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1. (WO2018131545) CURABLE RESIN COMPOSITION, CURED PRODUCT THEREOF, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
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№ de pub.: WO/2018/131545 № do pedido internacional: PCT/JP2018/000113
Data de publicação: 19.07.2018 Data de depósito internacional: 05.01.2018
CIP:
C08L 83/07 (2006.01) ,C08K 3/00 (2018.01) ,C08K 5/04 (2006.01) ,C08K 5/3477 (2006.01) ,C08K 5/54 (2006.01) ,C08L 63/00 (2006.01) ,C08L 83/05 (2006.01) ,H01L 23/29 (2006.01) ,H01L 23/31 (2006.01) ,H01L 33/56 (2010.01)
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
L
COMPOSIÇÕES DE COMPOSTOS MACROMOLECULARES
83
Composições de compostos macromoleculares obtidos por reações formando na cadeia principal da macromolécula uma ligação contendo silício com ou sem enxofre, nitrogênio, oxigênio ou carbono apenas; Composições contendo derivados desses polímeros
04
Polissilaxonos
07
contendo silício ligado a grupos alifáticos insaturados
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
K
USO DE SUBSTÂNCIAS INORGÂNICAS OU ORGÂNICAS NÃO-MACROMOLECULARES COMO INGREDIENTES DE COMPOSIÇÕES
3
Uso de ingredientes inorgânicos
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
K
USO DE SUBSTÂNCIAS INORGÂNICAS OU ORGÂNICAS NÃO-MACROMOLECULARES COMO INGREDIENTES DE COMPOSIÇÕES
5
Uso de ingredientes orgânicos
04
Compostos contendo oxigênio
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
K
USO DE SUBSTÂNCIAS INORGÂNICAS OU ORGÂNICAS NÃO-MACROMOLECULARES COMO INGREDIENTES DE COMPOSIÇÕES
5
Uso de ingredientes orgânicos
16
Compostos contendo nitrogênio
34
Compostos heterocíclicos tendo nitrogênio no anel
3467
tendo mais de dois átomos de nitrogênio no anel
3477
Anéis com 6 membros
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
K
USO DE SUBSTÂNCIAS INORGÂNICAS OU ORGÂNICAS NÃO-MACROMOLECULARES COMO INGREDIENTES DE COMPOSIÇÕES
5
Uso de ingredientes orgânicos
54
Compostos contendo silício
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
L
COMPOSIÇÕES DE COMPOSTOS MACROMOLECULARES
63
Composições de resinas epóxi; Composições de derivados de resinas epóxi
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
L
COMPOSIÇÕES DE COMPOSTOS MACROMOLECULARES
83
Composições de compostos macromoleculares obtidos por reações formando na cadeia principal da macromolécula uma ligação contendo silício com ou sem enxofre, nitrogênio, oxigênio ou carbono apenas; Composições contendo derivados desses polímeros
04
Polissilaxonos
05
contendo silício ligado ao hidrogênio
H ELECTRICIDADE
01
ELEMENTOS ELÉTRICOS BÁSICOS
L
DISPOSITIVOS SEMICONDUTORES; DISPOSITIVOS ELÉTRICOS DE ESTADO SÓLIDO NÃO INCLUÍDOS EM OUTRO LOCAL
23
Detalhes de semicondutores ou outros dispositivos de estado sólido
28
Encapsulamento, p. ex., camadas de encapsulação, revestimentos
29
caracterizada pelo material
H ELECTRICIDADE
01
ELEMENTOS ELÉTRICOS BÁSICOS
L
DISPOSITIVOS SEMICONDUTORES; DISPOSITIVOS ELÉTRICOS DE ESTADO SÓLIDO NÃO INCLUÍDOS EM OUTRO LOCAL
23
Detalhes de semicondutores ou outros dispositivos de estado sólido
28
Encapsulamento, p. ex., camadas de encapsulação, revestimentos
31
caracterizada por sua disposição
H ELECTRICIDADE
01
ELEMENTOS ELÉTRICOS BÁSICOS
L
DISPOSITIVOS SEMICONDUTORES; DISPOSITIVOS ELÉTRICOS DE ESTADO SÓLIDO NÃO INCLUÍDOS EM OUTRO LOCAL
33
Dispositivos semicondutores com pelo menos uma barreira de potencial ou barreira de superfície especialmente adaptados para a emissão de luz; Processos ou aparelhos especialmente adaptados para a fabricação ou tratamento do mesmo ou de suas partes integrantes; Detalhes dos mesmos
48
caracterizado pelos encapsulamentos do corpo semicondutor
52
Encapsulamentos
56
Materiais, p. ex., epóxi ou resina de silicone
Requerentes:
株式会社ダイセル DAICEL CORPORATION [JP/JP]; 大阪府大阪市北区大深町3番1号 3-1, Ofuka-cho, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300011, JP
Inventores:
籔野真也 YABUNO, Shinya; JP
中川泰伸 NAKAGAWA, Yasunobu; JP
Mandatário:
特許業務法人後藤特許事務所 GOTO & CO.; 大阪府大阪市北区紅梅町2番18号 2-18, Kobai-cho, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300038, JP
Dados da prioridade:
2017-00545416.01.2017JP
Título (EN) CURABLE RESIN COMPOSITION, CURED PRODUCT THEREOF, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE DURCISSABLE, PRODUT DURCI À BASE DE CELLE-CI ET DISPOSITIF SEMI-CONDUCTEUR
(JA) 硬化性樹脂組成物、その硬化物、及び半導体装置
Resumo:
(EN) The purpose of the present invention is to provide a curable resin composition in which an increase in hardness or a decrease in elongation caused by heat or light is suppressed and which forms a tough cured product. The present invention provides a curable resin composition that contains the following components: a polyorganosiloxane at a quantity of 0.01-90 wt% relative to the overall composition, the polyorganosiloxane represented by the average unit formula (SiO4/2)a5(R1bSiO3/2)a6(R1b2SiO2/2)a7(R1b3SiO1/2)a8 [In the formula, R1b denotes an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, or the like. Relative to the overall quantity of R1b, the quantity of alkyl groups is 30-98 mol%, the quantity of aryl groups is 30-98 mol%, and the quantity of alkenyl groups is 1-20 mol%. a5 > 0, a6 ≥ 0, 0.03 ≤ a7 ≤ 0.7, a8 > 0, 0.01 ≤ a5/a7 ≤ 10, and a5+a6+a7+a8 = 1.]; a polyorganosiloxane at a quantity whereby the amount of SiH groups is 0.5-2 moles relative to 1 mole of alkenyl groups bonded to silicon atoms, the polyorganosiloxane represented by the average composition R2mHnSiO[(4-m-n)/2] [In the formula, R2 denotes an alkyl group or an aryl group. At least two SiH groups are present. 0.7 ≤ m ≤ 2.1, 0.001 ≤ n ≤ 1, and 0.8 ≤ m+n ≤ 3.]; and a hydrosilylation catalyst.
(FR) L'objectif de la présente invention est de proposer une composition de résine durcissable dont l'augmentation de la dureté ou la diminution de l'allongement sous l'effet de la chaleur ou de la lumière est supprimée et qui forme un produit durci résistant. La présente invention concerne une composition de résine durcissable qui contient les composants suivants : un polyorganosiloxane à hauteur de 0,01 à 90 % en poids par rapport à la composition dans son ensemble, le polyorganosiloxane étant représenté par la formule unitaire moyenne (SiO4/2) a5(R1bSiO3/2)a6(R1b 2SiO2/2)a7(R1b 3SiO1/2)a8 [dans la formule, R1b représente un groupe alkyle, un groupe aryle, un groupe alcényle, ou similaire. Par rapport à la quantité totale de R1b, la quantité de groupes alkyle est égale à 30 à 98 % en moles, la quantité de groupes aryle à 30 à 98 % en moles et la quantité de groupes alcényle à 1 à 20 % en moles. A5 > 0, a6 ≥ 0, 0,03 ≤ a7 ≤ 0,7, a8 > 0, 0,01 ≤ a5/a7 ≤ 10 et a5 + a6 + a7 + a8 = 1] ;un polyorganosiloxane présent en quantité telle à ce que la quantité de groupes SiH est égale à 0,5 à 2 moles pour 1 mole de groupes alcényle liés aux atomes de silicium, le polyorganosiloxane étant représenté par la composition moyenne R2 mHnSiO [(4-m-n)/2] [dans la formule, R2 représente un groupe alkyle ou un groupe aryle. Au moins deux groupes SiH sont présents. 0,7 ≤ m ≤ 2,1, 0,001 ≤ n ≤ 1 et 0,8 ≤ m + n ≤ 3] ;et un catalyseur d'hydrosilylation.
(JA) 本発明は熱・光による硬度上昇や伸度低下が抑制され、強靭な硬化物を形成する硬化性樹脂組成物を提供することを目的とする。 本発明は、下記成分を含む硬化性樹脂組成物を提供する。 平均単位式:(SiO4/2a5(R1bSiO3/2a6(R1b2SiO2/2a7(R1b3SiO1/2a8 [式中、R1bはアルキル基、アリール基、アルケニル基等。R1b全量に対してアルキル基は30~98モル%、アリール基は30~98モル%、アルケニル基は1~20モル%。a5>0、a6≧0、0.03≦a7≦0.7、a8>0、0.01≦a5/a7≦10、a5+a6+a7+a8=1]で表されるポリオルガノシロキサンを組成物全量に対して0.01~90重量% 平均組成:R2mnSiO[(4-m-n)/2] [式中、R2は、アルキル基、アリール基。SiH基を少なくとも2個有する。0.7≦m≦2.1、0.001≦n≦1、0.8≦m+n≦3]で表されるポリオルガノシロキサンをケイ素原子に結合したアルケニル基1モルに対して、SiH基が0.5~2モルとなる量 ヒドロシリル化触媒
front page image
Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organização Regional Africana da Propriedade Intelectual (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Instituto Eurasiático de Patentes (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Instituto Europeu de Patentes (IEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organização Africana da Propriedade Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Língua de publicação: Japonês (JA)
Língua de depósito: Japonês (JA)