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1. (WO2018180850) METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT
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№ de pub.: WO/2018/180850 № do pedido internacional: PCT/JP2018/011312
Data de publicação: 04.10.2018 Data de depósito internacional: 22.03.2018
CIP:
G02F 1/1337 (2006.01)
G FÍSICA
02
ÓPTICA
F
DISPOSITIVOS OU DISPOSIÇÕES, NOS QUAIS O FUNCIONAMENTO ÓPTICO É MODIFICADO PELA VARIAÇÃO DAS PROPRIEDADES ÓPTICAS DO MEIO QUE CONSTITUI ESTES DISPOSITIVOS OU DISPOSIÇÕES PARA O CONTROLE DA INTENSIDADE, DA COR, DA FASE, DA POLARIZAÇÃO OU DA DIREÇÃO DA LUZ, p. ex.,COMUTAÇÃO, ABERTURA DE PORTA, MODULAÇÃO OU DEMODULAÇÃO; TÉCNICAS OU PROCEDIMENTOS NECESSÁRIOS PARA O FUNCIONAMENTO DESTES; MUDANÇA DE FREQUÊNCIA; ÓPTICA NÃO LINEAR; ELEMENTOS ÓPTICOS LÓGICOS; CONVERSORES ÓPTICOS ANALÓGICOS/DIGITAIS
1
Dispositivos ou disposições para o controle da intensidade da cor, da fase, da polarização ou da direção da luz proveniente de uma fonte de luz independente, p. ex.,comutação, abertura de porta ou modulação; Óptica não linear
01
para controle da intensidade, da fase, da polarização ou da cor
13
baseado em cristais líquidos, p. ex., células individuais de apresentação a cristais líquidos
133
Disposições construtivas; Funcionamento de células de cristal líquido; Disposições de circuitos
1333
Disposições construtivas
1337
Orientação das moléculas dos cristais líquidos induzida pelas características de superfície, p. ex., por camadas de alinhamento
Requerentes:
DIC株式会社 DIC CORPORATION [JP/JP]; 東京都板橋区坂下三丁目35番58号 35-58, Sakashita 3-chome, Itabashi-ku, Tokyo 1748520, JP
Inventores:
後藤 麻里奈 GOTO Marina; JP
井ノ上 雄一 INOUE Yuichi; JP
Mandatário:
小川 眞治 OGAWA Shinji; JP
Dados da prioridade:
2017-06764530.03.2017JP
Título (EN) METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT
(FR) PROCÉDÉ PERMETTANT DE FABRIQUER UN ÉLÉMENT D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES
(JA) 液晶表示素子の製造方法
Resumo:
(EN) Provided is a method for manufacturing a liquid crystal display element, which comprises one to n separate and independent light irradiation steps for irradiating a liquid crystal composition containing a polymerizable compound affixed onto a substrate with light having a peak at 300-400 nm, and is characterized in that, when the concentration change amount Vk per unit minute of the concentration difference between the concentration (Ck) of the polymerizable compound after the liquid crystal composition containing 0.3 mass% of the polymerizable compound has been irradiated with light for five minutes under the light irradiation condition of a k-th light irradiation step (Sk) among the one to n light irradiation steps, and 0.3 mass% is represented by expression (1) in each of the steps, the average reaction velocity Vave of the polymerizable compound in all light irradiation steps (ΣSk) represented by expression (2) is controlled to 0.030-0.048 (mass%/min).
(FR) L'invention concerne un procédé de fabrication d'un élément d'affichage à cristaux liquides, qui comprend une à n étapes d'irradiation de lumière séparées et indépendantes permettant d'irradier une composition de cristaux liquides contenant un composé polymérisable apposée sur un substrat avec une lumière ayant un pic à 300-400 nm, et qui est caractérisé en ce que, lorsque la quantité de changement de concentration Vk par unité minute de la différence de concentration entre la concentration (Ck) du composé polymérisable après que la composition de cristaux liquides contenant 0,3 % en masse du composé polymérisable a été irradiée avec de la lumière pendant cinq minutes dans la condition d'irradiation de lumière d'une k-ième étape d'irradiation de lumière (Sk) parmi les une à n étapes d'irradiation de lumière, et 0,3 % en masse est représentée par l'expression (1) dans chacune des étapes, la vitesse de réaction moyenne Vave du composé polymérisable dans toutes les étapes d'irradiation de lumière (ΣSk) représentée par l'expression (2) est régulée à 0,030-0,048 (% en masse/min).
(JA) 基板上に添着された重合性化合物を含有する液晶組成物に300~400nmにピークを有する光を照射する光照射工程を別個独立する1~n回備えた液晶表示素子の製造方法であって、 前記の1~n回の光照射工程のうちk回目の光照射工程(S)の光照射条件下で前記重合性化合物を0.3質量%含有する液晶組成物に対して5分間光を照射した後の前記重合性化合物の濃度(C)と、0.3質量%との濃度差の単位分あたりの濃度変化量Vが、式(1)で工程毎に表される場合、式(2)で表される全光照射工程(ΣSk)における前記重合性化合物の平均反応速度Vaveを0.030~0.048(質量%/分)に制御することを特徴とする、液晶表示素子の製造方法を提供する。
Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organização Regional Africana da Propriedade Intelectual (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Instituto Eurasiático de Patentes (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Instituto Europeu de Patentes (IEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organização Africana da Propriedade Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Língua de publicação: Japonês (JA)
Língua de depósito: Japonês (JA)