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1. (WO2019046573) POLYMER-ENCASED NANODISCS WITH IMPROVED BUFFER COMPATIBILITY
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№ de pub.: WO/2019/046573 № do pedido internacional: PCT/US2018/048840
Data de publicação: 07.03.2019 Data de depósito internacional: 30.08.2018
CIP:
C08F 222/08 (2006.01) ,C08F 8/32 (2006.01) ,C08F 8/34 (2006.01) ,C08F 8/40 (2006.01)
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
F
COMPOSTOS MACROMOLECULARES OBTIDOS POR REAÇÕES COMPREENDENDO APENAS LIGAÇÕES INSATURADAS CARBONO-CARBONO
222
Copolímeros de compostos tendo um ou mais radicais alifáticos insaturados, tendo cada qual apenas uma ligação dupla carbono-carbono, sendo pelo menos um terminado por um radical carboxila e contendo pelo menos um outro radical carboxila na molécula; Sais, anidridos, ésteres, amidas, imidas ou nitrilas dos mesmos
04
Anidridos, p. ex., anidridos cíclicos
06
Anidrido maleico
08
com monômeros aromáticos vinílicos
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
F
COMPOSTOS MACROMOLECULARES OBTIDOS POR REAÇÕES COMPREENDENDO APENAS LIGAÇÕES INSATURADAS CARBONO-CARBONO
8
Modificação química por pós- tratamento
30
Introdução de átomos de nitrogênio ou de grupos contendo nitrogênio
32
por reação com aminas
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
F
COMPOSTOS MACROMOLECULARES OBTIDOS POR REAÇÕES COMPREENDENDO APENAS LIGAÇÕES INSATURADAS CARBONO-CARBONO
8
Modificação química por pós- tratamento
34
Introdução de átomos de enxofre ou de grupos contendo enxofre
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
F
COMPOSTOS MACROMOLECULARES OBTIDOS POR REAÇÕES COMPREENDENDO APENAS LIGAÇÕES INSATURADAS CARBONO-CARBONO
8
Modificação química por pós- tratamento
40
Introdução de átomos de fósforo ou de grupos contendo metal
Requerentes:
TEXAS TECH UNIVERSITY SYSTEM [US/US]; Office of Research Commercialization P.O. Box 42007 Lubbock, TX 79409-2007, US
Inventores:
ALTENBERG, Guillermo, A.; US
LIANG, Hongjun; US
Mandatário:
FLORES, Edwin, S.; US
CHALKER, Daniel, J.; US
CHALKER FLORES, LLP; Daneil J. Chalker 14951 North Dallas Parkways, Suite 400 Dallas, TX 75254, US
Dados da prioridade:
16/117,07330.08.2018US
62/552,60531.08.2017US
62/596,97611.12.2017US
Título (EN) POLYMER-ENCASED NANODISCS WITH IMPROVED BUFFER COMPATIBILITY
(FR) NANODISQUES ENROBÉS DE POLYMÈRE PRÉSENTANT UNE COMPATIBILITÉ AU TAMPON AMÉLIORÉE
Resumo:
(EN) The present invention includes compositions, methods, and methods of making and using a polymer-encased nanodisc comprising: one or more integral membrane proteins in a lipid layer; and a polymer comprising zwitterionic styrene-maleic acid derivative repeating units that carry zero or nearly zero negative charge, and the polymer-encased nanodiscs.
(FR) La présente invention concerne des compositions, des procédés et des procédés de fabrication et d'utilisation d'un nanodisque enrobé de polymère comprenant : une ou plusieurs protéines membranaires intégrales dans une couche lipidique; et un polymère comprenant des motifs de répétition dérivés d'acide maléique/styrène zwitterionique qui transportent aucune ou presque aucune charge négative, et les nanodisques enrobés de polymère.
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Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organização Regional Africana da Propriedade Intelectual (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Instituto Eurasiático de Patentes (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Instituto Europeu de Patentes (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organização Africana da Propriedade Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Língua de publicação: inglês (EN)
Língua de depósito: inglês (EN)