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1. WO2019042682 - APPARATUS FOR AND METHOD CLEANING A SUPPORT INSIDE A LITHOGRAPHY APPARATUS

Número da publicação WO/2019/042682
Data de publicação 07.03.2019
№ do pedido internacional PCT/EP2018/070653
Data do depósito internacional 31.07.2018
CIP
G FÍSICA
03
FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TÉCNICAS SEMELHANTES UTILIZANDO ONDAS OUTRAS QUE NÃO ONDAS ÓPTICAS; ELETROGRAFIA; HOLOGRAFIA
F
PRODUÇÃO FOTOMECÂNICA DE SUPERFÍCIES TEXTURIZADAS OU ESTAMPADAS, p. ex., PARA IMPRESSÃO, PARA PROCESSAMENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUTORES; MATERIAIS PARA AS MESMAS; ORIGINAIS PARA AS MESMAS; APARELHOS ESPECIALMENTE ADAPTADOS PARA ESSE FIM
7
Produção fotomecânica, p. ex., fotolitografia, produção de superfícies texturizadas ou estampadas, p. ex., superfícies para impressão; Materiais para esse fim, p. ex., compreendendo fotoresistes; Aparelhos especialmente adaptados para esse fim
20
Exposição; aparelhos para esse fim
G03F 7/20 (2006.01)
CCP
G03F 7/707
G03F 7/70925
Requerentes
  • ASML HOLDING N.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventores
  • PEREZ-FALCON, Victor, Antonio; US
  • CHIEDA, Michael, Andrew; US
Mandatários
  • SLENDERS, Peter; NL
Dados da prioridade
62/550,78528.08.2017US
Língua de publicação inglês (EN)
Língua do depósito inglês (EN)
Estados designados
Título
(EN) APPARATUS FOR AND METHOD CLEANING A SUPPORT INSIDE A LITHOGRAPHY APPARATUS
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉ DE NETTOYAGE D'UN SUPPORT À L'INTÉRIEUR D'UN APPAREIL LITHOGRAPHIQUE
Resumo
(EN)
Methods and systems are described for cleaning a support such as a clamp of a chuck that holds a patterning device or a wafer in a lithographic apparatus. The method includes loading a electrostatic cleaning substrate into a lithographic apparatus. The electrostatic cleaning substrate includes at least one electrode. The method further includes bringing the electrostatic cleaning substrate near to the clamping surface to be cleaned and connecting the electrode to a voltage source. Particles present on the support are then transferred to the electrostatic cleaning substrate.
(FR)
La présente invention porte sur des procédés et des systèmes de nettoyage d'un support tel qu'une pince d'un mandrin qui maintient un dispositif de modélisation ou une plaquette dans un appareil lithographique. Le procédé comprend le chargement d'un substrat de nettoyage électrostatique dans un appareil lithographique. Le substrat de nettoyage électrostatique comprend au moins une électrode. Le procédé consiste en outre à amener le substrat de nettoyage électrostatique à proximité de la surface de serrage devant être nettoyée et à connecter l'électrode à une source de tension. Les particules présentes sur le support sont ensuite transférées au substrat de nettoyage électrostatique.
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