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1. (WO2019001264) ULTRASONIC WAVE CLEANING DEVICE AND WASHING MACHINE
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№ de pub.: WO/2019/001264 № do pedido internacional: PCT/CN2018/090789
Data de publicação: 03.01.2019 Data de depósito internacional: 12.06.2018
CIP:
B08B 3/12 (2006.01) ,D06F 19/00 (2006.01)
B OPERAÇÕES DE PROCESSAMENTO; TRANSPORTE
08
LIMPEZA
B
LIMPEZA EM GERAL; PREVENÇÃO DE SUJEIRAS EM GERAL
3
Limpeza por métodos que exijam essencialmente o uso ou a presença de um líquido ou vapor d'água
04
Limpeza que exija contato com líquidos
10
com tratamento adicional do líquido ou do objeto em curso de limpeza, p. ex., por calor, por eletricidade, por vibrações
12
por vibrações sônicas ou ultrassônicas
D TÊXTEIS; PAPEL
06
TRATAMENTO DE TÊXTEIS OU SIMILARES; LAVANDERIA; MATERIAIS FLEXÍVEIS NÃO INCLUÍDOS EM OUTRO LOCAL
F
LAVANDERIA, SECAGEM, ALISAMENTO A FERRO, PRENSAGEM OU DOBRAMENTO DE ARTIGOS TÊXTEIS
19
Máquinas de lavar por meio de vibrações
Requerentes:
青岛海尔洗衣机有限公司 QINGDAO HAIER WASHING MACHINE CO., LTD. [CN/CN]; 中国山东省青岛市 高新区海尔路1号 No.1 Haier Road, Hi-Tech Zone Qingdao, Shandong 266101, CN
AQUA株式会社 AQUA CO., LTD [JP/JP]; 日本东京都 千代田区丸之内2-1-1 2-1-1, Marunouchi, Chiyoda-ku Tokyo 100-0005, JP
Inventores:
鸢幸生 TOBI, Yukio; JP
川上直也 KAWAKAMI, Naoya; JP
川端睦美 KAWABATA, Mutsumi; JP
竹村唯 TAKEMURA, Yui; JP
国谷尚子 KUNIYA, Nahoko; JP
内藤正浩 NAITO, Masahiro; JP
Mandatário:
北京品源专利代理有限公司 BEYOND ATTORNEYS AT LAW; 中国北京市 海淀区莲花池东路39号西金大厦6层 F6, Xijin Centre 39 Lianhuachi East Rd., Haidian District Beijing 100036, CN
Dados da prioridade:
2017-12800929.06.2017JP
Título (EN) ULTRASONIC WAVE CLEANING DEVICE AND WASHING MACHINE
(FR) DISPOSITIF DE LAVAGE PAR ONDES ULTRASONORES ET MACHINE À LAVER
(ZH) 超声波清洗装置以及洗衣机
Resumo:
(EN) Provided is an ultrasonic wave cleaning device capable of improving cleaning performance. An ultrasonic wave cleaning device (50) is provided with: an ultrasonic wave generation body (110) for generating ultrasonic waves; a water storage tank (300) configured below the ultrasonic wave generation body (110) and storing water for immersing items to be cleaned; and a shell (130) for accommodating the ultrasonic wave generation body (110) in such a manner that a top end thereof faces the water storage tank (300). The shell (130) includes two support rods (134) which extend below a top end of the ultrasonic wave generation body (110) and do not move upwards with respect to the ultrasonic wave generation body (110) even if the items to be cleaned are pressed.
(FR) L'invention concerne un dispositif de lavage par ondes ultrasonores capable d'améliorer les performances de lavage. Un dispositif de lavage par ondes ultrasonores (50) comprend : un corps de génération d'ondes ultrasonores (110) pour générer des ondes ultrasonores; un réservoir de stockage d'eau (300) configuré sous le corps de génération d'ondes ultrasonores (110) et stockant de l'eau pour immerger des articles à nettoyer; et une coque (130) pour recevoir le corps de génération d'ondes ultrasonores (110) de telle sorte qu'une extrémité supérieure de celle-ci fasse face au réservoir de stockage d'eau (300). La coque (130) comprend deux tiges de support (134) qui s'étendent au-dessous d'une extrémité supérieure du corps de génération d'ondes ultrasonores (110) et ne se déplacent pas vers le haut par rapport au corps de génération d'ondes ultrasonores (110) même si les articles à nettoyer sont pressés.
(ZH) 本发明提供一种能够提高清洗性能的超声波清洗装置。超声波清洗装置(50)具备:超声波产生体(110),产生超声波;蓄水槽(300),配置于超声波产生体(110)的下方,并蓄积浸渍被清洗物的水;以及壳体(130),以其顶端面向蓄水槽(300)的方式容纳超声波产生体(110)。壳体(130)包含伸出至超声波产生体(110)的顶端的下方且即使被清洗物被按压也不会相对于超声波产生体(110)向上方移动的两个支撑杆(134)。
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Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organização Regional Africana da Propriedade Intelectual (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Instituto Eurasiático de Patentes (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Instituto Europeu de Patentes (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organização Africana da Propriedade Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Língua de publicação: chinês (ZH)
Língua de depósito: chinês (ZH)