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1. WO2018163850 - EPITAXIAL WAFER REVERSE SURFACE INSPECTING METHOD, EPITAXIAL WAFER REVERSE SURFACE INSPECTING DEVICE, EPITAXIAL GROWTH DEVICE LIFT PIN MANAGEMENT METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING EPITAXIAL WAFER

Informações disponíveis sobre entradas na fase nacional(maiores informações)
OrganismoData de entradaNúmero nacionalSituação nacional
República da Coreia 27.08.20191020197025086Published: 02.10.2019
China 29.08.2019201880014834.4Published: 05.11.2019