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1. WO2019042682 - APPARATUS FOR AND METHOD CLEANING A SUPPORT INSIDE A LITHOGRAPHY APPARATUS

Número da publicação WO/2019/042682
Data de publicação 07.03.2019
№ do pedido internacional PCT/EP2018/070653
Data do depósito internacional 31.07.2018
CIP
G03F 7/20 2006.01
GFÍSICA
03FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TÉCNICAS SEMELHANTES UTILIZANDO ONDAS OUTRAS QUE NÃO ONDAS ÓPTICAS; ELETROGRAFIA; HOLOGRAFIA
FPRODUÇÃO FOTOMECÂNICA DE SUPERFÍCIES TEXTURIZADAS OU ESTAMPADAS, p. ex. PARA IMPRESSÃO, PARA PROCESSAMENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUTORES; MATERIAIS PARA AS MESMAS; ORIGINAIS PARA AS MESMAS; APARELHOS ESPECIALMENTE ADAPTADOS PARA ESSE FIM
7Produção fotomecânica, p. ex. fotolitografia, produção de superfícies texturizadas ou estampadas, p. ex. superfícies para impressão; Materiais para esse fim, p. ex. compreendendo fotoresistes; Aparelhos especialmente adaptados para esse fim
20Exposição; aparelhos para esse fim
CCP
G03F 7/707
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70691Handling of masks or wafers
707Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations
G03F 7/70925
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
708Construction of apparatus, e.g. environment, hygiene aspects or materials
70908Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution, removing pollutants from apparatus; electromagnetic and electrostatic-charge pollution
70925Cleaning, i.e. actively freeing apparatus from pollutants
Requerentes
  • ASML HOLDING N.V. [NL]/[NL]
Inventores
  • PEREZ-FALCON, Victor, Antonio
  • CHIEDA, Michael, Andrew
Mandatários
  • SLENDERS, Peter
Dados da prioridade
62/550,78528.08.2017US
Língua de publicação inglês (EN)
Língua do depósito inglês (EN)
Estados designados
Título
(EN) APPARATUS FOR AND METHOD CLEANING A SUPPORT INSIDE A LITHOGRAPHY APPARATUS
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉ DE NETTOYAGE D'UN SUPPORT À L'INTÉRIEUR D'UN APPAREIL LITHOGRAPHIQUE
Resumo
(EN)
Methods and systems are described for cleaning a support such as a clamp of a chuck that holds a patterning device or a wafer in a lithographic apparatus. The method includes loading a electrostatic cleaning substrate into a lithographic apparatus. The electrostatic cleaning substrate includes at least one electrode. The method further includes bringing the electrostatic cleaning substrate near to the clamping surface to be cleaned and connecting the electrode to a voltage source. Particles present on the support are then transferred to the electrostatic cleaning substrate.
(FR)
La présente invention porte sur des procédés et des systèmes de nettoyage d'un support tel qu'une pince d'un mandrin qui maintient un dispositif de modélisation ou une plaquette dans un appareil lithographique. Le procédé comprend le chargement d'un substrat de nettoyage électrostatique dans un appareil lithographique. Le substrat de nettoyage électrostatique comprend au moins une électrode. Le procédé consiste en outre à amener le substrat de nettoyage électrostatique à proximité de la surface de serrage devant être nettoyée et à connecter l'électrode à une source de tension. Les particules présentes sur le support sont ensuite transférées au substrat de nettoyage électrostatique.
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