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1. (WO2004019128) PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND METHOD FOR PHOTOLITHOGRAPHY AND EXPOSURE APPARATUS AND METHOD USING SAME
Dados bibliográficos mais recentes no arquivo da Secretaria Internacional

№ de pub.: WO/2004/019128 № do pedido internacional: PCT/JP2003/010665
Data de publicação: 04.03.2004 Data de depósito internacional: 22.08.2003
CIP:
G02B 17/08 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G FÍSICA
02
ÓPTICA
B
ELEMENTOS, SISTEMAS OU APARELHOS ÓPTICOS
17
Sistemas com superfícies reflexivas, com ou sem elementos de refração
08
Sistemas catadióptricos
G FÍSICA
03
FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TÉCNICAS SEMELHANTES UTILIZANDO ONDAS OUTRAS QUE NÃO ONDAS ÓPTICAS; ELETROGRAFIA; HOLOGRAFIA
F
PRODUÇÃO FOTOMECÂNICA DE SUPERFÍCIES TEXTURIZADAS OU ESTAMPADAS, p. ex., PARA IMPRESSÃO, PARA PROCESSAMENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUTORES; MATERIAIS PARA AS MESMAS; ORIGINAIS PARA AS MESMAS; APARELHOS ESPECIALMENTE ADAPTADOS PARA ESSE FIM
7
Produção fotomecânica, p. ex., fotolitografia, produção de superfícies texturizadas ou estampadas, p. ex., superfícies para impressão; Materiais para esse fim, p. ex., compreendendo fotoresistes; Aparelhos especialmente adaptados para esse fim
20
Exposição; aparelhos para esse fim
Requerentes:
NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku, Tokyo 100-8331, JP (AllExceptUS)
OMURA, Yasuhiro [JP/JP]; JP (UsOnly)
IKEZAWA, Hironori [JP/JP]; JP (UsOnly)
WILLIAMSON, David, M. [GB/GB]; GB (UsOnly)
Inventores:
OMURA, Yasuhiro; JP
IKEZAWA, Hironori; JP
WILLIAMSON, David, M.; GB
Mandatário:
HASEGAWA, Yoshiki ; SOEI PATENT AND LAW FIRM, Ginza First Bldg. 10-6, Ginza 1-chome Chuo-ku, Tokyo 104-0061, JP
Dados da prioridade:
0311470.919.05.2003GB
2002-24292523.08.2002JP
Título (EN) PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND METHOD FOR PHOTOLITHOGRAPHY AND EXPOSURE APPARATUS AND METHOD USING SAME
(FR) SYSTEME OPTIQUE DE PROJECTION ET PROCEDE ASSOCIE POUR LA PHOTOLITHOGRAPHIE, ET APPAREIL D'EXPOSITION ET PROCEDE ASSOCIE
Resumo:
(EN) Optical Projection System and Method for Photolithography. A lithographic immersion projection system and method for projecting an image at high resolution over a wide field of view. The projection system and method include a final lens which decreases the marginal ray angle of the optical path before light passes into the immersion liquid to impinge on the image plane.
(FR) L'invention concerne un système optique de projection et un procédé associé pour la photolithographie. Elle concerne également un système de projection par immersion lithographique et un procédé de projection d'une image à haute résolution sur un grand champ de vision. Le système de projection comprend une lentille terminale qui réduit l'angle de rayon marginal du chemin optique avant que la lumière entre dans le liquide d'immersion pour venir frapper le plan d'image.
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Estados designados: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
Organização Regional Africana da Propriedade Intelectual (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Instituto Eurasiático de Patentes (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Instituto Europeu de Patentes (IEP) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organização Africana da Propriedade Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Língua de publicação: Inglês (EN)
Língua de depósito: Inglês (EN)
Também publicado como:
KR1020050035890EP1532489JP2005536775US20050248856US20080068573US20080068576
US20080068724US20080094696US20080049306US20080049336CN1668984AU2003256081