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1. (WO2018164904) METHOD OF ELECTROSTATIC CHARGE REDUCTION OF GLASS BY SURFACE CHEMICAL TREATMENT
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№ de pub.: WO/2018/164904 № do pedido internacional: PCT/US2018/020155
Data de publicação: 13.09.2018 Data de depósito internacional: 28.02.2018
CIP:
C03C 15/00 (2006.01) ,C03C 21/00 (2006.01) ,G02F 1/00 (2006.01) ,H04M 1/02 (2006.01)
C QUÍMICA; METALURGIA
03
VIDRO; LÃ MINERAL OU LÃ DE ESCÓRIAS
C
COMPOSIÇÃO QUÍMICA DE VIDROS, VIDRADOS (VITRIFICADOS) OU ESMALTES VÍTREOS; TRATAMENTO DA SUPERFÍCIE DO VIDRO; TRATAMENTO DA SUPERFÍCIE DE FIBRAS OU FILAMENTOS DE VIDRO, MINERAIS OU ESCÓRIAS; UNIÃO DE VIDRO A VIDRO OU A OUTROS MATERIAIS
15
Tratamento da superfície do vidro, outro que não na forma de fibras ou filamentos, por gravura à água forte
C QUÍMICA; METALURGIA
03
VIDRO; LÃ MINERAL OU LÃ DE ESCÓRIAS
C
COMPOSIÇÃO QUÍMICA DE VIDROS, VIDRADOS (VITRIFICADOS) OU ESMALTES VÍTREOS; TRATAMENTO DA SUPERFÍCIE DO VIDRO; TRATAMENTO DA SUPERFÍCIE DE FIBRAS OU FILAMENTOS DE VIDRO, MINERAIS OU ESCÓRIAS; UNIÃO DE VIDRO A VIDRO OU A OUTROS MATERIAIS
21
Tratamento do vidro, que não na forma de fibras ou filamentos, por difusão de íons ou metais pela superfície
G FÍSICA
02
ÓPTICA
F
DISPOSITIVOS OU DISPOSIÇÕES, NOS QUAIS O FUNCIONAMENTO ÓPTICO É MODIFICADO PELA VARIAÇÃO DAS PROPRIEDADES ÓPTICAS DO MEIO QUE CONSTITUI ESTES DISPOSITIVOS OU DISPOSIÇÕES PARA O CONTROLE DA INTENSIDADE, DA COR, DA FASE, DA POLARIZAÇÃO OU DA DIREÇÃO DA LUZ, p. ex.,COMUTAÇÃO, ABERTURA DE PORTA, MODULAÇÃO OU DEMODULAÇÃO; TÉCNICAS OU PROCEDIMENTOS NECESSÁRIOS PARA O FUNCIONAMENTO DESTES; MUDANÇA DE FREQUÊNCIA; ÓPTICA NÃO LINEAR; ELEMENTOS ÓPTICOS LÓGICOS; CONVERSORES ÓPTICOS ANALÓGICOS/DIGITAIS
1
Dispositivos ou disposições para o controle da intensidade da cor, da fase, da polarização ou da direção da luz proveniente de uma fonte de luz independente, p. ex.,comutação, abertura de porta ou modulação; Óptica não linear
H ELECTRICIDADE
04
TÉCNICA DE COMUNICAÇÃO ELÉTRICA
M
COMUNICAÇÃO TELEFÔNICA
1
Equipamentos de subestação, p. ex., para uso pelos assinantes
02
Características estruturais dos aparelhos telefônicos
Requerentes:
CORNING INCORPORATED [US/US]; 1 Riverfront Plaza Corning, New York 14831, US
Inventores:
GUO, Xiaoju; US
JIN, Yuhui; US
MANLEY, Robert George; US
WALCZAK, Wanda Janina; US
Mandatário:
HARAN, John T; US
Dados da prioridade:
62/469,09009.03.2017US
62/550,89428.08.2017US
Título (EN) METHOD OF ELECTROSTATIC CHARGE REDUCTION OF GLASS BY SURFACE CHEMICAL TREATMENT
(FR) PROCÉDÉ DE RÉDUCTION DE LA CHARGE ÉLECTROSTATIQUE DU VERRE PAR UN TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE
Resumo:
(EN) Disclosed devices include a liquid crystal layer and a cover glass comprising at least one major surface having a depleted or enriched surface layer. Methods for reducing mura in a touch-display device are also disclosed.
(FR) Les dispositifs selon l'invention comprennent une couche de cristaux liquides et un verre de couverture comprenant au moins une surface principale ayant une couche de surface appauvrie ou enrichie. L'invention concerne également des procédés de réduction de l'effet mura dans un dispositif d'affichage tactile.
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Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organização Regional Africana da Propriedade Intelectual (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Instituto Eurasiático de Patentes (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Instituto Europeu de Patentes (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organização Africana da Propriedade Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Língua de publicação: inglês (EN)
Língua de depósito: inglês (EN)