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1. (WO2017002506) IMPRINT MATERIAL
Dados bibliográficos mais recentes no arquivo da Secretaria Internacional

№ de pub.: WO/2017/002506 № do pedido internacional: PCT/JP2016/066010
Data de publicação: 05.01.2017 Data de depósito internacional: 31.05.2016
CIP:
H01L 21/027 (2006.01) ,B29C 59/02 (2006.01) ,C08F 2/44 (2006.01) ,C08F 220/26 (2006.01) ,C08F 283/12 (2006.01) ,C08F 290/06 (2006.01)
H ELECTRICIDADE
01
ELEMENTOS ELÉTRICOS BÁSICOS
L
DISPOSITIVOS SEMICONDUTORES; DISPOSITIVOS ELÉTRICOS DE ESTADO SÓLIDO NÃO INCLUÍDOS EM OUTRO LOCAL
21
Processos ou aparelhos especialmente adaptados para a manufatura ou tratamento dos dispositivos semicondutores ou de dispositivos de estado sólido ou de partes dos mesmos
02
Fabricação ou tratamento de dispositivos semicondutores ou de partes dos mesmos
027
Fabricação de máscaras sobre corpos semicondutores para tratamento fotolitográfico posterior, não previsto nos subgrupos H01L21/18 ou H01L21/34186
B OPERAÇÕES DE PROCESSAMENTO; TRANSPORTE
29
PROCESSAMENTO DE MATÉRIAS PLÁSTICAS; PROCESSAMENTO DE SUBSTÂNCIAS EM ESTADO PLÁSTICO EM GERAL
C
MODELAGEM OU UNIÃO DE MATÉRIAS PLÁSTICAS; MODELAGEM DE SUBSTÂNCIAS EM ESTADO PLÁSTICO, EM GERAL; PÓS-TRATAMENTO DE PRODUTOS MODELADOS, p. ex.,REPARO
59
Modelagem de superfícies, p. ex., gravação; Aparelhos para esse fim
02
por meios mecânicos, p. ex., por prensagem
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
F
COMPOSTOS MACROMOLECULARES OBTIDOS POR REAÇÕES COMPREENDENDO APENAS LIGAÇÕES INSATURADAS CARBONO-CARBONO
2
Processos de polimerização
44
Polimerização na presença de compostos ingredientes p. ex., plastificantes, matérias corantes, enchimentos
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
F
COMPOSTOS MACROMOLECULARES OBTIDOS POR REAÇÕES COMPREENDENDO APENAS LIGAÇÕES INSATURADAS CARBONO-CARBONO
220
Copolímeros de compostos tendo um ou mais radicais alifáticos insaturados, tendo cada qual apenas uma ligação dupla carbono-carbono, e sendo apenas um terminado por um único radical carboxila ou um sal, anidrido, éster, amida, imida ou nitrila do mesmo
02
Ácidos monocarboxílicos tendo menos de dez átomos de carbono; Seus derivados
10
Ésteres
26
Ésteres contendo oxigênio além do oxigênio carboxi
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
F
COMPOSTOS MACROMOLECULARES OBTIDOS POR REAÇÕES COMPREENDENDO APENAS LIGAÇÕES INSATURADAS CARBONO-CARBONO
283
Compostos macromoleculares obtidos pela polimerização de monômeros sobre os polímeros incluídos na subclasse C08G127
12
sobre polisiloxanos
C QUÍMICA; METALURGIA
08
COMPOSTOS MACROMOLECULARES ORGÂNICOS; SUA PREPARAÇÂO OU SEU PROCESSAMENTO QUÍMICO; COMPOSIÇÕES BASEADAS NOS MESMOS
F
COMPOSTOS MACROMOLECULARES OBTIDOS POR REAÇÕES COMPREENDENDO APENAS LIGAÇÕES INSATURADAS CARBONO-CARBONO
290
Compostos macromoleculares obtidos através de polimerização de monômeros sobre polímeros modificados por introdução de grupos terminais ou laterais alifáticos insaturados
02
sobre polímeros modificados por introdução de grupos terminais insaturados
06
Polímeros fornecidos pela subclasse C08G53
Requerentes:
日産化学工業株式会社 NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 東京都千代田区神田錦町三丁目7番地1 7-1, Kanda-Nishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010054, JP
Inventores:
小林 淳平 KOBAYASHI, Junpei; JP
加藤 拓 KATO, Taku; JP
首藤 圭介 SHUTO, Keisuke; JP
鈴木 正睦 SUZUKI, Masayoshi; JP
Mandatário:
特許業務法人はなぶさ特許商標事務所 HANABUSA PATENT & TRADEMARK OFFICE; 東京都千代田区神田駿河台3丁目2番地 新御茶ノ水アーバントリニティ Shin-Ochanomizu Urban Trinity, 2, Kandasurugadai 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010062, JP
Dados da prioridade:
2015-12986129.06.2015JP
Título (EN) IMPRINT MATERIAL
(FR) MATÉRIAU D'EMPREINTE
(JA) インプリント材料
Resumo:
(EN) [Problem] To provide a novel imprint material. [Solution] An imprint material which contains the component (A), component (B), component (C) and component (D) described below. (A) a compound represented by formula (1) (B) a compound represented by formula (2) (C) a compound represented by formula (3) (D) a photopolymerization initiator (In the formulae, each R1 independently represents a hydrogen atom or a methyl group; R2 represents a hydrocarbon group having 1-5 carbon atoms, which may have a hydroxy group as a substituent; m represents 2 or 3; X represents a divalent linking group having an ethylene oxide unit and/or a propylene oxide unit; R3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1-3 carbon atoms; n represents 1 or 2; in cases where n is 1, R4 represents an alkyl group having 1-12 carbon atoms, which may be substituted by at least one substituent; and in cases where n is 2, R4 represents an alkylene group having 1-12 carbon atoms, which may be substituted by at least one substituent.)
(FR) Le problème décrit par la présente invention est de fournir un nouveau matériau d'empreinte. La solution selon l'invention porte sur un matériau d'empreinte qui contient le constituant (A), le constituant (B), le constituant (C) et le constituant (D) décrits ci-après. (A) un composé représenté par la formule (1), (B) un composé représenté par la formule (2), (C) un composé représenté par la formule (3), (D) un initiateur de photopolymérisation, (dans les formules, chaque R1 représente indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe méthyle ; R2 représente un groupe hydrocarboné comportant de 1 à 5 atomes de carbone, qui peut posséder un groupe hydroxy comme substituant ; m équivaut à 2 ou 3 ; X représente un groupe de liaison divalent comportant un motif oxyde d'éthylène et/ou un motif oxyde de propylène ; R3 représente un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle comportant de 1 à 3 atomes de carbone ; n équivaut à 1 ou 2 ; dans les cas où n équivaut à 1, R4 représente un groupe alkyle comportant de 1 à 12 atomes de carbone, qui peut être substitué par au moins un substituant ; et dans les cas où n équivaut à 2, R4 représente un groupe alkylène comportant 1 à 12 atomes de carbone, qui peut être substitué par au moins un substituant).
(JA) 【課題】 新規なインプリント材料を提供すること。 【解決手段】 下記(A)成分、(B)成分、(C)成分及び(D)成分を含有するインプリント材料。 (A)下記式(1)で表される化合物 (B)下記式(2)で表される化合物 (C)下記式(3)で表される化合物 (D)光重合開始剤 (式中、Rはそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Rは置換基としてヒドロキシ基を有してもよい炭素原子数1乃至5の炭化水素基を表し、mは2又は3を表し、Xはエチレンオキサイドユニット及び/又はプロピレンオキサイドユニットを有する二価の連結基を表し、Rは水素原子又は炭素原子数1乃至3のアルキル基を表し、nは1又は2を表し、nが1を表す場合、Rは、少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい、炭素原子数1乃至12のアルキル基を表し、nが2を表す場合、Rは、少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい、炭素原子数1乃至12のアルキレン基を表す。)
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Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organização Regional Africana da Propriedade Intelectual (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Instituto Eurasiático de Patentes (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Instituto Europeu de Patentes (IEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organização Africana da Propriedade Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Língua de publicação: Japonês (JA)
Língua de depósito: Japonês (JA)
Também publicado como:
CN107710385KR1020180021725JPWO2017002506US20180180999