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1. (WO2019031609) MANUFACTURING METHOD FOR MODIFIED LIGNIN AND MODIFIED POLYPHENOL, AND MODIFIED LIGNIN-INCLUDING RESIN COMPOSITION MATERIAL
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№ de pub.: WO/2019/031609 № do pedido internacional: PCT/JP2018/030112
Data de publicação: 14.02.2019 Data de depósito internacional: 10.08.2018
CIP:
C07G 1/00 (2011.01) ,C08H 7/00 (2011.01) ,C08K 5/07 (2006.01) ,C08K 5/13 (2006.01) ,C08L 97/00 (2006.01) ,C08L 101/00 (2006.01)
C QUÍMICA; METALURGIA
07
QUÍMICA ORGÂNICA
G
COMPOSTOS DE CONSTITUIÇÃO DESCONHECIDA
1
Derivados de baixo peso molecular de lignina
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
H
DERIVADOS DE COMPOSTOS MACROMOLECULARES NATURAIS
7
Lignina; Lignina modificada; Derivados de alto peso molecular de lignina
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
K
USO DE SUBSTÂNCIAS INORGÂNICAS OU ORGÂNICAS NÃO-MACROMOLECULARES COMO INGREDIENTES DE COMPOSIÇÕES
5
Uso de ingredientes orgânicos
04
Compostos contendo oxigênio
07
Aldeídos; Cetonas
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
K
USO DE SUBSTÂNCIAS INORGÂNICAS OU ORGÂNICAS NÃO-MACROMOLECULARES COMO INGREDIENTES DE COMPOSIÇÕES
5
Uso de ingredientes orgânicos
04
Compostos contendo oxigênio
13
Fenóis; Fenolatos
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
L
COMPOSIÇÕES DE COMPOSTOS MACROMOLECULARES
97
Composições de matérias contendo lignina
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
L
COMPOSIÇÕES DE COMPOSTOS MACROMOLECULARES
101
Composições de compostos macromoleculares não especificados
Requerentes:
出光興産株式会社 IDEMITSU KOSAN CO.,LTD. [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内三丁目1番1号 1-1, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008321, JP
Inventores:
田代 裕統 TASHIRO, Hironori; JP
小山 啓人 KOYAMA, Yoshihito; JP
Mandatário:
平澤 賢一 HIRASAWA, Kenichi; JP
滝沢 喜夫 TAKIZAWA, Yoshio; JP
大谷 保 OHTANI, Tamotsu; JP
Dados da prioridade:
2017-15618610.08.2017JP
Título (EN) MANUFACTURING METHOD FOR MODIFIED LIGNIN AND MODIFIED POLYPHENOL, AND MODIFIED LIGNIN-INCLUDING RESIN COMPOSITION MATERIAL
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE LIGNINE MODIFIÉE ET POLYPHÉNOL MODIFIÉ, ET MATÉRIAU DE COMPOSITION DE RÉSINE CONTENANT DE LA LIGNINE MODIFIÉE
(JA) 改質リグニン及び改質ポリフェノールの製造方法、並びに改質リグニンを用いた樹脂組成材料
Resumo:
(EN) A manufacturing method for a modified lignin and a modified polyphenol, and a modified lignin-including resin composition material, wherein the ratio [(2H+G)/S] of the sum of two times the relative abundance H (%) of an H-type skeleton and the relative abundance G (%) of a G-type skeleton to the relative abundance S (%) of an S-type skeleton, as calculated from integrated values measured by 31P-NMR, is 2.5 or greater, and the abundance of an aliphatic hydroxyl group as measured by the same technique is less than 20%.
(FR) L'invention concerne un procédé de fabrication d'une lignine modifiée et d'un polyphénol modifié, et un matériau de composition de résine contenant de la lignine modifiée, le rapport [(2H +G)/S] de la somme de deux fois l'abondance relative H (%) d'un squelette de type H et l'abondance relative G (%) d'un squelette de type G à l'abondance relative S (%) d'un squelette de type S, telle que calculée à partir de valeurs intégrées mesurées par RMN-331P est de 2,5 ou plus, et l'abondance d'un groupe hydroxyle aliphatique telle que mesurée par la même technique est inférieure à 20 %.
(JA) 31P-NMRで測定される積分値から求めたS型骨格の相対存在率S(%)に対するH型骨格の相対存在率H(%)の2倍及びG型骨格の相対存在率G(%)の合計の比[(2H+G)/S]が2.5以上であり、同手法にて測定される脂肪族水酸基の存在率が20%未満である改質リグニン及び改質ポリフェノールの製造方法、並びに改質リグニン含有樹脂組成材料である。
Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organização Regional Africana da Propriedade Intelectual (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Instituto Eurasiático de Patentes (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Instituto Europeu de Patentes (IEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organização Africana da Propriedade Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Língua de publicação: Japonês (JA)
Língua de depósito: Japonês (JA)