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1. (WO2018180561) FLUORINATED ETHER COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING SAME
Dados bibliográficos mais recentes no arquivo da Secretaria InternacionalSubmeter observação

№ de pub.: WO/2018/180561 № do pedido internacional: PCT/JP2018/010306
Data de publicação: 04.10.2018 Data de depósito internacional: 15.03.2018
CIP:
C08G 65/336 (2006.01) ,C08L 71/00 (2006.01)
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
G
COMPOSTOS MACROMOLECULARES OBTIDOS POR REAÇÕES OUTRAS QUE NÃO ENVOLVENDO LIGAÇÕES INSATURADAS CARBONO-CARBONO
65
Compostos macromoleculares obtidos por reações formando uma ligação éter na cadeia principal da macromolécula
02
a partir de éteres cíclicos por abertura do um anel heterocíclico
32
Polímeros modificados por pós- tratamento químico
329
contendo compostos orgânicos
336
contendo silício
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
L
COMPOSIÇÕES DE COMPOSTOS MACROMOLECULARES
71
Composições de poliéteres obtidos por reações formando uma ligação éter na cadeia principal; Composições de derivados desses polímeros
Requerentes:
AGC株式会社 AGC INC. [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内一丁目5番1号 5-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405, JP
Inventores:
高尾 清貴 TAKAO Kiyotaka; JP
Mandatário:
泉名 謙治 SENMYO Kenji; JP
小川 利春 OGAWA Toshiharu; JP
金 鎭文 KIM Jin-Moon; JP
比企野 健 HIKINO Ken; JP
横井 大一郎 YOKOI Daiichiro; JP
Dados da prioridade:
2017-06094927.03.2017JP
Título (EN) FLUORINATED ETHER COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) COMPOSITION D'ÉTHER FLUORÉ ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION ASSOCIÉ
(JA) 含フッ素エーテル組成物およびその製造方法
Resumo:
(EN) Provided are: a fluorinated ether composition which can be formed into a surface layer having excellent durability without deteriorating the transparency of a base; and a method for producing a fluorinated ether composition. A fluorinated ether composition containing a compound (A) having a poly(oxyperfluoroalkylene) chain and a group represented by formula (I) and a transition metal compound, wherein the ratio of the mass of the transition metal compound to the mass of the compound (A) is 300 to 4,000 ppm in terms of a transition metal content. (I) -SiRnL3-n; wherein L represents a hydroxyl group or a hydrolysable group, R represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group, and n represents an integer of 0 to 2.
(FR) L'invention concerne : une composition d'éther fluoré qui peut être formée en une couche de surface présentant une excellente durabilité sans détériorer la transparence d'une base ; et un procédé de production d'une composition d'éther fluoré. L'invention concerne une composition d'éther fluoré contenant un composé (A) ayant une chaîne poly(oxyperfluoroalkylène) et un groupe représenté par la formule (I) et un composé de métal de transition, le rapport de la masse du composé de métal de transition à la masse du composé (A) étant de 300 à 4 000 ppm en termes de teneur du métal de transition. (I) -SiRnL3-n ; dans laquelle L représente un groupe hydroxy ou un groupe hydrolysable, R représente un atome d'hydrogène ou un groupe hydrocarboné monovalent et n représente un nombre entier de 0 à 2.
(JA) 基材の透明性を損なうことなく、耐久性に優れる表面層を形成できる含フッ素エーテル組成物および含フッ素エーテル組成物の製造方法の提供。 ポリ(オキシペルフルオロアルキレン)鎖および下式(I)で表される基を有する化合物(A)と、遷移金属化合物とを含む含フッ素エーテル組成物であって、前記化合物(A)に対する前記遷移金属化合物の質量割合が遷移金属換算で300~4,000ppmである、含フッ素エーテル組成物。-SiR3-n・・・(I);ただし、Lは水酸基または加水分解性基であり、Rは水素原子または1価の炭化水素基であり、nは0~2の整数である。
Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organização Regional Africana da Propriedade Intelectual (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Instituto Eurasiático de Patentes (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Instituto Europeu de Patentes (IEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organização Africana da Propriedade Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Língua de publicação: Japonês (JA)
Língua de depósito: Japonês (JA)