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1. (WO2018061945) MEASURING SYSTEM, SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
Dados bibliográficos mais recentes no arquivo da Secretaria InternacionalSubmeter observação

№ de pub.: WO/2018/061945 № do pedido internacional: PCT/JP2017/033954
Data de publicação: 05.04.2018 Data de depósito internacional: 20.09.2017
CIP:
G03F 9/00 (2006.01) ,G01B 21/00 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,H01L 21/68 (2006.01)
G FÍSICA
03
FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TÉCNICAS SEMELHANTES UTILIZANDO ONDAS OUTRAS QUE NÃO ONDAS ÓPTICAS; ELETROGRAFIA; HOLOGRAFIA
F
PRODUÇÃO FOTOMECÂNICA DE SUPERFÍCIES TEXTURIZADAS OU ESTAMPADAS, p. ex., PARA IMPRESSÃO, PARA PROCESSAMENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUTORES; MATERIAIS PARA AS MESMAS; ORIGINAIS PARA AS MESMAS; APARELHOS ESPECIALMENTE ADAPTADOS PARA ESSE FIM
9
Registro ou enquadramento de originais, máscaras, molduras, chapas fotográficas ou superfícies texturadas ou estampadas, p. ex., automaticamente
G FÍSICA
01
MEDIÇÃO; TESTE
B
MEDIÇÃO DE COMPRIMENTOS, ESPESSURAS OU OUTRAS DIMENSÕES LINEARES SEMELHANTES; MEDIÇÃO DE ÂNGULOS; MEDIÇÃO DE ÁREAS; MEDIÇÃO DE IRREGULARIDADES DE SUPERFÍCIES OU CONTORNOS
21
Disposições de medição ou detalhes das mesmas desde que não sejam adaptadas a tipos especiais de meios de medição objeto dos grupos precedentes
G FÍSICA
03
FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TÉCNICAS SEMELHANTES UTILIZANDO ONDAS OUTRAS QUE NÃO ONDAS ÓPTICAS; ELETROGRAFIA; HOLOGRAFIA
F
PRODUÇÃO FOTOMECÂNICA DE SUPERFÍCIES TEXTURIZADAS OU ESTAMPADAS, p. ex., PARA IMPRESSÃO, PARA PROCESSAMENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUTORES; MATERIAIS PARA AS MESMAS; ORIGINAIS PARA AS MESMAS; APARELHOS ESPECIALMENTE ADAPTADOS PARA ESSE FIM
7
Produção fotomecânica, p. ex., fotolitografia, produção de superfícies texturizadas ou estampadas, p. ex., superfícies para impressão; Materiais para esse fim, p. ex., compreendendo fotoresistes; Aparelhos especialmente adaptados para esse fim
20
Exposição; aparelhos para esse fim
H ELECTRICIDADE
01
ELEMENTOS ELÉTRICOS BÁSICOS
L
DISPOSITIVOS SEMICONDUTORES; DISPOSITIVOS ELÉTRICOS DE ESTADO SÓLIDO NÃO INCLUÍDOS EM OUTRO LOCAL
21
Processos ou aparelhos especialmente adaptados para a manufatura ou tratamento dos dispositivos semicondutores ou de dispositivos de estado sólido ou de partes dos mesmos
67
Aparelhos especialmente adaptados para manipulação de dispositivos semicondutores ou de dispositivos elétricos de estado sólido durante a fabricação ou tratamento dos mesmos; Aparelhos especialmente adaptados para manipulação de pastilhas ("wafers") durante a fabricação ou tratamento de dispositivos semicondutores ou dispositivos elétricos de estado sólido ou componentes
68
através do posicionamento, orientação ou alinhamento
Requerentes:
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区港南二丁目15番3号 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
Inventores:
一ノ瀬 剛 ICHINOSE, Go; JP
道正 智則 DOSHO, Tomonori; JP
Mandatário:
立石 篤司 TATEISHI, Atsuji; JP
Dados da prioridade:
2016-19281030.09.2016JP
Título (EN) MEASURING SYSTEM, SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) SYSTÈME DE MESURE, SYSTÈME DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
(JA) 計測システム及び基板処理システム、並びにデバイス製造方法
Resumo:
(EN) A measuring system (5001) to be used on the production line of a micro device is independently provided from an exposure apparatus. The measuring system (5001) is provided with: a plurality of measuring apparatuses (1001-1003), which respectively measure substrates (for instance, substrates having been subjected to at least one process but before being coated with a sensitive agent); and a transfer system for receiving/delivering the substrates from/to the measuring apparatuses. The measuring apparatuses include: the first measuring apparatus (1001) that acquires, by being set to first conditions, the positional information of a plurality of marks formed on the substrates; and the second measuring apparatus (1002) that acquires, by being set to the first conditions, the positional information of marks formed on another substrate (for instance, another substrate included in the lot of the substrate, the positional information of which is to be acquired by means of the first measuring device set to the first conditions).
(FR) Un système de mesure (5001) à utiliser sur la ligne de production d'un micro-dispositif est obtenu indépendamment à partir d'un appareil d'exposition. Le système de mesure (5001) comprend : une pluralité d'appareils de mesure (1001-1003) qui mesurent respectivement des substrats (par exemple, des substrats ayant été soumis à au moins un traitement, mais avant d'être revêtus d'un agent sensible); et un système de transfert permettant de recevoir les substrats provenant des appareils de mesure et de les diriger vers ces derniers. Les appareils de mesure comprennent : le premier appareil de mesure (1001) qui acquiert, comme défini selon des premières conditions, les informations de position d'une pluralité de marques formées sur les substrats; et le second appareil de mesure (1002) qui acquiert, comme défini selon les premières conditions, les informations de position de marques formées sur un autre substrat (par exemple, un autre substrat inclus dans l'ensemble du substrat, dont les informations de position doivent être acquises au moyen du premier dispositif de mesure défini selon les premières conditions).
(JA) マイクロデバイスの製造ラインで用いられる計測システム(500)は、露光装置とは独立して設けられている。計測システム(500)は、それぞれ基板(例えば少なくとも1つのプロセス処理を経た後、感応剤が塗布される前の基板)に対する計測処理を行なう複数の計測装置(100~100)と、複数の計測装置と基板の受け渡しを行うための搬送システムと、を備えている。複数の計測装置は、基板に形成された複数のマークの位置情報を第1条件の設定の下で取得する第1計測装置(100)と、別の基板(例えば、第1計測装置において第1条件の設定の下で位置情報の取得が行われる基板と同一のロットに含まれる別の基板)に形成された複数のマークの位置情報を第1条件の設定の下で取得する第2計測装置(100)と、を含む。
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Organização Regional Africana da Propriedade Intelectual (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Instituto Eurasiático de Patentes (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Instituto Europeu de Patentes (IEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organização Africana da Propriedade Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Língua de publicação: Japonês (JA)
Língua de depósito: Japonês (JA)
Também publicado como:
KR1020190047020CN109791379