Pesquisa nas coleções internacionais e nacionais de patentes
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1. (WO2019032753) MATERIALS, COMPONENT, AND METHODS FOR USE WITH EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION IN LITHOGRAPHY AND OTHER APPLICATIONS
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№ de pub.: WO/2019/032753 № do pedido internacional: PCT/US2018/045878
Data de publicação: 14.02.2019 Data de depósito internacional: 08.08.2018
CIP:
G02B 1/10 (2015.01) ,G02B 5/08 (2006.01) ,G03F 1/24 (2012.01)
G FÍSICA
02
ÓPTICA
B
ELEMENTOS, SISTEMAS OU APARELHOS ÓPTICOS
1
Elementos ópticos caracterizados pelo material de que são feitos; Revestimentos ópticos para elementos ópticos
10
Revestimentos ópticos obtidos pela aplicação a, ou por tratamento da superfície de, elementos ópticos
G FÍSICA
02
ÓPTICA
B
ELEMENTOS, SISTEMAS OU APARELHOS ÓPTICOS
5
Elementos ópticos outros que não lentes
08
Espelhos
G FÍSICA
03
FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TÉCNICAS SEMELHANTES UTILIZANDO ONDAS OUTRAS QUE NÃO ONDAS ÓPTICAS; ELETROGRAFIA; HOLOGRAFIA
F
PRODUÇÃO FOTOMECÂNICA DE SUPERFÍCIES TEXTURIZADAS OU ESTAMPADAS, p. ex., PARA IMPRESSÃO, PARA PROCESSAMENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUTORES; MATERIAIS PARA AS MESMAS; ORIGINAIS PARA AS MESMAS; APARELHOS ESPECIALMENTE ADAPTADOS PARA ESSE FIM
1
Originais para produção fotomecânica de superfícies texturizadas ou padronizadas, p. ex., foto-máscaras ou retículas; máscaras virgens ou películas para as mesmas; Recipientes especialmente adaptados para as mesmas; Preparação das mesmas
22
Máscaras ou máscaras virgens para imagem por radiação com comprimentos de onda de 100 nm ou menores, p. ex., máscaras de raios-X, máscaras de ultravioleta extremo [UVE]; Preparação das mesmas
24
Máscaras por reflexão; Preparação das mesmas
Requerentes:
JAISWAL, Supriya [GB/US]; US
Inventores:
JAISWAL, Supriya; US
Mandatário:
KOLEGRAFF, William, J.; US
Dados da prioridade:
62/542,73408.08.2017US
Título (EN) MATERIALS, COMPONENT, AND METHODS FOR USE WITH EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION IN LITHOGRAPHY AND OTHER APPLICATIONS
(FR) MATÉRIAUX, COMPOSANT, ET PROCÉDÉS D'UTILISATION AVEC UN RAYONNEMENT ULTRAVIOLET EXTRÊME EN LITHOGRAPHIE ET DANS D'AUTRES APPLICATIONS
Resumo:
(EN) New classes of materials and associated components for use in devices and systems operating at ultraviolet (UV), extreme ultraviolet (EUV), and/or soft X-ray wavelengths are described. This invention relates to increasing the bandwidth and general performance of EUV reflective and transmissive materials. Such a material structure and combination may be used to make components such as mirrors, lenses or other optics, panels, light sources, photomasks, photoresists, or other components for use in applications such as lithography, wafer patterning, astronomical and space applications, biomedical applications, or other applications.
(FR) L'invention concerne de nouvelles classes de matériaux et des composants associés destinés à être utilisés dans des dispositifs et des systèmes fonctionnant à des longueurs d'ondes de l'ultraviolet (UV), de l'ultraviolet extrême (EUV) et/ou du rayon X doux. La présente invention concerne l'augmentation de la largeur de bande et la performance générale de matériaux réfléchissants et transmissifs de l'ultraviolet extrême EUV. Une telle structure et combinaison de matériaux peut être utilisée pour fabriquer des composants tels que des miroirs, des lentilles ou d'autres éléments optiques, des panneaux, des sources lumineuses, des masques photographiques, des résines photosensibles ou d'autres composants destinés à être utilisés dans des applications telles que la lithographie, le modelage de contours sur plaquettes, des applications astronomiques et spatiales, des applications biomédicales, ou d'autres applications.
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Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organização Regional Africana da Propriedade Intelectual (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Instituto Eurasiático de Patentes (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Instituto Europeu de Patentes (IEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organização Africana da Propriedade Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Língua de publicação: Inglês (EN)
Língua de depósito: Inglês (EN)