Algum conteúdo deste aplicativo está indisponível no momento.
Se esta situação persistir, por favor entre em contato conoscoFale conosco & Contato
1. (WO2013113634) LITHOGRAPHIC APPARATUS COMPONENT AND LITHOGRAPHIC APPARATUS
Dados bibliográficos mais recentes no arquivo da Secretaria Internacional   

№ de pub.: WO/2013/113634 № do pedido internacional: PCT/EP2013/051480
Data de publicação: 08.08.2013 Data de depósito internacional: 25.01.2013
CIP:
G03F 7/20 (2006.01)
G FÍSICA
03
FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TÉCNICAS SEMELHANTES UTILIZANDO ONDAS OUTRAS QUE NÃO ONDAS ÓPTICAS; ELETROGRAFIA; HOLOGRAFIA
F
PRODUÇÃO FOTOMECÂNICA DE SUPERFÍCIES TEXTURIZADAS OU ESTAMPADAS, p. ex., PARA IMPRESSÃO, PARA PROCESSAMENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUTORES; MATERIAIS PARA AS MESMAS; ORIGINAIS PARA AS MESMAS; APARELHOS ESPECIALMENTE ADAPTADOS PARA ESSE FIM
7
Produção fotomecânica, p. ex., fotolitografia, produção de superfícies texturizadas ou estampadas, p. ex., superfícies para impressão; Materiais para esse fim, p. ex., compreendendo fotoresistes; Aparelhos especialmente adaptados para esse fim
20
Exposição; aparelhos para esse fim
Requerentes:
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven, NL
Inventores:
KOEVOETS, Adrianus; NL
DONDERS, Sjoerd; NL
VAN SCHOOT, Jan; NL
ZAAL, Koen; NL
CADEE, Theodorus, Petrus, Maria; NL
Mandatário:
SLENDERS, Peter; P.O. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven, NL
Dados da prioridade:
61/592,24330.01.2012US
61/652,92430.05.2012US
61/710,28805.10.2012US
Título (EN) LITHOGRAPHIC APPARATUS COMPONENT AND LITHOGRAPHIC APPARATUS
(FR) APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Resumo:
(EN) A lithographic apparatus component, such as a metrology system or an optical element (e.g., a mirror) is provided with a temperature control system for controlling deformation of the component. The control system includes channels provided close to a surface of the component through which a two phase cooling medium is supplied. The metrology system measures a position of at least a moveable item with respect to a reference position and includes a metrology frame connected to the reference position. An encoder is connected to the moveable item and constructed and arranged to measure a relative position of the encoder with respect to a reference grid. The reference grid may be provided directly on a surface of the metrology frame. A lithographic projection apparatus may have the metrology system for measuring a position of the substrate table with respect to the projection system.
(FR) Un composant d'un appareil lithographique, tel qu'un système de métrologie ou un élément optique (par exemple un miroir) est pourvu d'un système de régulation de température pour réguler la déformation du composant. Le système de régulation comprend des canaux disposés à proximité d'une surface du composant, à travers lesquels une substance de refroidissement à deux phases est fournie. Le système de métrologie mesure la position d'au moins un objet mobile par rapport à une position de référence, et comprend un cadre de métrologie lié à la position de référence. Un codeur est relié à l'objet mobile et a une conception et un agencement lui permettant de mesurer la position relative du codeur par rapport à une grille de référence. La grille de référence peut être disposée directement sur une surface du cadre de métrologie. Un appareil de projection lithographique peut comprendre le système de métrologie pour mesurer la position de la table à substrat par rapport au système de projection.
Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organização Regional Africana da Propriedade Intelectual (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Instituto Eurasiático de Patentes (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Instituto Europeu de Patentes (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organização Africana da Propriedade Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Língua de publicação: inglês (EN)
Língua de depósito: inglês (EN)