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1. (WO2009067688) SYSTEMS AND METHODS FOR PREPARING EPITAXIALLY TEXTURED POLYCRYSTALLINE FILMS
Dados bibliográficos mais recentes no arquivo da Secretaria Internacional

№ de pub.: WO/2009/067688 № do pedido internacional: PCT/US2008/084389
Data de publicação: 28.05.2009 Data de depósito internacional: 21.11.2008
CIP:
H01L 21/20 (2006.01)
H ELECTRICIDADE
01
ELEMENTOS ELÉTRICOS BÁSICOS
L
DISPOSITIVOS SEMICONDUTORES; DISPOSITIVOS ELÉTRICOS DE ESTADO SÓLIDO NÃO INCLUÍDOS EM OUTRO LOCAL
21
Processos ou aparelhos especialmente adaptados para a manufatura ou tratamento dos dispositivos semicondutores ou de dispositivos de estado sólido ou de partes dos mesmos
02
Fabricação ou tratamento de dispositivos semicondutores ou de partes dos mesmos
04
tendo o dispositivo, pelo menos, uma barreira de potencial ou uma barreira de superfície, p. ex., junção PN, camada de depleção, camada de concentração de portadores de carga
18
tendo os dispositivos corpos semicondutores constituídos de elementos do quarto grupo do Sistema periódico ou compostos AIIIBV com ou sem impurezas, p. ex., materiais de dopagem
20
Depósito de materiais semicondutores em uma base, p. ex., crescimento epitaxial
Requerentes:
THE TRUSTEES OF COLUMBIA UNIVERSITY IN THE CITY OF NEW YORK [US/US]; 412 Low Memorial Library 535 West 116th Street New York, NY 10027, US (AllExceptUS)
IM, James, S. [US/US]; US (UsOnly)
Inventores:
IM, James, S.; US
Mandatário:
BIFANO, Larissa, S. ; Wilmer Cutler Pickering Hale And Dorr LLP 60 State Street Boston, MA 02109, US
Dados da prioridade:
60/989,71921.11.2007US
Título (EN) SYSTEMS AND METHODS FOR PREPARING EPITAXIALLY TEXTURED POLYCRYSTALLINE FILMS
(FR) SYSTÈMES ET PROCÉDÉS DE PRÉPARATION DE FILMS POLYCRISTALLINS TEXTURÉS PAR ÉPITAXIE
Resumo:
(EN) The disclosed subject matter relates to systems and methods for preparing epitaxially textured poly crystalline films. In one or more embodiments, the method for making a textured thin film includes providing a precursor film on a substrate, the film includes crystal grains having a surface texture and a non-uniform degree of texture throughout the thickness of the film, wherein at least a portion of the this substrate is transparent to laser irradiation; and irradiating the textured precursor film through the substrate using a pulsed laser crystallization technique at least partially melt the film wherein the irradiated film crystallizes upon cooling to form crystal grains having a uniform degree of texture.
(FR) L'invention concerne des systèmes et des procédés de préparation de films polycristallins texturés par épitaxie. Dans un ou plusieurs modes de réalisation, le procédé de fabrication d'un film mince texturé comprend les étapes qui consistent à prévoir un film de précurseur sur un substrat, le film contenant des grains cristallins ayant une texture de surface et un degré de texturation non uniforme dans l'épaisseur du film, au moins une partie de ce substrat étant transparente au rayonnement laser ; et à irradier le film de précurseur texturé à travers le substrat en utilisant une technique de cristallisation par laser pulsé pour faire fondre le film au moins en partie, le film irradié cristallisant lors de son refroidissement pour former des grains cristallins qui ont un degré de texturation uniforme.
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Língua de publicação: Inglês (EN)
Língua de depósito: Inglês (EN)