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1. (WO2019031263) GAS BARRIER LAMINATE
Dados bibliográficos mais recentes no arquivo da Secretaria InternacionalSubmeter observação

№ de pub.: WO/2019/031263 № do pedido internacional: PCT/JP2018/028077
Data de publicação: 14.02.2019 Data de depósito internacional: 26.07.2018
CIP:
B32B 9/00 (2006.01) ,C23C 14/08 (2006.01)
B OPERAÇÕES DE PROCESSAMENTO; TRANSPORTE
32
PRODUTOS EM CAMADAS
B
PRODUTOS EM CAMADAS, i.e., PRODUTOS ESTRUTURADOS COM CAMADAS DE FORMA PLANA OU NÃO PLANA, p. ex., EM FORMA CELULAR OU ALVEOLAR
9
Produtos em camadas que compreendam essencialmente uma substância em particular, não abrangida pelos gruposB32B11/-B32B29/158
C QUÍMICA; METALURGIA
23
REVESTIMENTO DE MATERIAIS METÁLICOS; REVESTIMENTO DE MATERIAIS COM MATERIAIS METÁLICOS; TRATAMENTO QUÍMICO DE SUPERFÍCIES; TRATAMENTO DE DIFUSÃO DE MATERIAIS METÁLICOS; REVESTIMENTO POR EVAPORAÇÃO A VÁCUO, POR PULVERIZAÇÃO CATÓDICA, POR IMPLANTAÇÃO DE ÍONS OU POR DEPOSIÇÃO QUÍMICA EM FASE DE VAPOR, EM GERAL; INIBIÇÃO DA CORROSÃO DE MATERIAIS METÁLICOS OU INCRUSTAÇÃO EM GERAL
C
REVESTIMENTO DE MATERIAIS METÁLICOS; REVESTIMENTO DE MATERIAIS COM MATERIAIS METÁLICOS; TRATAMENTO DA SUPERFÍCIE DE MATERIAIS METÁLICOS POR DIFUSÃO, POR CONVERSÃO QUÍMICA OU SUBSTITUIÇÃO; REVESTIMENTO POR EVAPORAÇÃO A VÁCUO, POR PULVERIZAÇÃO CATÓDICA, POR IMPLANTAÇÃO DE IONS OU POR DEPOSIÇÃO QUÍMICA EM FASE DE VAPOR, EM GERAL
14
Revestimento por evaporação a vácuo, por pulverização catódica ou por implantação de ions do material
06
caracterizado pelo material de revestimento
08
Óxidos
Requerentes:
東洋紡株式会社 TOYOBO CO., LTD. [JP/JP]; 大阪府大阪市北区堂島浜二丁目2番8号 2-8, Dojima Hama 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5308230, JP
Inventores:
柏 充裕 KASHIWA, Mitsuhiro; JP
沼田 幸裕 NUMATA, Hiroyuki; JP
伊関 清司 ISEKI, Kiyoshi; JP
Dados da prioridade:
2017-15505910.08.2017JP
Título (EN) GAS BARRIER LAMINATE
(FR) STRATIFIÉ DOTÉ DE PROPRIÉTÉS BARRIÈRE AU GAZ
(JA) ガスバリア性積層体
Resumo:
(EN) The problem addressed by the present invention is to provide a gas barrier film with excellent acid resistance, transparency, and gas barrier properties. This gas barrier laminate is formed by laminating an inorganic thin-film layer on at least one surface of a polymer substrate. Said inorganic thin-film layer primarily contains Al and Si, and after treatment involving immersion in a 1 mol/L hydrochloric acid aqueous solution for one hour, the ratio of Al content before and after said treatment satisfies the expression (Al content after treatment)/(Al content before treatment) × 100 ≥ 75.
(FR) L'invention a pour objet de fournir un film barrière au gaz doté d'excellentes propriétés de résistance à l'acide, de transparence et de barrière au gaz. Plus précisément, l'invention concerne un stratifié doté de propriétés barrière au gaz tel qu'une couche mince inorganique est stratifiée sur au moins une face d'un matériau de base macromoléculaire. Cette couche mince inorganique contient essentiellement un Al et un Si, et présente un rapport de teneur en Al avant et après traitement satisfaisant la formule (teneur en Al après traitement) / (teneur en Al avant traitement)×100 ≧75, lorsque est effectué un traitement d'immersion pendant une heure dans une solution aqueuse d'acide chlorhydrique à 1mol/L.
(JA) 発明が解決しようとする課題は、耐酸性、透明性、ガスバリア性に優れたガスバリアフィルムを提供することである。 本発明のガスバリア性積層体は、高分子基材の少なくとも一方の面に無機薄膜層を積層した積層体であり、該無機薄膜層は、主としてAlとSiを含み、かつ1mol/Lの塩酸水溶液に1時間浸漬する処理を行った時の、処理前後のAl含有量の比が(処理後のAl含有量)/(処理前のAl含有量)×100 ≧75の式を満たす。
Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organização Regional Africana da Propriedade Intelectual (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Instituto Eurasiático de Patentes (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Instituto Europeu de Patentes (IEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organização Africana da Propriedade Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Língua de publicação: Japonês (JA)
Língua de depósito: Japonês (JA)