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1. (WO2018181713) PRODUCTION METHOD FOR SILICA PARTICLE LIQUID DISPERSION
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№ de pub.: WO/2018/181713 № do pedido internacional: PCT/JP2018/013240
Data de publicação: 04.10.2018 Data de depósito internacional: 29.03.2018
CIP:
C01B 33/18 (2006.01) ,C09K 3/14 (2006.01) ,B24B 37/00 (2012.01) ,H01L 21/304 (2006.01)
C QUÍMICA; METALURGIA
01
QUÍMICA INORGÂNICA
B
ELEMENTOS NÃO-METÁLICOS; SEUS COMPOSTOS
33
Silício; Seus compostos
113
Óxidos de silício; Seus hidratos
12
Sílica; Seus hidratos, p. ex., ácido silício lepidoico
18
Preparação de sílica finamente dividida em forma nem de sol nem de gel; Seu pós-tratamento
C QUÍMICA; METALURGIA
09
CORANTES; TINTAS; POLIDORES; RESINAS NATURAIS; ADESIVOS; COMPOSIÇÕES NÃO ABRANGIDOS EM OUTROS LOCAIS; APLICAÇÕES DE MATERIAIS NÃO ABRANGIDOS EM OUTROS LOCAIS
K
MATERIAIS PARA APLICAÇÕES DIVERSAS, NÃO INCLUÍDAS EM OUTRO LOCAL; APLICAÇÔES DE MATERIAIS NÃO INCLUÍDOS EM OUTRO LOCAL
3
Matérias diversas não incluídas em outro local
14
Matérias antideslizantes; Abrasivos
B OPERAÇÕES DE PROCESSAMENTO; TRANSPORTE
24
ESMERILHAMENTO; POLIMENTO
B
MÁQUINAS, DISPOSITIVOS OU PROCESSOS DE ESMERILHAMENTO OU POLIMENTO; RETIFICAÇÃO OU RESTAURAÇÃO DE SUPERFÍCIES ABRASIVAS; ALIMENTAÇÃO OU APLICAÇÃO DE MATERIAL DE ESMERILHAMENTO E POLIMENTO OU AGENTES ABRASIVOS
37
Máquinas ou dispositivos de polimento; Acessórios
H ELECTRICIDADE
01
ELEMENTOS ELÉTRICOS BÁSICOS
L
DISPOSITIVOS SEMICONDUTORES; DISPOSITIVOS ELÉTRICOS DE ESTADO SÓLIDO NÃO INCLUÍDOS EM OUTRO LOCAL
21
Processos ou aparelhos especialmente adaptados para a manufatura ou tratamento dos dispositivos semicondutores ou de dispositivos de estado sólido ou de partes dos mesmos
02
Fabricação ou tratamento de dispositivos semicondutores ou de partes dos mesmos
04
tendo o dispositivo, pelo menos, uma barreira de potencial ou uma barreira de superfície, p. ex., junção PN, camada de depleção, camada de concentração de portadores de carga
18
tendo os dispositivos corpos semicondutores constituídos de elementos do quarto grupo do Sistema periódico ou compostos AIIIBV com ou sem impurezas, p. ex., materiais de dopagem
30
Tratamento de corpos semicondutores usando processos ou aparelhos não incluídos nos grupos H01L21/20-H01L21/26142
302
para mudar as características físicas ou a forma de sua superfície, p. ex., gravação, polimento, recorte
304
Tratamento mecânico, p. ex., esmerilhamento, polimento, recorte
Requerentes:
日揮触媒化成株式会社 JGC CATALYSTS AND CHEMICALS LTD. [JP/JP]; 神奈川県川崎市幸区堀川町580番地 580 Horikawa-cho, Saiwai-ku, Kawasaki City, Kanagawa 2120013, JP
Inventores:
江上 美紀 EGAMI Miki; JP
熊澤 光章 KUMAZAWA Mitsuaki; JP
荒金 宏忠 ARAKANE Hirotada; JP
村口 良 MURAGUCHI Ryo; JP
平井 俊晴 HIRAI Toshiharu; JP
Mandatário:
▲高▼津 一也 TAKATSU Kazuya; JP
Dados da prioridade:
2017-07150231.03.2017JP
Título (EN) PRODUCTION METHOD FOR SILICA PARTICLE LIQUID DISPERSION
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D’UNE DISPERSION LIQUIDE DE PARTICULES DE SILICE
(JA) シリカ粒子分散液の製造方法
Resumo:
(EN) [Problem] To efficiently produce silica particles by inhibiting production of unreacted materials. [Solution] This silica particle liquid dispersion production method comprises simultaneously adding, to liquid I containing silica seed particles, liquid A containing a silane alkoxide and liquid B containing an alkali catalyst and water, to grow the silica seed particles and thereby produce silica particles, wherein the change rate of the molar ratio of the alkali catalyst to the silica component, with respect to the initial value thereof, in the reaction system during a period from the start to end of the addition, is 0.90-1.10, and the change rate of the molar ratio of the water to the silica component, with respect to the initial value thereof, in the reaction system during a period from the start to end of the addition, is 0.90-1.10.
(FR) Le problème décrit par la présente invention est de produire d’une manière efficace des particules de silice en inhibant la production de matériaux n’ayant pas réagi. La solution selon l’invention porte sur un procédé de production d’une dispersion liquide de particules de silice, consistant à ajouter simultanément, au liquide (I) contenant des particules semences de silice, un liquide (A) contenant un alcoxyde de silane et un liquide (B) contenant un catalyseur alcalin et de l’eau, pour faire croître les particules semences de silice et produire ainsi des particules de silice, où le niveau de changement du rapport molaire du catalyseur alcalin au constituant de silice, par rapport à sa valeur initiale, dans le système réactionnel sur une durée depuis le début jusqu’à la fin de l’addition, est de 0,90 à 1,10, et le niveau de changement du rapport molaire de l’eau au constituant de silice, par rapport à sa valeur initiale, dans le système réactionnel sur une durée depuis le début jusqu’à la fin de l’addition, est de 0,90 à 1,10.
(JA) 【課題】未反応物の生成を抑制して、効率よくシリカ粒子を製造すること。 【解決手段】シリカ種粒子を含有する液Iに対して、シランアルコキシドを含有する液Aと、アルカリ触媒及び水を含有する液Bとを同時に添加することにより、シリカ種粒子を成長させてシリカ粒子を製造するシリカ粒子分散液の製造方法であって、添加開始から終了までの期間の反応系におけるシリカ成分に対するアルカリ触媒のモル比の初期値に対する変化率が、0.90~1.10であり、添加開始から終了までの期間の反応系におけるシリカ成分に対する水のモル比の初期値に対する変化率が、0.90~1.10であるシリカ粒子分散液の製造方法である。
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Organização Regional Africana da Propriedade Intelectual (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Instituto Eurasiático de Patentes (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Instituto Europeu de Patentes (IEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organização Africana da Propriedade Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Língua de publicação: Japonês (JA)
Língua de depósito: Japonês (JA)