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1. (WO2019044429) INKJET INK FOR CERAMIC SUBSTRATE
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№ de pub.: WO/2019/044429 № do pedido internacional: PCT/JP2018/029665
Data de publicação: 07.03.2019 Data de depósito internacional: 07.08.2018
CIP:
C09D 11/38 (2014.01) ,B41J 2/01 (2006.01) ,B41M 5/00 (2006.01) ,C04B 41/85 (2006.01) ,C09D 11/322 (2014.01)
[IPC code unknown for C09D 11/38]
B OPERAÇÕES DE PROCESSAMENTO; TRANSPORTE
41
IMPRESSÃO; MÁQUINAS PARA IMPRIMIR LINHAS; MÁQUINAS DE ESCREVER; CARIMBOS
J
MÁQUINAS DE ESCREVER; MECANISMOS DE IMPRESSÃO SELETIVA, i.e. MECANISMOS QUE IMPRIMAM DE OUTRA FORMA QUE NÃO A PARTIR DE UMA FORMA; CORREÇÃO DE ERROS TIPOGRÁFICOS
2
Máquinas de escrever ou mecanismos de impressão seletiva caracterizados pelo processo de impressão ou de marcação para os quais foram projetados
005
caracterizados pela colocação em contato seletivamente de um líquido ou de partículas com um material de impressão
01
Com jato de tinta
B OPERAÇÕES DE PROCESSAMENTO; TRANSPORTE
41
IMPRESSÃO; MÁQUINAS PARA IMPRIMIR LINHAS; MÁQUINAS DE ESCREVER; CARIMBOS
M
PROCESSO DE IMPRESSÃO, DUPLICAÇÃO, MARCAÇÃO OU COPIAGEM; IMPRESSÃO A CORES
5
Métodos de duplicação ou marcação; Materiais em folha paro uso dos mesmos
C QUÍMICA; METALURGIA
04
CIMENTO; CONCRETO; PEDRA ARTIFICIAL; CERÂMICA; REFRATÁRIOS
B
CAL; MAGNÉSIA; ESCÓRIA; CIMENTOS; SUAS COMPOSIÇÕES, p. ex., ARGAMASSA, CONCRETO OU MATERIAIS DE CONSTRUÇÕES SIMILARES; PEDRA ARTIFICIAL; CERÂMICA; REFRATÁRIOS; TRATAMENTO DA PEDRA NATURAL
41
Pós-tratamento de argamassa, concreto, pedra artificial ou cerâmica; Tratamento de pedra natural
80
somente de cerâmica
81
Revestimento ou impregnação
85
com materiais inorgânicos
[IPC code unknown for C09D 11/322]
Requerentes:
株式会社ノリタケカンパニーリミテド NORITAKE CO., LIMITED [JP/JP]; 愛知県名古屋市西区則武新町三丁目1番36号 3-1-36, Noritakeshinmachi, Nishi-ku, Nagoya-shi, Aichi 4518501, JP
Inventores:
林 博道 HAYASHI, Hiromichi; JP
熊澤 知志 KUMAZAWA, Tomoshi; JP
Mandatário:
安部 誠 ABE, Makoto; JP
Dados da prioridade:
2017-16765431.08.2017JP
Título (EN) INKJET INK FOR CERAMIC SUBSTRATE
(FR) ENCRE POUR JET D'ENCRE POUR SUBSTRAT EN CÉRAMIQUE
(JA) セラミックス基材用インクジェットインク
Resumo:
(EN) The present invention provides an inkjet ink for a ceramic substrate with which it is possible to suppress peeling of a printed layer after firing to better fix a desired image on a ceramic substrate. In this inkjet ink for a ceramic substrate, the proportion of monofunctional monomers in a monomer component is 90% by mass or higher, the volume ratio of inorganic solids relative to the total volume of the inkjet ink is 10-20% by volume, and the ratio (N-vinyl compound/monomer component) of an N-vinyl compound and the monomer component in the inkjet ink is 0.05-0.8 in terms of mass.
(FR) La présente invention concerne une encre pour jet d'encre pour un substrat en céramique qui permet de supprimer le pelage d'une couche imprimée après cuisson afin de mieux fixer une image souhaitée sur un substrat en céramique. Dans ladite encre pour jet d'encre pour un substrat céramique, la proportion de monomères monofonctionnels dans un composant monomère est supérieure ou égale à 90 % en masse, le rapport volumique des solides inorganiques par rapport au volume total de l'encre pour jet d'encre est compris entre 10 et 20 % en volume et le rapport (composé N-vinyle/composant monomère) d'un composé N-vinyle et du composant monomère dans l'encre pour jet d'encre est compris entre 0,05 et 0,8 en termes de masse.
(JA) 本発明によって、焼成後における印刷層の剥がれを抑制してセラミックス基材上に所望の画像をより良く定着させ得るセラミックス基材用インクジェットインクが提供される。ここで開示されるセラミックス基材用インクジェットインクは、モノマー成分における一官能モノマーの割合が90質量%以上であり、インクジェットインクの総体積に対する無機固形分の体積比率が10体積%~20体積%であり、インクジェットインクにおけるN‐ビニル化合物およびモノマー成分の含有量の比(N‐ビニル化合物/モノマー成分)が、質量基準で0.05~0.8である。
Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organização Regional Africana da Propriedade Intelectual (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Instituto Eurasiático de Patentes (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Instituto Europeu de Patentes (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organização Africana da Propriedade Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Língua de publicação: japonês (JA)
Língua de depósito: japonês (JA)