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1. (WO2017208278) ELECTRON BEAM STERILIZATION DEVICE AND ELECTRON BEAM STERILIZATION METHOD
Dados bibliográficos mais recentes no arquivo da Secretaria Internacional   

№ de pub.: WO/2017/208278 № do pedido internacional: PCT/JP2016/002621
Data de publicação: 07.12.2017 Data de depósito internacional: 31.05.2016
CIP:
A61L 2/08 (2006.01) ,B65B 55/04 (2006.01) ,B65B 55/08 (2006.01)
A NECESSIDADES HUMANAS
61
CIÊNCIA MÉDICA OU VETERINÁRIA; HIGIENE
L
MÉTODOS OU APARELHOS PARA ESTERILIZAR MATERIAIS OU OBJETOS EM GERAL; DESINFECÇÃO, ESTERILIZAÇÃO OU DESODORIZAÇÃO DO AR; ASPECTOS QUÍMICOS DE ATADURAS, CURATIVOS, ALMOFADAS ABSORVENTES OU ARTIGOS CIRÚRGICOS; MATERIAIS PARA ATADURAS, CURATIVOS, ALMOFADAS ABSORVENTES OU ARTIGOS CIRÚRGICOS
2
Métodos ou aparelhos para desinfecção ou esterilização de materiais ou objetos diferentes de alimentos ou lentes de contato; Acessórios dos mesmos
02
usando fenômenos físicos
08
Radiação
B OPERAÇÕES DE PROCESSAMENTO; TRANSPORTE
65
TRANSPORTE; EMBALAGEM; ARMAZENAMENTO; MANIPULAÇÃO DE MATERIAL DELGADO OU FILAMENTAR
B
MÁQUINAS, APARELHOS OU DISPOSITIVOS PARA OU MÉTODOS DE EMBALAR ARTIGOS OU MATERIAIS; DESEMBALAGEM
55
Conservação, proteção ou esterilização das embalagens ou de seus conteúdos juntamente com a embalagem
02
Esterilização, p. ex., de embalagens prontas
04
Esterilização de invólucros ou receptáculos, antes de ou durante a embalagem
B OPERAÇÕES DE PROCESSAMENTO; TRANSPORTE
65
TRANSPORTE; EMBALAGEM; ARMAZENAMENTO; MANIPULAÇÃO DE MATERIAL DELGADO OU FILAMENTAR
B
MÁQUINAS, APARELHOS OU DISPOSITIVOS PARA OU MÉTODOS DE EMBALAR ARTIGOS OU MATERIAIS; DESEMBALAGEM
55
Conservação, proteção ou esterilização das embalagens ou de seus conteúdos juntamente com a embalagem
02
Esterilização, p. ex., de embalagens prontas
04
Esterilização de invólucros ou receptáculos, antes de ou durante a embalagem
08
por irradiação
Requerentes:
三菱重工機械システム株式会社 MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES MACHINERY SYSTEMS, LTD. [JP/JP]; 兵庫県神戸市兵庫区和田崎町一丁目1番1号 1-1, Wadasaki-cho 1-chome, Hyogo-ku, Kobe-shi, Hyogo 6528585, JP
Inventores:
水川 憲二 MIZUKAWA, Kenji; JP
上田 敦士 UEDA, Atsushi; JP
津尾 篤志 TSUO, Atsushi; JP
Mandatário:
大場 充 OBA, Mitsuru; JP
Dados da prioridade:
Título (EN) ELECTRON BEAM STERILIZATION DEVICE AND ELECTRON BEAM STERILIZATION METHOD
(FR) DISPOSITIF DE STÉRILISATION PAR FAISCEAU D'ÉLECTRONS ET PROCÉDÉ DE STÉRILISATION PAR FAISCEAU D'ÉLECTRONS
(JA) 電子線殺菌装置及び電子線殺菌方法
Resumo:
(EN) This electron beam sterilization device includes: a gripper group 27C that receives preforms PF which are objects to be sterilized, and then holds and conveys the preforms PF to a regripping position; a gripper group 29C that receives the preforms PF from the gripper group 27C, and then holds and conveys the preforms PF downstream; and an electron beam irradiation unit 20 that irradiates with an electron beam EB the preforms PF that pass through an electron beam irradiation area EA which includes the regripping position and areas in front of and behind the regripping position.
(FR) La présente invention concerne un dispositif de stérilisation par faisceau d'électrons qui comprend : un groupe de dispositifs de préhension (27C) qui reçoit des préformes (PF pour PreForm) qui sont des objets qui doivent être stérilisés, et supporte et transporte ensuite les préformes (PF) jusqu'à une position de nouvelle préhension; un groupe de dispositifs de préhension (29C) qui reçoit les préformes (PF) du groupe de dispositifs de préhension (27C) et supporte et transporte ensuite les préformes (PF) vers l'aval; et une unité d'irradiation de faisceaux d'électrons (20) qui irradie avec un faisceau d'électrons (EB pour Electron Beam) les préformes (PF) qui passent à travers une zone d'irradiation de faisceau d'électrons (EA) qui comprend la position de nouvelle préhension et des zones situées devant et derrière la position de nouvelle préhension.
(JA) 本発明の電子線殺菌装置は、殺菌対象物であるプリフォームPFを受け取った後に、掴み換え位置までプリフォームPFを把持しながら搬送するグリッパ群27Cと、グリッパ群27CからプリフォームPFを受け取った後に、プリフォームPFを把持しながら下流に向けて搬送するグリッパ群29Cと、掴み換え位置と掴み換え位置の前後を含む電子線照射領域EAを通過するプリフォームPFに電子線EBを照射する電子線の照射部20と、を備える。
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Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organização Regional Africana da Propriedade Intelectual (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Instituto Eurasiático de Patentes (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
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Organização Africana da Propriedade Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Língua de publicação: japonês (JA)
Língua de depósito: japonês (JA)