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1. (WO2019000442) POLISHING AGENT, ALUMINIUM ALLOY PIECE AND POLISHING METHOD THEREFOR
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№ de pub.: WO/2019/000442 № do pedido internacional: PCT/CN2017/091297
Data de publicação: 03.01.2019 Data de depósito internacional: 30.06.2017
CIP:
C23F 3/03 (2006.01)
C QUÍMICA; METALURGIA
23
REVESTIMENTO DE MATERIAIS METÁLICOS; REVESTIMENTO DE MATERIAIS COM MATERIAIS METÁLICOS; TRATAMENTO QUÍMICO DE SUPERFÍCIES; TRATAMENTO DE DIFUSÃO DE MATERIAIS METÁLICOS; REVESTIMENTO POR EVAPORAÇÃO A VÁCUO, POR PULVERIZAÇÃO CATÓDICA, POR IMPLANTAÇÃO DE ÍONS OU POR DEPOSIÇÃO QUÍMICA EM FASE DE VAPOR, EM GERAL; INIBIÇÃO DA CORROSÃO DE MATERIAIS METÁLICOS OU INCRUSTAÇÃO EM GERAL
F
REMOÇÃO NÃO-MECÂNICA DE MATERIAIS METÁLICOS DAS SUPERFÍCIES; INIBIDOR DE CORROSÃO DE MATERIAL METÁLICO; INIBIDOR DE INCRUSTAÇÃO EM GERAL; PROCESSOS DE MÚLTIPLOS PASSOS para tratamento DE SUPERFÍCIES DE MATERIAIS METÁLICOS ENVOLVENDO PELO MENOS UM PROCESSO INCLUÍDO NA CLASSE C23 E PELO MENOS UM PROCESSO COBERTO PELA SUBCLASSE C21D OU C22F OU CLASSE C25288
3
Abrilhantamento de metais por meios químicos
02
Metais leves
03
com soluções acídicas
Requerentes:
深圳市恒兆智科技有限公司 SHENZHEN HENGZHAOZHI TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; 中国广东省深圳市 南山区蛇口街道南海大道1079号花园城数码大厦B座202.203-115王饶玲 WANG, Raoling 202.203-115 Block B, Garden City Digital Building, NanhaiRoad 1079, Shekou Street, Nanshan District Shenzhen, Guangdong 518000, CN
Inventores:
王饶玲 WANG, Raoling; CN
Mandatário:
深圳市华腾知识产权代理有限公司 SHENZHEN HUATENG INTELLECTUAL PROPERTY AGENT CO., LTD.; 中国广东省深圳市 龙华新区龙华街道龙观东路望成大厦11楼1116室彭年才 PENG Niancai Room 1116,11th floor, Wangcheng Building, Longguan East Road, Longhua Street, Longhua District Shenzhen, Guangdong 518109, CN
Dados da prioridade:
Título (EN) POLISHING AGENT, ALUMINIUM ALLOY PIECE AND POLISHING METHOD THEREFOR
(FR) AGENT DE POLISSAGE, PIЀCE EN ALLIAGE D'ALUMINIUM ET PROCÉDÉ DE POLISSAGE ASSOCIÉ
(ZH) 抛光剂、铝合金件及其抛光处理方法
Resumo:
(EN) A polishing agent, an aluminium alloy piece and a polishing method therefor. The polishing agent is used for the pretreatment of the surface of an aluminium alloy piece, and comprises, on the basis of 50 parts by weight, the following components in parts by weight: 3-20 parts of phosphoric acid, 2-10 parts of hydrofluoric acid, 1-5 parts of nitric acid, 1-5 parts of polyethylene glycol, 0.1-0.5 parts of sodium dodecylbenzenesulfonate and the balance of water. After treatment by means of the described polishing agent, the surface of an aluminium alloy piece becomes clean and shiny. In addition, the whole polishing method is simple and environmentally friendly, has no NO2 escape, is easy to operate, and has low use costs.
(FR) L'invention concerne un agent de polissage, une pièce en alliage d'aluminium et un procédé de polissage associé. L'agent de polissage est utilisé pour le prétraitement de la surface d'une pièce en alliage d'aluminium, et comprend, sur la base de 50 parties en poids, les constituants suivants en parties en poids : de 3 à 20 parties d'acide phosphorique, de 2 à 10 parties d'acide fluorhydrique, de 1 à 5 parties d'acide nitrique, de 1 à 5 parties de glycol polyéthylénique, de 0,1 à 0,5 partie de dodécylbenzènesulfonate, le reste étant de l'eau. Après traitement au moyen de l'agent de polissage décrit, la surface d'une pièce en alliage d'aluminium devient propre et brillante. De plus, l'ensemble du procédé de polissage est simple et respectueux de l'environnement, ne présente aucun dégagement de NO2, est facile à utiliser, et a de faibles coûts d'utilisation.
(ZH) 一种抛光剂、铝合金件及其抛光处理方法。抛光剂用于铝合金件表面预处理,以50重量份计,包括如下重量份数的成分:3-20份磷酸,2-10份氢氟酸,1-5份硝酸,1-5份聚乙二醇,0.1-0.5份十二烷基苯磺酸钠和余量水。经过上述抛光剂处理后,铝合金件表面清洁光亮,而且整个抛光处理方法工艺简单、环保,无NO 2逸出,操作方便,使用成本低。
Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organização Regional Africana da Propriedade Intelectual (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Instituto Eurasiático de Patentes (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Instituto Europeu de Patentes (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organização Africana da Propriedade Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Língua de publicação: chinês (ZH)
Língua de depósito: chinês (ZH)