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1. (WO2019002014) DEVICE FOR TRANSPORTING A SUBSTRATE, TREATMENT DEVICE WITH A RECEIVING PLATE ADAPTED TO A SUBSTRATE CARRIER OF A DEVICE OF THIS KIND, AND METHOD FOR PROCESSING A SUBSTRATE USING A DEVICE OF THIS KIND FOR THE TRANSPORT OF A SUBSTRATE, AND TREATMENT FACILITY
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№ de pub.: WO/2019/002014 № do pedido internacional: PCT/EP2018/066192
Data de publicação: 03.01.2019 Data de depósito internacional: 19.06.2018
CIP:
H01L 21/673 (2006.01) ,H01L 21/687 (2006.01) ,H01L 21/67 (2006.01) ,C23C 16/509 (2006.01) ,C23C 16/458 (2006.01) ,H01J 37/32 (2006.01)
H ELECTRICIDADE
01
ELEMENTOS ELÉTRICOS BÁSICOS
L
DISPOSITIVOS SEMICONDUTORES; DISPOSITIVOS ELÉTRICOS DE ESTADO SÓLIDO NÃO INCLUÍDOS EM OUTRO LOCAL
21
Processos ou aparelhos especialmente adaptados para a manufatura ou tratamento dos dispositivos semicondutores ou de dispositivos de estado sólido ou de partes dos mesmos
67
Aparelhos especialmente adaptados para manipulação de dispositivos semicondutores ou de dispositivos elétricos de estado sólido durante a fabricação ou tratamento dos mesmos; Aparelhos especialmente adaptados para manipulação de pastilhas ("wafers") durante a fabricação ou tratamento de dispositivos semicondutores ou dispositivos elétricos de estado sólido ou componentes
673
usando transportadores especialmente adaptados
H ELECTRICIDADE
01
ELEMENTOS ELÉTRICOS BÁSICOS
L
DISPOSITIVOS SEMICONDUTORES; DISPOSITIVOS ELÉTRICOS DE ESTADO SÓLIDO NÃO INCLUÍDOS EM OUTRO LOCAL
21
Processos ou aparelhos especialmente adaptados para a manufatura ou tratamento dos dispositivos semicondutores ou de dispositivos de estado sólido ou de partes dos mesmos
67
Aparelhos especialmente adaptados para manipulação de dispositivos semicondutores ou de dispositivos elétricos de estado sólido durante a fabricação ou tratamento dos mesmos; Aparelhos especialmente adaptados para manipulação de pastilhas ("wafers") durante a fabricação ou tratamento de dispositivos semicondutores ou dispositivos elétricos de estado sólido ou componentes
683
para sustentação ou aderência
687
usando meios mecânicos, p. ex.,mandril, grampos ou pinças
H ELECTRICIDADE
01
ELEMENTOS ELÉTRICOS BÁSICOS
L
DISPOSITIVOS SEMICONDUTORES; DISPOSITIVOS ELÉTRICOS DE ESTADO SÓLIDO NÃO INCLUÍDOS EM OUTRO LOCAL
21
Processos ou aparelhos especialmente adaptados para a manufatura ou tratamento dos dispositivos semicondutores ou de dispositivos de estado sólido ou de partes dos mesmos
67
Aparelhos especialmente adaptados para manipulação de dispositivos semicondutores ou de dispositivos elétricos de estado sólido durante a fabricação ou tratamento dos mesmos; Aparelhos especialmente adaptados para manipulação de pastilhas ("wafers") durante a fabricação ou tratamento de dispositivos semicondutores ou dispositivos elétricos de estado sólido ou componentes
C QUÍMICA; METALURGIA
23
REVESTIMENTO DE MATERIAIS METÁLICOS; REVESTIMENTO DE MATERIAIS COM MATERIAIS METÁLICOS; TRATAMENTO QUÍMICO DE SUPERFÍCIES; TRATAMENTO DE DIFUSÃO DE MATERIAIS METÁLICOS; REVESTIMENTO POR EVAPORAÇÃO A VÁCUO, POR PULVERIZAÇÃO CATÓDICA, POR IMPLANTAÇÃO DE ÍONS OU POR DEPOSIÇÃO QUÍMICA EM FASE DE VAPOR, EM GERAL; INIBIÇÃO DA CORROSÃO DE MATERIAIS METÁLICOS OU INCRUSTAÇÃO EM GERAL
C
REVESTIMENTO DE MATERIAIS METÁLICOS; REVESTIMENTO DE MATERIAIS COM MATERIAIS METÁLICOS; TRATAMENTO DA SUPERFÍCIE DE MATERIAIS METÁLICOS POR DIFUSÃO, POR CONVERSÃO QUÍMICA OU SUBSTITUIÇÃO; REVESTIMENTO POR EVAPORAÇÃO A VÁCUO, POR PULVERIZAÇÃO CATÓDICA, POR IMPLANTAÇÃO DE IONS OU POR DEPOSIÇÃO QUÍMICA EM FASE DE VAPOR, EM GERAL
16
Revestimento químico por decomposição de compostos gasosos, sem deixar produtos reacionais do material da superfície no revestimento, i.e., processo de deposição química em fase de vapor (CVD)
44
caracterizado pelo método de revestimento
50
usando descargas elétricas
505
usando descargas de radiofrequência
509
usando eletrodos internos
C QUÍMICA; METALURGIA
23
REVESTIMENTO DE MATERIAIS METÁLICOS; REVESTIMENTO DE MATERIAIS COM MATERIAIS METÁLICOS; TRATAMENTO QUÍMICO DE SUPERFÍCIES; TRATAMENTO DE DIFUSÃO DE MATERIAIS METÁLICOS; REVESTIMENTO POR EVAPORAÇÃO A VÁCUO, POR PULVERIZAÇÃO CATÓDICA, POR IMPLANTAÇÃO DE ÍONS OU POR DEPOSIÇÃO QUÍMICA EM FASE DE VAPOR, EM GERAL; INIBIÇÃO DA CORROSÃO DE MATERIAIS METÁLICOS OU INCRUSTAÇÃO EM GERAL
C
REVESTIMENTO DE MATERIAIS METÁLICOS; REVESTIMENTO DE MATERIAIS COM MATERIAIS METÁLICOS; TRATAMENTO DA SUPERFÍCIE DE MATERIAIS METÁLICOS POR DIFUSÃO, POR CONVERSÃO QUÍMICA OU SUBSTITUIÇÃO; REVESTIMENTO POR EVAPORAÇÃO A VÁCUO, POR PULVERIZAÇÃO CATÓDICA, POR IMPLANTAÇÃO DE IONS OU POR DEPOSIÇÃO QUÍMICA EM FASE DE VAPOR, EM GERAL
16
Revestimento químico por decomposição de compostos gasosos, sem deixar produtos reacionais do material da superfície no revestimento, i.e., processo de deposição química em fase de vapor (CVD)
44
caracterizado pelo método de revestimento
458
caracterizados pelo método utilizado para suportar os substratos na câmara de reação
H ELECTRICIDADE
01
ELEMENTOS ELÉTRICOS BÁSICOS
J
VÁLVULAS DE DESCARGA ELÉTRICA OU LÂMPADAS DE DESCARGA
37
Válvulas de descarga com meios para introduzir objetos ou materiais a serem expostos à descarga, p. ex., para fins de exame ou processamento dos mesmos
32
Válvulas de descarga de enchimento gasoso
Requerentes:
MEYER BURGER (GERMANY) GMBH [DE/DE]; An der Baumschule 6 - 8 09337 Hohenstein-Ernstthal, DE
Inventores:
SCHLEMM, Hermann; DE
KEHR, Mirko; DE
ANSORGE, Erik; DE
RASCHKE, Sebastian; DE
Mandatário:
KAILUWEIT & UHLEMANN PATENTANWÄLTE PARTNERSCHAFT MBB; Bamberger Straße 49 01187 Dresden, DE
Dados da prioridade:
17178276.628.06.2017EP
Título (EN) DEVICE FOR TRANSPORTING A SUBSTRATE, TREATMENT DEVICE WITH A RECEIVING PLATE ADAPTED TO A SUBSTRATE CARRIER OF A DEVICE OF THIS KIND, AND METHOD FOR PROCESSING A SUBSTRATE USING A DEVICE OF THIS KIND FOR THE TRANSPORT OF A SUBSTRATE, AND TREATMENT FACILITY
(FR) DISPOSITIF DE TRANSPORT D'UN SUBSTRAT, DISPOSITIF DE TRAITEMENT DOTÉ D'UNE PLAQUE DE RÉCEPTION ADAPTÉE À UN SUPPORT DE SUBSTRAT D'UN TEL DISPOSITIF, PROCÉDÉ DE TRAITEMENT D'UN SUBSTRAT À L'AIDE D'UN TEL DISPOSITIF DE TRANSPORT D'UN SUBSTRAT AINSI QU'INSTALLATION DE TRAITEMENT
(DE) VORRICHTUNG ZUM TRANSPORT EINES SUBSTRATS, BEHANDLUNGSVORRICHTUNG MIT EINER AN EINEN SUBSTRATTRÄGER EINER SOLCHEN VORRICHTUNG ANGEPASSTEN AUFNAHMEPLATTE UND VERFAHREN ZUM PROZESSIEREN EINES SUBSTRATES UNTER NUTZUNG EINER SOLCHEN VORRICHTUNG ZUM TRANSPORT EINES SUBSTRATS SOWIE BEHANDLUNGSANLAGE
Resumo:
(EN) The invention relates to a device for transporting a substrate into or away from a treatment device, a treatment device, a method for processing a substrate and a treatment facility with a movement arrangement for moving a device of this kind for transporting a substrate. The device for transporting a substrate comprises a substrate carrier which contains a horizontally extending retaining surface and one or more grippers. The retaining surface is even and uniform on a first surface facing the substrate and the form thereof substantially corresponds to the form of the substrate. The surface thereof is substantially the same as the surface of the substrate, wherein the substrate is retained by its rear side on the retaining surface only by its weight. The treatment device has a receiving plate on which the substrate is retained during the treatment, wherein the receiving plate has a depression in a first surface which is suitable for accommodating a substrate carrier of this kind during treatment of the substrate.
(FR) L'invention concerne un dispositif de transport d'un substrat dans un dispositif de traitement vers ou à partir dudit dispositif de traitement, un procédé de traitement d'un substrat et une installation de traitement dotée d'un ensemble de déplacement destiné à déplacer un tel dispositif de transport d'un substrat. Selon l'invention, le dispositif de transport d'un substrat comporte un support de substrat, qui comprend une surface de retenue s'étendant horizontalement et un ou une pluralité de bras de préhension. La surface de retenue est formée plane et uniforme sur une première surface supérieure tournée vers le substrat, dont la forme correspond sensiblement à la forme du substrat et dont la surface est sensiblement égale à la surface du substrat, le substrat étant maintenu seulement à l'aide de son poids par sa face arrière sur la surface de retenue. Le dispositif de traitement comporte une plaque de réception sur laquelle le substrat est maintenu lors du traitement, la plaque de réception comportant, dans une première surface, un évidement, qui est conçu pour recevoir un tel support de substrat lors du traitement du substrat.
(DE) Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Transport eines Substrates in eine Behandlungsvorrichtung hinein oder aus dieser heraus, eine Behandlungsvorrichtung, ein Verfahren zum Prozessieren eines Substrates und eine Behandlungsanlage mit einer Bewegungsanordnung zum Bewegen einer derartigen Vorrichtung zum Transport eines Substrates. Dabei weist die Vorrichtung zum Transport eines Substrates einen Substratträger auf, der eine sich horizontal erstreckende Haltefläche und einen oder mehrere Greifarme enthält. Die Haltefläche ist auf einer dem Substrat zugewandten ersten Oberfläche eben und gleichförmig ausgebildet, deren Form im Wesentlichen der Form des Substrates entspricht und deren Fläche im Wesentlichen gleich der Fläche des Substrates ist, wobei das Substrat nur durch seine Gewichtskraft mit seiner Rückseite auf der Haltefläche gehalten wird. Die Behandlungsvorrichtung weist eine Aufnahmeplatte auf, auf der das Substrat während der Behandlung gehaltert wird, wobei die Aufnahmeplatte in einer ersten Oberfläche eine Vertiefung aufweist, die geeignet ist, einen derartigen Substratträger während der Behandlung des Substrates aufzunehmen.
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Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organização Regional Africana da Propriedade Intelectual (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Instituto Eurasiático de Patentes (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Instituto Europeu de Patentes (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organização Africana da Propriedade Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Língua de publicação: alemão (DE)
Língua de depósito: alemão (DE)