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1. (WO2018165090) TOUGH, HIGH TEMPERATURE POLYMERS PRODUCED BY STEREOLITHOGRAPHY
Dados bibliográficos mais recentes no arquivo da Secretaria InternacionalSubmeter observação

№ de pub.: WO/2018/165090 № do pedido internacional: PCT/US2018/021042
Data de publicação: 13.09.2018 Data de depósito internacional: 06.03.2018
CIP:
C08F 2/48 (2006.01) ,C08F 222/10 (2006.01) ,B33Y 10/00 (2015.01) ,C08F 220/34 (2006.01) ,C08F 220/54 (2006.01) ,B33Y 70/00 (2015.01)
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
F
COMPOSTOS MACROMOLECULARES OBTIDOS POR REAÇÕES COMPREENDENDO APENAS LIGAÇÕES INSATURADAS CARBONO-CARBONO
2
Processos de polimerização
46
Polimerização iniciada por energia de ondas ou por irradiação de partículas
48
pela luz ultravioleta ou visível
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
F
COMPOSTOS MACROMOLECULARES OBTIDOS POR REAÇÕES COMPREENDENDO APENAS LIGAÇÕES INSATURADAS CARBONO-CARBONO
222
Copolímeros de compostos tendo um ou mais radicais alifáticos insaturados, tendo cada qual apenas uma ligação dupla carbono-carbono, sendo pelo menos um terminado por um radical carboxila e contendo pelo menos um outro radical carboxila na molécula; Sais, anidridos, ésteres, amidas, imidas ou nitrilas dos mesmos
10
Ésteres
[IPC code unknown for B33Y 10]
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
F
COMPOSTOS MACROMOLECULARES OBTIDOS POR REAÇÕES COMPREENDENDO APENAS LIGAÇÕES INSATURADAS CARBONO-CARBONO
220
Copolímeros de compostos tendo um ou mais radicais alifáticos insaturados, tendo cada qual apenas uma ligação dupla carbono-carbono, e sendo apenas um terminado por um único radical carboxila ou um sal, anidrido, éster, amida, imida ou nitrila do mesmo
02
Ácidos monocarboxílicos tendo menos de dez átomos de carbono; Seus derivados
10
Ésteres
34
Ésteres contendo nitrogênio
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
F
COMPOSTOS MACROMOLECULARES OBTIDOS POR REAÇÕES COMPREENDENDO APENAS LIGAÇÕES INSATURADAS CARBONO-CARBONO
220
Copolímeros de compostos tendo um ou mais radicais alifáticos insaturados, tendo cada qual apenas uma ligação dupla carbono-carbono, e sendo apenas um terminado por um único radical carboxila ou um sal, anidrido, éster, amida, imida ou nitrila do mesmo
02
Ácidos monocarboxílicos tendo menos de dez átomos de carbono; Seus derivados
52
Amidas ou imidas
54
Amidas
[IPC code unknown for B33Y 70]
Requerentes:
CARBON, INC. [US/US]; 1089 Mills Way Redwood City, California 94063, US
Inventores:
MENYO, Matthew S.; US
Mandatário:
MYERS BIGEL, P.A.; P.O. Box 37428 Raleigh, North Carolina 27627, US
Dados da prioridade:
62/469,17909.03.2017US
62/574,80820.10.2017US
Título (EN) TOUGH, HIGH TEMPERATURE POLYMERS PRODUCED BY STEREOLITHOGRAPHY
(FR) POLYMÈRES HAUTE TEMPÉRATURE RÉSISTANTS PRODUITS PAR STÉRÉOLITHOGRAPHIE
Resumo:
(EN) The present invention concerns methods of forming a three-dimensional object, and polymerizable liquids such as dual cure resins useful for making a three-dimensional object by sterolithography, such as by continuous liquid interface production (CLIP).
(FR) La présente invention concerne des procédés de formation d'un objet tridimensionnel, et des liquides polymérisables tels que des résines à double durcissement utiles pour fabriquer un objet tridimensionnel par stéréolithographie, par exemple par production d'interface liquide continue (CLIP).
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Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organização Regional Africana da Propriedade Intelectual (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Instituto Eurasiático de Patentes (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Instituto Europeu de Patentes (IEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organização Africana da Propriedade Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Língua de publicação: Inglês (EN)
Língua de depósito: Inglês (EN)