Pesquisa nas coleções internacionais e nacionais de patentes
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1. (WO2019031559) PLANT CULTIVATION METHOD AND PLANT CULTIVATION DEVICE
Dados bibliográficos mais recentes no arquivo da Secretaria InternacionalSubmeter observação

№ de pub.: WO/2019/031559 № do pedido internacional: PCT/JP2018/029818
Data de publicação: 14.02.2019 Data de depósito internacional: 08.08.2018
CIP:
A01G 7/00 (2006.01) ,A01G 9/20 (2006.01) ,A01G 31/00 (2018.01)
A NECESSIDADES HUMANAS
01
AGRICULTURA; SILVICULTURA; PECUÁRIA; CAÇA; CAPTURA EM ARMADILHAS; PESCA
G
HORTICULTURA; CULTIVO DE VEGETAIS, FLORES, ARROZ, FRUTAS, VINHAS, LÚPULOS OU ALGAS; SILVICULTURA; IRRIGAÇÃO
7
Botânica em geral
A NECESSIDADES HUMANAS
01
AGRICULTURA; SILVICULTURA; PECUÁRIA; CAÇA; CAPTURA EM ARMADILHAS; PESCA
G
HORTICULTURA; CULTIVO DE VEGETAIS, FLORES, ARROZ, FRUTAS, VINHAS, LÚPULOS OU ALGAS; SILVICULTURA; IRRIGAÇÃO
9
Cultivo de flores, legumes ou arroz em receptáculos, estufas, para amadurecimento forçado ou em estufas comuns
20
Estufas para amadurecimento artificial; Iluminação
A NECESSIDADES HUMANAS
01
AGRICULTURA; SILVICULTURA; PECUÁRIA; CAÇA; CAPTURA EM ARMADILHAS; PESCA
G
HORTICULTURA; CULTIVO DE VEGETAIS, FLORES, ARROZ, FRUTAS, VINHAS, LÚPULOS OU ALGAS; SILVICULTURA; IRRIGAÇÃO
31
Hidropônica; Cultivo sem auxílio do solo
Requerentes:
AGCグリーンテック株式会社 AGC GREEN-TECH CO., LTD. [JP/JP]; 東京都千代田区岩本町三丁目10番4号 寿ビルディング4階 Kotobuki Bld. 4F, 10-4, Iwamoto-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010032, JP
Inventores:
梶山 博司 KAJIYAMA Hiroshi; JP
Mandatário:
特許業務法人栄光特許事務所 EIKOH PATENT FIRM, P.C.; 東京都港区西新橋一丁目7番13号 虎ノ門イーストビルディング10階 Toranomon East Bldg. 10F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003, JP
Dados da prioridade:
2017-15354408.08.2017JP
Título (EN) PLANT CULTIVATION METHOD AND PLANT CULTIVATION DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE CULTURE DE PLANTE ET DISPOSITIF DE CULTURE DE PLANTE
(JA) 植物栽培方法、及び植物栽培装置
Resumo:
(EN) The present invention configures an alternating dark period and a light period during the rest period of a plant. During the dark period, the intensity of light emitted at a plant being cultivated is less than the light intensity at the compensation point. During the light period, blue light of a wavelength of 400-500 nm having a lower light intensity than the light intensity at the compensation point is emitted. The time T of each cycle of repetition of the dark period and light period is 2-500 µs. The duty cycle (∆T/T) of the time ∆T of the light period to the time T of each cycle of repetition is not more than 20%. The photosynthetic photon flux density of the blue light is 0.001-4.0 µmol·m-2s-1.
(FR) La présente invention configure une période d'obscurité et une période lumineuse alternées pendant la période de repos d'une plante. Pendant la période d'obscurité, l'intensité de la lumière émise au niveau d'une plante en cours de culture est inférieure à l'intensité lumineuse au point de compensation. Pendant la période lumineuse, une lumière bleue d'une longueur d'onde de 400 à 500 nm ayant une intensité lumineuse inférieure à l'intensité lumineuse au point de compensation est émise. Le temps T de chaque cycle de répétition de la période d'obscurité et de la période lumineuse est de 2 à 500 µs. Le rapport cyclique (∆T/T) du temps ∆T de la période lumineuse au temps T de chaque cycle de répétition n'est pas supérieur à 20 %.La densité de flux photonique photosynthétique de la lumière bleue est de 0,001 à 4,0 µmole·m-2s-1.
(JA) 植物の休息期間で暗期間と明期間とを交互に設ける。暗期間では、栽培対象の前記植物に照射される光の光強度が光補償点の光強度よりも小さい。明期間では、波長400nm以上500nm以下の青色光を、光補償点の光強度よりも小さくして照射する。暗期間と明期間との繰り返しの1周期の時間Tを2μs以上500μs以下にする。繰り返しの1周期の時間Tに対する明期間の時間ΔTのデューティ比(ΔT/T)を20%以下にする。青色光の光合成光量子束密度を、0.001μmol・m-2-1以上4.0μmol・m-2-1以下にする。
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Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organização Regional Africana da Propriedade Intelectual (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Instituto Eurasiático de Patentes (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Instituto Europeu de Patentes (IEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organização Africana da Propriedade Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Língua de publicação: Japonês (JA)
Língua de depósito: Japonês (JA)