Algum conteúdo deste aplicativo está indisponível no momento.
Se esta situação persistir, por favor entre em contato conoscoFale conosco & Contato
1. (WO2019006409) 3D PRINTED COMPOSITES FROM A SINGLE RESIN BY PATTERNED LIGHT EXPOSURES
Dados bibliográficos mais recentes no arquivo da Secretaria Internacional    Submeter observação

№ de pub.: WO/2019/006409 № do pedido internacional: PCT/US2018/040467
Data de publicação: 03.01.2019 Data de depósito internacional: 29.06.2018
CIP:
C08F 2/48 (2006.01) ,B33Y 10/00 (2015.01) ,B33Y 70/00 (2015.01) ,B33Y 80/00 (2015.01) ,C08F 2/44 (2006.01) ,C08F 218/04 (2006.01) ,C08F 220/00 (2006.01) ,C08F 220/18 (2006.01)
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
F
COMPOSTOS MACROMOLECULARES OBTIDOS POR REAÇÕES COMPREENDENDO APENAS LIGAÇÕES INSATURADAS CARBONO-CARBONO
2
Processos de polimerização
46
Polimerização iniciada por energia de ondas ou por irradiação de partículas
48
pela luz ultravioleta ou visível
[IPC code unknown for B33Y 10][IPC code unknown for B33Y 70][IPC code unknown for B33Y 80]
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
F
COMPOSTOS MACROMOLECULARES OBTIDOS POR REAÇÕES COMPREENDENDO APENAS LIGAÇÕES INSATURADAS CARBONO-CARBONO
2
Processos de polimerização
44
Polimerização na presença de compostos ingredientes p. ex., plastificantes, matérias corantes, enchimentos
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
F
COMPOSTOS MACROMOLECULARES OBTIDOS POR REAÇÕES COMPREENDENDO APENAS LIGAÇÕES INSATURADAS CARBONO-CARBONO
218
Copolímeros tendo um ou mais radicais alifáticos insaturados, tendo cada qual apenas uma ligação dupla carbono-carbono, e sendo pelo menos um terminado por um radical aciloxi de um ácido carboxílico saturado, de ácido carbônico ou de um ácido halofórmico
02
Ésteres de ácidos monocarboxílicos
04
Ésteres vinílicos
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
F
COMPOSTOS MACROMOLECULARES OBTIDOS POR REAÇÕES COMPREENDENDO APENAS LIGAÇÕES INSATURADAS CARBONO-CARBONO
220
Copolímeros de compostos tendo um ou mais radicais alifáticos insaturados, tendo cada qual apenas uma ligação dupla carbono-carbono, e sendo apenas um terminado por um único radical carboxila ou um sal, anidrido, éster, amida, imida ou nitrila do mesmo
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
F
COMPOSTOS MACROMOLECULARES OBTIDOS POR REAÇÕES COMPREENDENDO APENAS LIGAÇÕES INSATURADAS CARBONO-CARBONO
220
Copolímeros de compostos tendo um ou mais radicais alifáticos insaturados, tendo cada qual apenas uma ligação dupla carbono-carbono, e sendo apenas um terminado por um único radical carboxila ou um sal, anidrido, éster, amida, imida ou nitrila do mesmo
02
Ácidos monocarboxílicos tendo menos de dez átomos de carbono; Seus derivados
10
Ésteres
12
de álcoois ou fenóis monoídricos
16
de fenóis ou de álcoois contendo dois ou mais átomos de carbono
18
com ácido acrílico ou metacrílico
Requerentes:
ALIGN TECHNOLOGY, INC. [US/US]; 2820 Orchard Parkway San Jose, California 95134, US
Inventores:
COLE, Michael Christopher; US
Mandatário:
MEDLEY, Patrick M.; US
HARWOOD, Melissa M.; US
HAGADORN, Charles C.; US
POTTER, Garrett T.; US
Dados da prioridade:
62/527,74930.06.2017US
Título (EN) 3D PRINTED COMPOSITES FROM A SINGLE RESIN BY PATTERNED LIGHT EXPOSURES
(FR) COMPOSITES IMPRIMÉS EN 3D À PARTIR D'UNE SEULE RÉSINE PAR EXPOSITION À LA LUMIÈRE CONFIGURÉE
Resumo:
(EN) Provided herein are processes for the generation of composite polymer materials utilizing a single resin. The processes utilize diffusion between a region undergoing a polymerization reaction preferentially polymerizing one monomer component and an unreactive region. Diffusion and subsequent/concurrent polymerization results in a higher concentration of the more reactive monomer component in the reacting region and a higher concentration of the less reactive monomer components in the unreactive region. The unreactive region may be later polymerized. In embodiments, photopolymerization is used and the regions are generated by a mask or other mechanism to pattern the light.
(FR) La présente invention concerne des procédés de génération de matériaux polymères composites à l'aide d'une seule résine. Les procédés utilisent la diffusion entre une région subissant une réaction de polymérisation polymérisant préférentiellement un constituant monomère et une région non réactive. La diffusion et la polymérisation subséquente/simultanée conduisent à une concentration plus élevée en constituant monomère plus réactif dans la région de réaction et à une concentration plus élevée en constituants monomères moins réactifs dans la région non réactive. La région non réactive peut être polymérisée ultérieurement. Dans des modes de réalisation, la photopolymérisation est utilisée et les régions sont générées par un masque ou un autre mécanisme pour configurer la lumière.
Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organização Regional Africana da Propriedade Intelectual (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Instituto Eurasiático de Patentes (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Instituto Europeu de Patentes (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organização Africana da Propriedade Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Língua de publicação: inglês (EN)
Língua de depósito: inglês (EN)