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1. (WO2019049594) Ni-BASED CORROSION-RESISTANT ALLOY POWDER FOR DEPOSITION MODELING, MULTILAYER MODEL USING THIS POWDER, AND METHOD FOR PRODUCING MEMBER FOR SEMICONDUCTOR PRODUCTION DEVICES
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№ de pub.: WO/2019/049594 № do pedido internacional: PCT/JP2018/029779
Data de publicação: 14.03.2019 Data de depósito internacional: 08.08.2018
CIP:
B22F 3/16 (2006.01) ,B22F 1/00 (2006.01) ,B33Y 70/00 (2015.01) ,C22C 19/05 (2006.01)
B OPERAÇÕES DE PROCESSAMENTO; TRANSPORTE
22
FUNDIÇÃO; METALURGIA DE PÓ METÁLICO
F
TRABALHO MECÂNICO COM PÓ METÁLICO; FABRICAÇÃO DE ARTIGOS A PARTIR DE PÓ METÁLICO; FABRICAÇÃO DE PÓ METÁLICO; APARELHOS OU DISPOSITIVOS ESPECIALMENTE ADAPTADOS PARA PÓ METÁLICO
3
Manufatura de peças ou artigos com pós metálicos caracterizada pela maneira de compactar ou sinterizar; Aparelhos especialmente adaptados a esse fim
12
Compactação e sinterização
16
em estágios sucessivos ou repetidos
B OPERAÇÕES DE PROCESSAMENTO; TRANSPORTE
22
FUNDIÇÃO; METALURGIA DE PÓ METÁLICO
F
TRABALHO MECÂNICO COM PÓ METÁLICO; FABRICAÇÃO DE ARTIGOS A PARTIR DE PÓ METÁLICO; FABRICAÇÃO DE PÓ METÁLICO; APARELHOS OU DISPOSITIVOS ESPECIALMENTE ADAPTADOS PARA PÓ METÁLICO
1
Tratamento especial de pó metálico, p. ex., para facilitar seu trabalho, para melhorar suas propriedades; Pós metálicos per se, p. ex., misturas de partículas de composições diferentes
[IPC code unknown for B33Y 70]
C QUÍMICA; METALURGIA
22
METALURGIA; LIGAS FERROSAS OU NÃO-FERROSAS; TRATAMENTO DE LIGAS OU DE METAIS NÃO-FERROSOS
C
LIGAS
19
Ligas à base de níquel ou de cobalto
03
à base de níquel
05
com cromo
Requerentes:
日立金属株式会社 HITACHI METALS, LTD. [JP/JP]; 東京都港区港南一丁目2番70号 2-70, Konan 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1088224, JP
Inventores:
太期 雄三 DAIGO, Yuzo; JP
菅原 克生 SUGAHARA, Katsuo; JP
Mandatário:
奥山 尚一 OKUYAMA, Shoichi; JP
松島 鉄男 MATSUSHIMA, Tetsuo; JP
中村 綾子 NAKAMURA, Ayako; JP
森本 聡二 MORIMOTO, Toshiji; JP
Dados da prioridade:
2017-17234307.09.2017JP
Título (EN) Ni-BASED CORROSION-RESISTANT ALLOY POWDER FOR DEPOSITION MODELING, MULTILAYER MODEL USING THIS POWDER, AND METHOD FOR PRODUCING MEMBER FOR SEMICONDUCTOR PRODUCTION DEVICES
(FR) POUDRE D'ALLIAGE RÉSISTANT À LA CORROSION À BASE DE Ni POUR MODÉLISATION DE DÉPÔT, MODÈLE MULTICOUCHE UTILISANT CETTE POUDRE, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN ÉLÉMENT POUR DISPOSITIFS DE PRODUCTION DE SEMICONDUCTEUR
(JA) 積層造形用Ni基耐食合金粉末、この粉末を用いた積層造形品と半導体製造装置用部材の製造方法
Resumo:
(EN) The present invention provides an Ni-based corrosion-resistant alloy powder which is suitable for deposition modeling; a multilayer model which uses this powder and has excellent corrosion resistance, while having few defects; and a member for semiconductor production devices. An Ni-based corrosion-resistant alloy powder for deposition modeling, which contains, in mass%, 14.5-24.0% of Cr, 12.0-23.0% of Mo, 0.01-7.00% of Fe, 0.001-2.500% of Co, 0.0001-0.0050% of Mg, 0.001-0.040% of N, 0.005-0.50% of Mn, 0.001-0.200% of Si, 0.01-0.50% of Al, 0.001-0.500% of Ti, 0.001-0.250% of Cu, 0.001-0.300% of V, 0.0001-0.0050% of B, 0.0001-0.0100% of Zr and 0.0010-0.0300% of O, with the balance being made up of Ni and unavoidable impurities, and wherein C, S and P contained as the unavoidable impurities are in an amount of less than 0.05%, in an amount of less than 0.01% and in an amount of less than 0.01%, respectively; a multilayer model which is obtained by deposition molding using this Ni-based corrosion-resistant alloy powder; and a method for producing a member for semiconductor production devices.
(FR) La présente invention concerne une poudre d'alliage résistant à la corrosion à base de Ni qui est appropriée pour une modélisation de dépôt; un modèle multicouche qui utilise cette poudre et présente une excellente résistance à la corrosion, tout en ayant peu de défauts; et un élément pour dispositifs de production de semiconducteur. L'invention concerne une poudre d'alliage résistant à la corrosion à base de Ni pour modélisation de dépôt, qui contient, en % massiques, 14,5 à 24,0% de Cr, 12,0 à 23,0% de Mo, 0,01 à 7,00% de Fe, 0,001 à 2,500% de Co, 0,0001 à 0,0050% de Mg, 0,001 à 0,040% de N, 0,005 à 0,50% de Mn, 0,001 à 0,200% de Si, 0,01 à 0,50% d'Al, 0,001 à 0,500% de Ti, 0,001 à 0,250% de Cu, 0,001 à 0,300% de V, 0,0001 à 0,0050% de B, 0,0001 à 0,0100% de Zr et 0,0010 à 0,0300% d'O, le reste étant constitué de Ni et d'impuretés inévitables, et dans laquelle C, S et P contenus dans les impuretés inévitables sont respectivement en quantité inférieure à 0,05%, en quantité inférieure à 0,01% et en quantité inférieure à 0,01%; un modèle multicouche qui est obtenu par moulage par dépôt à l'aide de cette poudre d'alliage résistant à la corrosion à base de Ni; et un procédé de production d'un élément pour dispositifs de production de semiconducteur.
(JA) 積層造形用に好適なNi基耐食合金粉末を提供するとともに、この粉末を用いた耐食性に優れ、かつ欠陥が少ない積層造形品、半導体製造装置用部材を提供する。質量%で、Cr:14.5~24.0%,Mo:12.0~23.0%,Fe:0.01~7.00%,Co:0.001~2.500%,Mg:0.0001~0.0050%,N:0.001~0.040%,Mn:0.005~0.50%,Si:0.001~0.200%,Al:0.01~0.50%,Ti:0.001~0.500%,Cu:0.001~0.250%,V:0.001~0.300%,B:0.0001~0.0050%,Zr:0.0001~0.0100%,O:0.0010~0.0300%を含有し、残部がNiおよび不可避不純物からなり、不可避不純物として含まれるC、S、Pは、それぞれ、C:0.05%未満、S:0.01%未満およびP:0.01%未満である積層造形用Ni基耐食合金粉末およびこのNi基耐食合金粉末を用いて積層造形する積層造形品、半導体製造装置用部材の製造方法。
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Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organização Regional Africana da Propriedade Intelectual (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Instituto Eurasiático de Patentes (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Instituto Europeu de Patentes (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organização Africana da Propriedade Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Língua de publicação: japonês (JA)
Língua de depósito: japonês (JA)