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1. (WO2019028324) POLISHING PAD WITH WINDOW AND MANUFACTURING METHODS THEREOF
Dados bibliográficos mais recentes no arquivo da Secretaria InternacionalSubmeter observação

№ de pub.: WO/2019/028324 № do pedido internacional: PCT/US2018/045122
Data de publicação: 07.02.2019 Data de depósito internacional: 03.08.2018
CIP:
B24B 37/013 (2012.01) ,B24B 37/20 (2012.01) ,B24B 37/24 (2012.01)
B OPERAÇÕES DE PROCESSAMENTO; TRANSPORTE
24
ESMERILHAMENTO; POLIMENTO
B
MÁQUINAS, DISPOSITIVOS OU PROCESSOS DE ESMERILHAMENTO OU POLIMENTO; RETIFICAÇÃO OU RESTAURAÇÃO DE SUPERFÍCIES ABRASIVAS; ALIMENTAÇÃO OU APLICAÇÃO DE MATERIAL DE ESMERILHAMENTO E POLIMENTO OU AGENTES ABRASIVOS
37
Máquinas ou dispositivos de polimento; Acessórios
005
Meios de controle para máquinas ou dispositivos de polimento
013
Dispositivos ou meios para detectar o término do polimento
B OPERAÇÕES DE PROCESSAMENTO; TRANSPORTE
24
ESMERILHAMENTO; POLIMENTO
B
MÁQUINAS, DISPOSITIVOS OU PROCESSOS DE ESMERILHAMENTO OU POLIMENTO; RETIFICAÇÃO OU RESTAURAÇÃO DE SUPERFÍCIES ABRASIVAS; ALIMENTAÇÃO OU APLICAÇÃO DE MATERIAL DE ESMERILHAMENTO E POLIMENTO OU AGENTES ABRASIVOS
37
Máquinas ou dispositivos de polimento; Acessórios
11
Ferrramentas para polir
20
Discos de polimento para trabalhar superfícies planas
B OPERAÇÕES DE PROCESSAMENTO; TRANSPORTE
24
ESMERILHAMENTO; POLIMENTO
B
MÁQUINAS, DISPOSITIVOS OU PROCESSOS DE ESMERILHAMENTO OU POLIMENTO; RETIFICAÇÃO OU RESTAURAÇÃO DE SUPERFÍCIES ABRASIVAS; ALIMENTAÇÃO OU APLICAÇÃO DE MATERIAL DE ESMERILHAMENTO E POLIMENTO OU AGENTES ABRASIVOS
37
Máquinas ou dispositivos de polimento; Acessórios
11
Ferrramentas para polir
20
Discos de polimento para trabalhar superfícies planas
24
caracterizados pela composição ou propriedades dos materiais dos discos
Requerentes:
APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054, US
Inventores:
FU, Boyi; US
GANAPATHIAPPAN, Sivapackia; US
REDFIELD, Daniel; US
BAJAJ, Rajeev; US
CHOCKALINGAM, Ashwin; US
BENVEGNU, Dominic J.; US
CORNEJO, Mario Dagio; US
YAMAMURA, Mayu; US
PATIBANDLA, Nag B.; US
VORA, Ankit; US
Mandatário:
PATTERSON, B. Todd; US
STEVENS, Joseph J.; US
Dados da prioridade:
62/541,49704.08.2017US
62/562,23722.09.2017US
Título (EN) POLISHING PAD WITH WINDOW AND MANUFACTURING METHODS THEREOF
(FR) TAMPON À POLIR DOTÉ D’UNE FENÊTRE ET SES PROCÉDÉS DE FABRICATION
Resumo:
(EN) Embodiments of the present disclosure provide for polishing pads that include at least one endpoint detection (EPD) window disposed through the polishing pad material, and methods of forming thereof. In one embodiment a method of forming a polishing pad includes forming a first layer of the polishing pad by dispensing a first precursor composition and a window precursor composition, the first layer comprising at least portions of each of a first polishing pad element and a window feature, and partially curing the dispensed first precursor composition and the dispensed window precursor composition disposed within the first layer.
(FR) La présente invention concerne, selon certains modes de réalisation, des tampons à polir qui comprennent au moins une fenêtre de détection de point d'extrémité (EPD) disposée dans le matériau de tampon à polir, et leurs procédés de formation. Selon un mode de réalisation, un procédé de formation d'un tampon à polir consiste à former une première couche du tampon à polir par distribution d'une première composition de précurseur et d'une composition de précurseur de fenêtre, la première couche comprenant au moins des parties d'un premier organe de tampon à polir et d'un élément fenêtre, et à durcir partiellement la première composition de précurseur distribuée et la composition de précurseur de fenêtre distribuée disposées dans la première couche.
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Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organização Regional Africana da Propriedade Intelectual (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Instituto Eurasiático de Patentes (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Instituto Europeu de Patentes (IEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organização Africana da Propriedade Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Língua de publicação: Inglês (EN)
Língua de depósito: Inglês (EN)