Algum conteúdo deste aplicativo está indisponível no momento.
Se esta situação persistir, por favor entre em contato conoscoFale conosco & Contato
1. (WO2019049830) FILTER DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING FILTER DEVICE
Dados bibliográficos mais recentes no arquivo da Secretaria Internacional    Submeter observação

№ de pub.: WO/2019/049830 № do pedido internacional: PCT/JP2018/032630
Data de publicação: 14.03.2019 Data de depósito internacional: 03.09.2018
CIP:
H03H 9/145 (2006.01) ,H03H 3/08 (2006.01) ,H03H 9/64 (2006.01)
H ELECTRICIDADE
03
CIRCUITOS ELETRÔNICOS BÁSICOS
H
REDES DE IMPEDÂNCIA, p. ex., CIRCUITOS RESSONANTES; RESSONADORES
9
Redes compreendendo dispositivos eletromecânicos ou eletroacústicos; Ressonadores eletromecânicos
02
Detalhes
125
Meios excitadores, p. ex., eletrodos, bobinas
145
para redes usando ondas acústicas de superfície
H ELECTRICIDADE
03
CIRCUITOS ELETRÔNICOS BÁSICOS
H
REDES DE IMPEDÂNCIA, p. ex., CIRCUITOS RESSONANTES; RESSONADORES
3
Aparelhos ou processos especialmente adaptados à manufatura de redes de impedância, circuitos ressonantes, ressonadores
007
para a fabricação de ressonadores eletromecânicos ou de redes
08
para a fabricação de ressonadores ou de redes usando ondas acústicas de superficie
H ELECTRICIDADE
03
CIRCUITOS ELETRÔNICOS BÁSICOS
H
REDES DE IMPEDÂNCIA, p. ex., CIRCUITOS RESSONANTES; RESSONADORES
9
Redes compreendendo dispositivos eletromecânicos ou eletroacústicos; Ressonadores eletromecânicos
46
Filtros
64
usando ondas acústicas de superfície
Requerentes:
株式会社村田製作所 MURATA MANUFACTURING CO., LTD. [JP/JP]; 京都府長岡京市東神足1丁目10番1号 10-1, Higashikotari 1-chome, Nagaokakyo-shi, Kyoto 6178555, JP
Inventores:
高峰 裕一 TAKAMINE, Yuichi; JP
Mandatário:
吉川 修一 YOSHIKAWA, Shuichi; JP
傍島 正朗 SOBAJIMA, Masaaki; JP
Dados da prioridade:
2017-17056705.09.2017JP
Título (EN) FILTER DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING FILTER DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE FILTRE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIF DE FILTRE
(JA) フィルタ装置およびフィルタ装置の製造方法
Resumo:
(EN) This filter device (1) is provided with: a substrate (50) which has piezoelectricity; a first filter (10) which comprises an IDT electrode (52) that is provided on the substrate (50); an electrode (30a) for terminals, which is provided on the substrate (50); a first wiring electrode (41) which is provided on the substrate (50) and connects the first filter (10) and the electrode (30a) for terminals with each other; and a dielectric film (61) which is provided on the substrate (50) so as to cover the IDT electrode (52). At least a part of the first wiring electrode (41) is not covered by the dielectric film (61).
(FR) Ce dispositif de filtre (1) comprend : un substrat (50) qui présente une piézoélectricité ; un premier filtre (10) qui comprend une électrode IDT (52) qui est disposée sur le substrat (50) ; une électrode (30a) pour des bornes, qui est disposée sur le substrat (50) ; une première électrode de câblage (41) qui est disposée sur le substrat (50) et connecte le premier filtre (10) et l'électrode (30a) pour des bornes l'un à l'autre ; et un film diélectrique (61) qui est disposé sur le substrat (50) de manière à recouvrir l'électrode IDT (52). Au moins une partie de la première électrode de câblage (41) n'est pas recouverte par le film diélectrique (61).
(JA) フィルタ装置(1)は、圧電性を有する基板(50)と、基板(50)上に設けられたIDT電極(52)を含む第1フィルタ(10)と、基板(50)上に設けられた端子用電極(30a)と、基板(50)上に設けられ、第1フィルタ(10)と端子用電極(30a)とをつなぐ第1の配線電極(41)と、IDT電極(52)を覆うように基板(50)上に設けられた誘電体膜(61)とを備える。第1の配線電極(41)の少なくとも一部は、誘電体膜(61)に覆われていない。
front page image
Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organização Regional Africana da Propriedade Intelectual (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Instituto Eurasiático de Patentes (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Instituto Europeu de Patentes (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organização Africana da Propriedade Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Língua de publicação: japonês (JA)
Língua de depósito: japonês (JA)