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1. (WO2019044479) FLUORINE-CONTAINING ETHER COMPOUND, FLUORINE-CONTAINING ETHER COMPOSITION, COATING SOLUTION, ARTICLE AND METHOD FOR PRODUCING SAME
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№ de pub.: WO/2019/044479 № do pedido internacional: PCT/JP2018/030223
Data de publicação: 07.03.2019 Data de depósito internacional: 13.08.2018
CIP:
C08G 65/336 (2006.01) ,C09D 171/02 (2006.01) ,C09K 3/18 (2006.01)
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
G
COMPOSTOS MACROMOLECULARES OBTIDOS POR REAÇÕES OUTRAS QUE NÃO ENVOLVENDO LIGAÇÕES INSATURADAS CARBONO-CARBONO
65
Compostos macromoleculares obtidos por reações formando uma ligação éter na cadeia principal da macromolécula
02
a partir de éteres cíclicos por abertura do um anel heterocíclico
32
Polímeros modificados por pós- tratamento químico
329
contendo compostos orgânicos
336
contendo silício
C QUÍMICA; METALURGIA
09
CORANTES; TINTAS; POLIDORES; RESINAS NATURAIS; ADESIVOS; COMPOSIÇÕES NÃO ABRANGIDOS EM OUTROS LOCAIS; APLICAÇÕES DE MATERIAIS NÃO ABRANGIDOS EM OUTROS LOCAIS
D
COMPOSIÇÕES DE REVESTIMENTO, p. ex., TINTAS, VERNIZES OU LACAS; PASTAS DE ENCHIMENTO; REMOVEDORES QUÍMICOS DE TINTAS PARA PINTAR OU IMPRIMIR; TINTAS PARA IMPRIMIR; LÍQUIDOS CORRETIVOS; CORANTES PARA MADEIRA; PASTAS OU SÓLIDOS PARA COLORIR OU IMPRIMIR; USO DE MATERIAIS PARA ESSE FIM
171
Composições de revestimento à base de poliéteres obtidos por reações que formam uma ligação de éter na cadeia principal; Composições de revestimento à base de derivados de tais polímeros
02
Oxidos de polialquileno
C QUÍMICA; METALURGIA
09
CORANTES; TINTAS; POLIDORES; RESINAS NATURAIS; ADESIVOS; COMPOSIÇÕES NÃO ABRANGIDOS EM OUTROS LOCAIS; APLICAÇÕES DE MATERIAIS NÃO ABRANGIDOS EM OUTROS LOCAIS
K
MATERIAIS PARA APLICAÇÕES DIVERSAS, NÃO INCLUÍDAS EM OUTRO LOCAL; APLICAÇÔES DE MATERIAIS NÃO INCLUÍDOS EM OUTRO LOCAL
3
Matérias diversas não incluídas em outro local
18
para aplicação a superfícies para reduzir ao mínimo a aderência de gelo, névoa ou água; Materiais que provocam o degelo ou anticongelantes para aplicação em superfícies
Requerentes:
AGC株式会社 AGC INC. [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内一丁目5番1号 5-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405, JP
Inventores:
宇野 誠人 UNO Makoto; JP
山本 弘賢 YAMAMOTO Hiromasa; JP
星野 泰輝 HOSHINO Taiki; JP
松浦 啓吾 MATSUURA Keigo; JP
安樂 英一郎 ANRAKU Eiichiro; JP
Mandatário:
泉名 謙治 SENMYO Kenji; JP
小川 利春 OGAWA Toshiharu; JP
金 鎭文 KIM Jin-Moon; JP
比企野 健 HIKINO Ken; JP
横井 大一郎 YOKOI Daiichiro; JP
Dados da prioridade:
2017-16799931.08.2017JP
Título (EN) FLUORINE-CONTAINING ETHER COMPOUND, FLUORINE-CONTAINING ETHER COMPOSITION, COATING SOLUTION, ARTICLE AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) COMPOSÉ ÉTHER CONTENANT DU FLUOR, COMPOSITION D'ÉTHER CONTENANT DU FLUOR, SOLUTION DE REVÊTEMENT, ARTICLE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION ASSOCIÉ
(JA) 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品およびその製造方法
Resumo:
(EN) Provided are a fluorine-containing ether compound, a fluorine-containing ether composition, and a coating solution capable of forming a surface layer having excellent initial water and oil repellency, fingerprint removability, abrasion resistance, light resistance, and chemical resistance, as well as an article having the surface layer and a method for producing the same. A fluorine-containing ether compound represented by A-O-(Rf1O)m-Q1(R1)b. Where, A is a C1-20 perfluoroalkyl group, Rf1 is a perfluoroalkylene group, m is an integer of 2-500, (Rf1O)m may comprise Rf1O having two different numbers of carbon atoms, Q1 is a (b + 1)-valent perfluorohydrocarbon group optionally having a hydroxyl group, R1 is a monovalent organic group having at least one hydrolyzable silyl group, b is an integer of 2 or higher, and the b-number of R1 may be the same or different.
(FR) La présente invention concerne un composé éther contenant du fluor, une composition d'éther contenant du fluor, et une solution de revêtement apte à former une couche de surface excellente en termes de propriétés hydrofuges et oléofuges, d'aptitude à l'élimination d'empreintes digitales, de résistance à l'abrasion, de résistance à la lumière et de résistance chimique initiales, ainsi qu'un article comportant ladite couche de surface et un procédé de production associé. Un composé éther contenant du fluor est représenté par A-O-(Rf1O)m-Q1(R1)b. Dans la formule, A est un groupe perfluoroalkyle en C1-20, Rf1 est un groupe perfluoroalkylène, m est un nombre entier compris entre 2 et 500, (Rf1O)m peut comprendre Rf1O ayant deux nombres différents d'atomes de carbone, Q1 est un groupe perfluorohydrocarboné de valence (b + 1) ayant facultativement un groupe hydroxyle, R1 est un groupe organique monovalent ayant au moins un groupe silyle hydrolysable, b est un nombre entier supérieur ou égal à 2, et le nombre b de R1 peut être identique ou différent.
(JA) 初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に優れる表面層を形成できる含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物およびコーティング液、表面層を有する物品およびその製造方法の提供。 A-O-(Rf1O)-Q(Rで表される含フッ素エーテル化合物。ただし、Aは炭素数1~20のペルフルオロアルキル基であり、Rf1はペルフルオロアルキレン基であり、mは2~500の整数であり、(Rf1O)は炭素数の異なる2種以上のRf1Oからなるものであってもよく、Qは水酸基を有していてもよい(b+1)価のペルフルオロ炭化水素基であり、Rは少なくとも1個の加水分解性シリル基を有する1価の有機基であり、bは、2以上の整数であり、b個のRは、同一であっても異なっていてもよい。
Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organização Regional Africana da Propriedade Intelectual (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Instituto Eurasiático de Patentes (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Instituto Europeu de Patentes (IEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organização Africana da Propriedade Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Língua de publicação: Japonês (JA)
Língua de depósito: Japonês (JA)