinas
32
de estrutura porosa ou celular
B OPERAÇÕES DE PROCESSAMENTO; TRANSPORTE
24
ESMERILHAMENTO; POLIMENTO
D
FERRAMENTAS PARA ESMERILHAR, BRUNIR OU AFIAR
18
Fabricação de ferramentas para esmerilhar, p. ex., rodas, não incluídas em outro local
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
L
COMPOSIÇÕES DE COMPOSTOS MACROMOLECULARES
75
Composições de poliureias ou poliuretanas; Composições de derivados desses polímeros
04
Poliuretanas
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
J
ELABORAÇÃO; PROCESSOS GERAIS PARA FORMAR MISTURAS; PÓS-TRATAMENTO NÃO ABRANGIDO PELAS SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G ou C08H169
9
Elaboração de substâncias macromoleculares para produzir artigos ou materiais porosos ou celulares; Pós-tratamento dos mesmos
04
usando gases de expansão produzidos por um agente de expansão previamente adicionado
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
J
ELABORAÇÃO; PROCESSOS GERAIS PARA FORMAR MISTURAS; PÓS-TRATAMENTO NÃO ABRANGIDO PELAS SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G ou C08H169
9
Elaboração de substâncias macromoleculares para produzir artigos ou materiais porosos ou celulares; Pós-tratamento dos mesmos
Requerentes:
에스케이씨 주식회사 SKC CO., LTD. [KR/KR]; 경기도 수원시 장안구 장안로 309번길 84 84, Jangan-ro 309beon-gil, Jangan-gu, Suwon-si, Gyeonggi-do 16336, KR
Inventores:
서장원 SEO, Jang Won; KR
한혁희 HAN, Hyuk Hee; KR
허혜영 HEO, Hye Young; KR
류준성 RYOU, Joonsung; KR
권영필 KWON, Young Pil; KR
Mandatário:
제일특허법인(유) FIRSTLAW P.C.; 서울시 서초구 마방로 60 60 Mabang-Ro, Seocho-Ku, Seoul 06775, KR
Dados da prioridade:
10-2017-011606911.09.2017KR
10-2017-011610811.09.2017KR
Título (EN) POROUS POLYURETHANE POLISHING PAD AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) TAMPON DE POLISSAGE EN POLYURÉTHANE POREUX ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(KO) 다공성 폴리우레탄 연마패드 및 이의 제조방법
Resumo:
(EN) An embodiment relates to a porous polyurethane polishing pad used in a chemical mechanical planarization process of a semiconductor, and a method for manufacturing the same, wherein polishing performance of the porous polyurethane polishing pad can be controlled by controlling the size and distribution of pores by using thermally expanded microcapsules as a solid phase forming agent, and an inert gas as a gas phase foaming agent.
(FR) Un mode de réalisation de l'invention concerne un tampon de polissage en polyuréthane poreux utilisé dans un procédé de planarisation mécano-chimique d'un semi-conducteur, et son procédé de fabrication, la performance de polissage du tampon de polissage en polyuréthane poreux pouvant être contrôlée en contrôlant la taille et de la distribution des pores grâce à l'utilisation de microcapsules thermiquement expansées en tant qu'agent de formation de phase solide, et d'un gaz inerte en tant qu'agent moussant en phase gazeuse.
(KO) 구현예는 반도체의 화학적 기계적 평탄화 공정에 사용되는 다공성 폴리우레탄 연마패드 및 이의 제조방법에 관한 것으로서, 상기 다공성 폴리우레탄 연마패드는 고상 발포제인 열팽창된 마이크로 캡슐 및 기상 발포제인 불활성 기체를 사용하여 포어의 크기 및 분포를 조절함으로써, 연마성능을 조절할 수 있다.
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Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organização Regional Africana da Propriedade Intelectual (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Instituto Eurasiático de Patentes (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Instituto Europeu de Patentes (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organização Africana da Propriedade Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Língua de publicação: coreano (KO)
Língua de depósito: coreano (KO)