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1. (WO2019043773) EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATOR
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№ de pub.: WO/2019/043773 № do pedido internacional: PCT/JP2017/030851
Data de publicação: 07.03.2019 Data de depósito internacional: 29.08.2017
CIP:
G03F 7/20 (2006.01) ,H05G 2/00 (2006.01)
G FÍSICA
03
FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TÉCNICAS SEMELHANTES UTILIZANDO ONDAS OUTRAS QUE NÃO ONDAS ÓPTICAS; ELETROGRAFIA; HOLOGRAFIA
F
PRODUÇÃO FOTOMECÂNICA DE SUPERFÍCIES TEXTURIZADAS OU ESTAMPADAS, p. ex., PARA IMPRESSÃO, PARA PROCESSAMENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUTORES; MATERIAIS PARA AS MESMAS; ORIGINAIS PARA AS MESMAS; APARELHOS ESPECIALMENTE ADAPTADOS PARA ESSE FIM
7
Produção fotomecânica, p. ex., fotolitografia, produção de superfícies texturizadas ou estampadas, p. ex., superfícies para impressão; Materiais para esse fim, p. ex., compreendendo fotoresistes; Aparelhos especialmente adaptados para esse fim
20
Exposição; aparelhos para esse fim
H ELECTRICIDADE
05
TÉCNICAS ELÉTRICAS NÃO INCLUÍDAS EM OUTRO LOCAL
G
TÉCNICA DE RAIOS-X
2
Aparelhos ou processos especialmente adaptados para a produção de raios-X, não usando tubos de raios-X, p. ex., envolvendo a geração de um plasma
Requerentes:
ギガフォトン株式会社 GIGAPHOTON INC. [JP/JP]; 栃木県小山市大字横倉新田400番地 400, Oaza Yokokurashinden, Oyama-shi, Tochigi 3238558, JP
Inventores:
杉澤 克彦 SUGISAWA, Katsuhiko; JP
Mandatário:
松浦 憲三 MATSUURA, Kenzo; JP
Dados da prioridade:
Título (EN) EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATOR
(FR) GÉNÉRATEUR DE LUMIÈRE ULTRAVIOLETTE EXTRÊME
(JA) 極端紫外光生成装置
Resumo:
(EN) [Problem] To enable easy measurement of the film thickness of debris adhered to the surface of a component without the need for the extensive disassembly of the in-chamber component in an extreme ultraviolet light generator. [Solution] An extreme ultraviolet light generator (10) comprises: a chamber (5) for generating extreme ultraviolet light by irradiating a droplet comprising a target material with laser light; an EUV light collector mirror (11) that is an optical element arranged in the chamber (5); and measuring equipment (24, 25) that can move along the surface (11S) of the EUV light collector mirror and measures the film thickness of a target material adhered to the surface (11S).
(FR) L'invention aborde le problème de permettre une mesure aisée de l'épaisseur de film de débris collés à la surface d'un composant sans nécessiter un démontage extensif du composant en chambre dans un générateur de lumière ultraviolette extrême. La solution selon l'invention porte sur un générateur de lumière ultraviolette extrême (10) qui comprend : une chambre (5) pour générer une lumière ultraviolette extrême par irradiation d'une gouttelette comprenant un matériau cible avec une lumière laser ; un miroir collecteur de lumière EUV (11) qui est un élément optique disposé dans la chambre (5) ; et un équipement de mesure (24, 25) qui peut se déplacer le long de la surface (11S) du miroir collecteur de lumière EUV et mesure l'épaisseur de film d'un matériau cible collé à la surface (11S).
(JA) 【課題】極端紫外光生成装置において、大掛かりなチャンバ内部品の取り外しを必要とせずに、部品表面に付着したデブリの膜厚を簡便に測定可能とする。 【解決手段】極端紫外光生成装置(10)は、ターゲット材料からなるドロップレットにレーザ光を照射して極端紫外光を生成するチャンバ(5)と、チャンバ(5)内に配置された光学素子であるEUV光コレクタミラー(11)と、EUV光コレクタミラーの表面(11S)に沿って移動可能であって、この表面(11S)に付着しているターゲット材料の膜厚を測定する測定装置(24、25)とを備える。
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Organização Regional Africana da Propriedade Intelectual (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Instituto Eurasiático de Patentes (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Instituto Europeu de Patentes (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organização Africana da Propriedade Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Língua de publicação: japonês (JA)
Língua de depósito: japonês (JA)