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1. (WO2016193968) METROLOGY INSPECTION APPARATUS
Dados bibliográficos mais recentes no arquivo da Secretaria Internacional   

№ de pub.: WO/2016/193968 № do pedido internacional: PCT/IL2016/050555
Data de publicação: 08.12.2016 Data de depósito internacional: 29.05.2016
CIP:
G01N 23/22 (2006.01) ,G01N 21/00 (2006.01)
G FÍSICA
01
MEDIÇÃO; TESTE
N
INVESTIGAÇÃO OU ANÁLISE DOS MATERIAIS PELA DETERMINAÇÃO DE SUAS PROPRIEDADES QUÍMICAS OU FÍSICAS
23
Investigação ou análise de materiais pelo uso da radiação de ondas ou partículas não abrangidas pelo grupo G01N21/ ou G01N22/173
22
pela medição de emissão secundária
G FÍSICA
01
MEDIÇÃO; TESTE
N
INVESTIGAÇÃO OU ANÁLISE DOS MATERIAIS PELA DETERMINAÇÃO DE SUAS PROPRIEDADES QUÍMICAS OU FÍSICAS
21
Investigação ou análise de materiais pelo uso de meios ópticos, i.e., usando raios infravermelhos, visíveis ou ultravioletas
Requerentes:
XWINSYS LTD. [IL/IL]; 6 Haticshoret Street Rama Gabriel 20307049 Migdal Haemek, IL
Inventores:
REINIS, Doron; IL
GEFFEN, Michael; IL
PERETZ, Roni; IL
SMITH, Colin; IL
Mandatário:
LUDAR, Aryeh; Pastel LTD. 39 Barkan Street P O Box 84 2014200 Yuvalim, IL
Dados da prioridade:
62/169,01801.06.2015US
Título (EN) METROLOGY INSPECTION APPARATUS
(FR) APPAREIL D'INSPECTION DE MÉTROLOGIE
Resumo:
(EN) METROLOGY INSPECTION APPARATUS [001]The present disclosure provides a method and an apparatus for apparatus for inspecting a semiconductor wafer for abnormalities by accurately measuring elemental concentration at a target area. The apparatus includes an x-ray imaging subsystem for measuring an elemental composition at the target area of the semiconductor wafer. The apparatus further includes an edxrf subsystem for measuring an elemental concentration at the target area of the semiconductor wafer. The elemental concentration may be calibrated by first correlating the elemental concentration measurements obtained using x-ray imaging system for the target area with the elemental concentration measurements obtained using the edxrf subsystem for the target area to receive an augmented and accurate elemental concentration measurement for the target area of the semiconductor wafer.
(FR) La présente invention concerne un procédé et un appareil permettant d'inspecter une tranche de semi-conducteur par rapport à des anomalies en mesurant précisément la concentration élémentaire au niveau d'une zone cible. L'appareil comprend : un sous-système d'imagerie par rayons X conçu pour mesurer une composition élémentaire au niveau de la zone cible de la tranche de semi-conducteur ; et un sous-système edxrf conçu pour mesurer une concentration élémentaire au niveau de la zone cible de la tranche de semi-conducteur. La concentration élémentaire peut être étalonnée en corrélant les mesures des concentrations élémentaires obtenues en utilisant un système d'imagerie par rayons X pour la zone cible aux mesures des concentrations élémentaires obtenues en utilisant le sous-système edxrf pour la zone cible de façon à recevoir une mesure de concentration élémentaire augmentée et précise pour la zone cible de la tranche de semi-conducteur.
front page image
Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organização Regional Africana da Propriedade Intelectual (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Instituto Eurasiático de Patentes (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Instituto Europeu de Patentes (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organização Africana da Propriedade Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Língua de publicação: inglês (EN)
Língua de depósito: inglês (EN)