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1. (WO2018235549) COMPOSITION, FILM, LENS, SOLID STATE IMAGE SENSOR, AND COMPOUND
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№ de pub.: WO/2018/235549 № do pedido internacional: PCT/JP2018/020669
Data de publicação: 27.12.2018 Data de depósito internacional: 30.05.2018
CIP:
C08K 5/3492 (2006.01) ,C07D 251/46 (2006.01) ,C07D 251/70 (2006.01) ,C07D 417/14 (2006.01) ,C08F 2/44 (2006.01) ,C08F 2/50 (2006.01) ,C08F 20/34 (2006.01) ,C08F 265/04 (2006.01) ,C08J 5/18 (2006.01) ,G02B 1/04 (2006.01) ,H01L 27/146 (2006.01)
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
K
USO DE SUBSTÂNCIAS INORGÂNICAS OU ORGÂNICAS NÃO-MACROMOLECULARES COMO INGREDIENTES DE COMPOSIÇÕES
5
Uso de ingredientes orgânicos
16
Compostos contendo nitrogênio
34
Compostos heterocíclicos tendo nitrogênio no anel
3467
tendo mais de dois átomos de nitrogênio no anel
3477
Anéis com 6 membros
3492
Triazinas
C QUÍMICA; METALURGIA
07
QUÍMICA ORGÂNICA
D
COMPOSTOS HETEROCÍCLICOS
251
Compostos heterocíclicos contendo anéis 1,3,5-triazina
02
não-condensados com outros anéis
12
tendo três duplas ligações entre membros do anel ou entre membros do anel e não membros do anel
26
com apenas heteroátomos diretamente ligados a átomos de carbono do anel
40
Átomos de nitrogênio
42
Um átomo de nitrogênio
46
com átomos de oxigênio ou de enxofre ligados aos dois outros átomos de carbono do anel
C QUÍMICA; METALURGIA
07
QUÍMICA ORGÂNICA
D
COMPOSTOS HETEROCÍCLICOS
251
Compostos heterocíclicos contendo anéis 1,3,5-triazina
02
não-condensados com outros anéis
12
tendo três duplas ligações entre membros do anel ou entre membros do anel e não membros do anel
26
com apenas heteroátomos diretamente ligados a átomos de carbono do anel
40
Átomos de nitrogênio
54
Três átomos de nitrogênio
70
Outras melaminas substituídas
C QUÍMICA; METALURGIA
07
QUÍMICA ORGÂNICA
D
COMPOSTOS HETEROCÍCLICOS
417
Compostos heterocíclicos contendo dois ou mais heteroanéis tendo pelo menos um anel com átomos de nitrogênio e enxofre como os únicos heteroátomos do anel não incluídos em C07D415/200
14
contendo três ou mais heteroanéis
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
F
COMPOSTOS MACROMOLECULARES OBTIDOS POR REAÇÕES COMPREENDENDO APENAS LIGAÇÕES INSATURADAS CARBONO-CARBONO
2
Processos de polimerização
44
Polimerização na presença de compostos ingredientes p. ex., plastificantes, matérias corantes, enchimentos
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
F
COMPOSTOS MACROMOLECULARES OBTIDOS POR REAÇÕES COMPREENDENDO APENAS LIGAÇÕES INSATURADAS CARBONO-CARBONO
2
Processos de polimerização
46
Polimerização iniciada por energia de ondas ou por irradiação de partículas
48
pela luz ultravioleta ou visível
50
com agentes sensibilizantes
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
F
COMPOSTOS MACROMOLECULARES OBTIDOS POR REAÇÕES COMPREENDENDO APENAS LIGAÇÕES INSATURADAS CARBONO-CARBONO
20
Homopolímeros ou copolímeros de compostos tendo um ou mais radicais alifáticos insaturados tendo cada qual apenas uma ligação dupla carbono-carbono, e sendo pelo menos um terminado por um radical carboxílico ou um sal, anidrido, éster, amida, imida ou nitrila dos mesmos
02
Ácidos monocarboxílicos tendo menos de dez átomos de carbono; Seus derivados
10
Ésteres
34
Ésteres contendo nitrogênio
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
F
COMPOSTOS MACROMOLECULARES OBTIDOS POR REAÇÕES COMPREENDENDO APENAS LIGAÇÕES INSATURADAS CARBONO-CARBONO
265
Compostos macromoleculares obtidos pela polimerização de monômeros sobre polímeros de ácidos monocarboxílicos insaturados ou de seus derivados tais como definidos no grupo C08F20/199
04
sobre polímeros de ésteres
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
J
ELABORAÇÃO; PROCESSOS GERAIS PARA FORMAR MISTURAS; PÓS-TRATAMENTO NÃO ABRANGIDO PELAS SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G ou C08H169
5
Manufatura de artigos ou de materiais modelados contendo substâncias macromoleculares
18
Manufatura de películas ou folhas
G FÍSICA
02
ÓPTICA
B
ELEMENTOS, SISTEMAS OU APARELHOS ÓPTICOS
1
Elementos ópticos caracterizados pelo material de que são feitos; Revestimentos ópticos para elementos ópticos
04
feitos de materiais orgânicos, p. ex., plásticos
H ELECTRICIDADE
01
ELEMENTOS ELÉTRICOS BÁSICOS
L
DISPOSITIVOS SEMICONDUTORES; DISPOSITIVOS ELÉTRICOS DE ESTADO SÓLIDO NÃO INCLUÍDOS EM OUTRO LOCAL
27
Dispositivos consistindo de uma pluralidade de semicondutores ou outros componentes de estado sólido, formados em ou sobre um substrato comum
14
incluindo componentes semicondutores sensíveis às radiações infravermelhas, à luz, à radiação eletromagnética de comprimentos de onda mais curtos ou à radiação corpuscular e adaptado, tanto para a conversão da energia destas radiações em energia elétrica, como para o controle de energia elétrica por tais radiações
144
Dispositivos controlados por radiação
146
Estruturas de captadores de imagens
Requerentes:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
Inventores:
金子 祐士 KANEKO Yushi; JP
田口 貴規 TAGUCHI Yoshinori; JP
瀧下 大貴 TAKISHITA Hirotaka; JP
Mandatário:
渡辺 望稔 WATANABE Mochitoshi; JP
伊東 秀明 ITOH Hideaki; JP
三橋 史生 MITSUHASHI Fumio; JP
Dados da prioridade:
2017-12049320.06.2017JP
2018-03533028.02.2018JP
Título (EN) COMPOSITION, FILM, LENS, SOLID STATE IMAGE SENSOR, AND COMPOUND
(FR) COMPOSITION, FILM, LENTILLE, ÉLÉMENT D'IMAGERIE À SEMI-CONDUCTEURS, ET COMPOSÉ
(JA) 組成物、膜、レンズ、固体撮像素子、化合物
Resumo:
(EN) The present invention provides a composition which is capable of forming a film having a high refractive index and which has excellent conformability to level differences. Moreover, the present invention provides a film obtained using the composition, a lens comprising the film, and a solid state image sensor comprising the film or the lens. The present invention further provides a compound used for the composition. The composition comprises a compound represented by general formula (I) and a solvent, wherein the content of the compound represented by general formula (I) is 30 mass% or more of the total solids in the composition. (A)m-X-(B)n (I)
(FR) L'invention fournit une composition qui permet de former un film présentant un indice de réfraction élevé, et qui se révèle excellente en termes d'adaptation aux différences de niveau. L'invention fournit également un film obtenu à l'aide de ladite composition, une lentille contenant ledit film, et un élément d'imagerie à semi-conducteurs contenant ledit film ou ladite lentille. De plus, l'invention fournit un composé mis en œuvre dans ladite composition. La composition de l'invention contient un composé représenté par la formule générale (I) et un solvant, la teneur en composé représenté par la formule générale (I) est supérieure ou égale à 30% en masse de la teneur en matière solide totale contenue dans la composition. (A)-X-(B) (I)
(JA) 本発明は、高い屈折率を有する膜を形成できると共に、段差追従性に優れる組成物を提供する。また、本発明は、上記組成物を用いて得られる膜、上記膜を含むレンズ、及び、上記膜又は上記レンズを含む固体撮像素子を提供する。更に、上記組成物に用いられる化合物を提供する。本発明の組成物は、下記一般式(I)で表される化合物及び溶剤を含む組成物であって、上記一般式(I)で表される化合物の含有量が、組成物中の全固形分に対して、30質量%以上である。 (A)-X-(B) (I)
Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organização Regional Africana da Propriedade Intelectual (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Instituto Eurasiático de Patentes (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Instituto Europeu de Patentes (IEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organização Africana da Propriedade Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Língua de publicação: Japonês (JA)
Língua de depósito: Japonês (JA)