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1. (WO2018179641) PHOTOSENSITIVE TRANSFERRING MATERIAL AND METHOD FOR PRODUCING CIRCUIT WIRING
Dados bibliográficos mais recentes no arquivo da Secretaria InternacionalSubmeter observação

№ de pub.: WO/2018/179641 № do pedido internacional: PCT/JP2017/046479
Data de publicação: 04.10.2018 Data de depósito internacional: 25.12.2017
CIP:
G03F 7/039 (2006.01) ,C08F 12/08 (2006.01) ,C08F 20/16 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G FÍSICA
03
FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TÉCNICAS SEMELHANTES UTILIZANDO ONDAS OUTRAS QUE NÃO ONDAS ÓPTICAS; ELETROGRAFIA; HOLOGRAFIA
F
PRODUÇÃO FOTOMECÂNICA DE SUPERFÍCIES TEXTURIZADAS OU ESTAMPADAS, p. ex., PARA IMPRESSÃO, PARA PROCESSAMENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUTORES; MATERIAIS PARA AS MESMAS; ORIGINAIS PARA AS MESMAS; APARELHOS ESPECIALMENTE ADAPTADOS PARA ESSE FIM
7
Produção fotomecânica, p. ex., fotolitografia, produção de superfícies texturizadas ou estampadas, p. ex., superfícies para impressão; Materiais para esse fim, p. ex., compreendendo fotoresistes; Aparelhos especialmente adaptados para esse fim
004
Materiais fotossensíveis
039
Compostos macromoleculares que são fotodegradáveis p. ex., resistentes positivos sensíveis aos elétrons
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
F
COMPOSTOS MACROMOLECULARES OBTIDOS POR REAÇÕES COMPREENDENDO APENAS LIGAÇÕES INSATURADAS CARBONO-CARBONO
12
Homopolímeros ou copolímeros de compostos tendo um ou mais radicais alifáticos insaturados tendo cada qual apenas uma ligação dupla carbono-carbono, e sendo pelo menos um terminado por um anel carbocíclico aromático
02
Monômeros contendo apenas um radical alifático insaturado
04
contendo um anel
06
hidrocarbonetos
08
Estireno
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
F
COMPOSTOS MACROMOLECULARES OBTIDOS POR REAÇÕES COMPREENDENDO APENAS LIGAÇÕES INSATURADAS CARBONO-CARBONO
20
Homopolímeros ou copolímeros de compostos tendo um ou mais radicais alifáticos insaturados tendo cada qual apenas uma ligação dupla carbono-carbono, e sendo pelo menos um terminado por um radical carboxílico ou um sal, anidrido, éster, amida, imida ou nitrila dos mesmos
02
Ácidos monocarboxílicos tendo menos de dez átomos de carbono; Seus derivados
10
Ésteres
12
de álcoois ou de fenóis monoídricos
16
de fenóis ou de álcoois contendo dois ou mais átomos de carbono
G FÍSICA
03
FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TÉCNICAS SEMELHANTES UTILIZANDO ONDAS OUTRAS QUE NÃO ONDAS ÓPTICAS; ELETROGRAFIA; HOLOGRAFIA
F
PRODUÇÃO FOTOMECÂNICA DE SUPERFÍCIES TEXTURIZADAS OU ESTAMPADAS, p. ex., PARA IMPRESSÃO, PARA PROCESSAMENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUTORES; MATERIAIS PARA AS MESMAS; ORIGINAIS PARA AS MESMAS; APARELHOS ESPECIALMENTE ADAPTADOS PARA ESSE FIM
7
Produção fotomecânica, p. ex., fotolitografia, produção de superfícies texturizadas ou estampadas, p. ex., superfícies para impressão; Materiais para esse fim, p. ex., compreendendo fotoresistes; Aparelhos especialmente adaptados para esse fim
004
Materiais fotossensíveis
04
Cromatos
G FÍSICA
03
FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TÉCNICAS SEMELHANTES UTILIZANDO ONDAS OUTRAS QUE NÃO ONDAS ÓPTICAS; ELETROGRAFIA; HOLOGRAFIA
F
PRODUÇÃO FOTOMECÂNICA DE SUPERFÍCIES TEXTURIZADAS OU ESTAMPADAS, p. ex., PARA IMPRESSÃO, PARA PROCESSAMENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUTORES; MATERIAIS PARA AS MESMAS; ORIGINAIS PARA AS MESMAS; APARELHOS ESPECIALMENTE ADAPTADOS PARA ESSE FIM
7
Produção fotomecânica, p. ex., fotolitografia, produção de superfícies texturizadas ou estampadas, p. ex., superfícies para impressão; Materiais para esse fim, p. ex., compreendendo fotoresistes; Aparelhos especialmente adaptados para esse fim
20
Exposição; aparelhos para esse fim
Requerentes:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
Inventores:
藤本 進二 FUJIMOTO, Shinji; JP
松田 知樹 MATSUDA, Tomoki; JP
山田 悟 YAMADA, Satoru; JP
Mandatário:
特許業務法人太陽国際特許事務所 TAIYO, NAKAJIMA & KATO; 東京都新宿区新宿4丁目3番17号 3-17, Shinjuku 4-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022, JP
Dados da prioridade:
2017-06804330.03.2017JP
Título (EN) PHOTOSENSITIVE TRANSFERRING MATERIAL AND METHOD FOR PRODUCING CIRCUIT WIRING
(FR) MATÉRIAU DE TRANSFERT PHOTOSENSIBLE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CÂBLAGE DE CIRCUIT
(JA) 感光性転写材料、及び回路配線の製造方法
Resumo:
(EN) Disclosed is a photosensitive transferring material comprising: a temporary support; and a photosensitive resin composition layer including a photoacid generator, and a polymer component including a polymer that includes a constituent unit (a-1) including a group wherein a carboxy group is protected in the form of an acetal, or a constituent unit (a-2) including a group in which a phenolic hydroxyl group is protected in the form of an acetal. The polymer component includes a constituent unit (b-1) including a phenolic hydroxyl group and/or a constituent unit (b-2) including an alcoholic hydroxyl group. The total percentage of the constituent unit (b-1) and the constituent unit (b-2) in all of the constituent units in the polymer component is from 1 mol% to 18 mol%. Also disclosed is a method for producing a circuit wiring using the photosensitive transferring material.
(FR) L'invention concerne un matériau de transfert photosensible comprenant : un support temporaire ; et une couche de composition de résine photosensible comprenant un générateur photoacide, et un composant polymère comprenant un polymère qui comprend une unité constitutive (a-1) comprenant un groupe dans lequel un groupe carboxy est protégé sous la forme d'un acétal, ou une unité constitutive (a-2) comprenant un groupe dans lequel un groupe hydroxyle phénolique est protégé sous la forme d'un acétal. Le composant polymère comprend une unité constitutive (b-1) comprenant un groupe hydroxyle phénolique et/ou une unité constitutive (b-2) comprenant un groupe hydroxyle alcoolique. Le pourcentage total de l'unité constitutive (b-1) et de l'unité constitutive (b-2) dans toutes les unités constitutives dans le composant polymère est de 1 % en moles à 18 % en moles. L'invention concerne également un procédé de production d'un câblage de circuit à l'aide du matériau de transfert photosensible.
(JA) 仮支持体;及び、カルボキシ基がアセタールの形で保護された基を有する構成単位(a-1)又はフェノール性水酸基がアセタールの形で保護された基を有する構成単位(a-2)を有する重合体を含む重合体成分と、光酸発生剤とを含有する感光性樹脂組成物層;を有し、重合体成分が、フェノール性水酸基を有する構成単位(b-1)及びアルコール性水酸基を有する構成単位(b-2)の少なくとも一方を有し、重合体成分の全構成単位に占める構成単位(b-1)の割合と構成単位(b-2)の割合との合計が1モル%以上18モル%以下である感光性転写材料、並びに、感光性転写材料を用いた回路配線の製造方法。
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Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organização Regional Africana da Propriedade Intelectual (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Instituto Eurasiático de Patentes (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Instituto Europeu de Patentes (IEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organização Africana da Propriedade Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Língua de publicação: Japonês (JA)
Língua de depósito: Japonês (JA)