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1. (WO2019046141) TRAINING A LEARNING BASED DEFECT CLASSIFIER
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№ de pub.: WO/2019/046141 № do pedido internacional: PCT/US2018/048042
Data de publicação: 07.03.2019 Data de depósito internacional: 27.08.2018
CIP:
H01L 21/66 (2006.01)
H ELECTRICIDADE
01
ELEMENTOS ELÉTRICOS BÁSICOS
L
DISPOSITIVOS SEMICONDUTORES; DISPOSITIVOS ELÉTRICOS DE ESTADO SÓLIDO NÃO INCLUÍDOS EM OUTRO LOCAL
21
Processos ou aparelhos especialmente adaptados para a manufatura ou tratamento dos dispositivos semicondutores ou de dispositivos de estado sólido ou de partes dos mesmos
66
Teste ou medição durante a fabricação ou durante o tratamento
Requerentes:
KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; Legal Department One Technology Drive Milpitas, California 95035, US
Inventores:
BRAUER, Bjorn; US
Mandatário:
MCANDREWS, Kevin; US
MORRIS, Elizabeth M. N; US
Dados da prioridade:
16/109,63122.08.2018US
62/553,35101.09.2017US
Título (EN) TRAINING A LEARNING BASED DEFECT CLASSIFIER
(FR) FORMATION D'UN CLASSIFICATEUR DE DÉFAUTS BASÉ SUR L'APPRENTISSAGE
Resumo:
(EN) Methods and systems for training a learning based defect classifier are provided. One method includes training a learning based defect classifier with a training set of defects that includes identified defects of interest (DOIs) and identified nuisances. The DOIs and nuisances in the training set include DOIs and nuisances identified on at least one training wafer and at least one inspection wafer. The at least one training wafer is known to have an abnormally high defectivity and the at least one inspection wafer is expected to have normal defectivity.
(FR) La présente invention concerne des procédés et des systèmes pour la formation d'un classificateur de défauts basé sur l'apprentissage. Un procédé comprend la formation d'un classificateur de défauts basé sur l'apprentissage avec un ensemble de formation de défauts qui comprend des défauts d'intérêt (DOI) identifiés et des nuisances identifiées. Les DOI et les nuisances dans l'ensemble de formation comprennent des DOI et des nuisances identifiés sur au moins une plaquette de formation et au moins une tranche d'inspection. L'une ou les plaquettes de formation sont connues pour avoir une défectivité anormalement élevée et l'une ou les plaquettes d'inspection sont censées avoir une défectivité normale.
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Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organização Regional Africana da Propriedade Intelectual (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Instituto Eurasiático de Patentes (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Instituto Europeu de Patentes (IEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organização Africana da Propriedade Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Língua de publicação: Inglês (EN)
Língua de depósito: Inglês (EN)