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1. (WO1999054786) ELASTOMERIC MASK AND USE IN FABRICATION OF DEVICES, INLCUDING PIXELATED ELECTROLUMINESCENT DISPLAYS
Dados bibliográficos mais recentes no arquivo da Secretaria Internacional   

№ de pub.: WO/1999/054786 № do pedido internacional: PCT/US1999/008623
Data de publicação: 28.10.1999 Data de depósito internacional: 20.04.1999
Pedido de exame (capítulo 2) depositado: 28.10.1999
CIP:
B41C 1/14 (2006.01) ,B05D 1/32 (2006.01) ,G03F 1/00 (2012.01) ,G03F 7/00 (2006.01) ,G03F 7/12 (2006.01) ,H01L 27/32 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01)
B OPERAÇÕES DE PROCESSAMENTO; TRANSPORTE
41
IMPRESSÃO; MÁQUINAS PARA IMPRIMIR LINHAS; MÁQUINAS DE ESCREVER; CARIMBOS
C
PROCESSOS PARA A MANUFATURA OU REPRODUÇÃO DE SUPERFÍCIES DE IMPRESSÃO
1
Preparo da forma
14
para impressão com estêncil ou silk-screen
B OPERAÇÕES DE PROCESSAMENTO; TRANSPORTE
05
PULVERIZAÇÃO OU ATOMIZAÇÃO EM GERAL; APLICAÇÃO DE LÍQUIDOS OU DE OUTROS MATERIAIS FLUENTES A SUPERFÍCIES EM GERAL
D
PROCESSOS PARA APLICAÇÃO DE LÍQUIDOS OU DE OUTROS MATERIAIS FLUENTES A SUPERFÍCIES EM GERAL
1
Processos para aplicação de líquidos ou outros materiais fluentes
32
usando meios para proteger partes de uma superfície que não devem ser revestidas, p. ex., usando estênceis, instrumentos de proteção
G FÍSICA
03
FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TÉCNICAS SEMELHANTES UTILIZANDO ONDAS OUTRAS QUE NÃO ONDAS ÓPTICAS; ELETROGRAFIA; HOLOGRAFIA
F
PRODUÇÃO FOTOMECÂNICA DE SUPERFÍCIES TEXTURIZADAS OU ESTAMPADAS, p. ex., PARA IMPRESSÃO, PARA PROCESSAMENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUTORES; MATERIAIS PARA AS MESMAS; ORIGINAIS PARA AS MESMAS; APARELHOS ESPECIALMENTE ADAPTADOS PARA ESSE FIM
1
Originais para produção fotomecânica de superfícies texturizadas ou padronizadas, p. ex., foto-máscaras ou retículas; máscaras virgens ou películas para as mesmas; Recipientes especialmente adaptados para as mesmas; Preparação das mesmas
G FÍSICA
03
FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TÉCNICAS SEMELHANTES UTILIZANDO ONDAS OUTRAS QUE NÃO ONDAS ÓPTICAS; ELETROGRAFIA; HOLOGRAFIA
F
PRODUÇÃO FOTOMECÂNICA DE SUPERFÍCIES TEXTURIZADAS OU ESTAMPADAS, p. ex., PARA IMPRESSÃO, PARA PROCESSAMENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUTORES; MATERIAIS PARA AS MESMAS; ORIGINAIS PARA AS MESMAS; APARELHOS ESPECIALMENTE ADAPTADOS PARA ESSE FIM
7
Produção fotomecânica, p. ex., fotolitografia, produção de superfícies texturizadas ou estampadas, p. ex., superfícies para impressão; Materiais para esse fim, p. ex., compreendendo fotoresistes; Aparelhos especialmente adaptados para esse fim
G FÍSICA
03
FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TÉCNICAS SEMELHANTES UTILIZANDO ONDAS OUTRAS QUE NÃO ONDAS ÓPTICAS; ELETROGRAFIA; HOLOGRAFIA
F
PRODUÇÃO FOTOMECÂNICA DE SUPERFÍCIES TEXTURIZADAS OU ESTAMPADAS, p. ex., PARA IMPRESSÃO, PARA PROCESSAMENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUTORES; MATERIAIS PARA AS MESMAS; ORIGINAIS PARA AS MESMAS; APARELHOS ESPECIALMENTE ADAPTADOS PARA ESSE FIM
7
Produção fotomecânica, p. ex., fotolitografia, produção de superfícies texturizadas ou estampadas, p. ex., superfícies para impressão; Materiais para esse fim, p. ex., compreendendo fotoresistes; Aparelhos especialmente adaptados para esse fim
12
Produção de formas de impressão para serigrafia ou de formas de impressão similares, p. ex., clichês (estênceis)
H ELECTRICIDADE
01
ELEMENTOS ELÉTRICOS BÁSICOS
L
DISPOSITIVOS SEMICONDUTORES; DISPOSITIVOS ELÉTRICOS DE ESTADO SÓLIDO NÃO INCLUÍDOS EM OUTRO LOCAL
27
Dispositivos consistindo de uma pluralidade de semicondutores ou outros componentes de estado sólido, formados em ou sobre um substrato comum
28
incluindo componentes usando materiais orgânicos como a parte ativa, ou usando uma combinação de materiais orgânicos com outros materiais como parte ativa
32
com componentes especialmente adaptados,para emissão de luz, p. ex.,monitores de tela plana usando diodos emissores de luz orgânicos
H ELECTRICIDADE
01
ELEMENTOS ELÉTRICOS BÁSICOS
L
DISPOSITIVOS SEMICONDUTORES; DISPOSITIVOS ELÉTRICOS DE ESTADO SÓLIDO NÃO INCLUÍDOS EM OUTRO LOCAL
51
Dispositivos de estado sólido usando materiais orgânicos como parte ativa ou usando uma combinação de materiais orgânicos com outros materiais como parte ativa; Processos ou aparelhos especialmente adaptados para a fabricação ou tratamento de tais dispositivos, ou de suas partes integrantes
50
especialmente adaptados para emissão de luz, p. ex.,diodos orgânicos emissores de luz (OLED) ou dispositivo poliméricos emissores de luz (PLED)
H ELECTRICIDADE
05
TÉCNICAS ELÉTRICAS NÃO INCLUÍDAS EM OUTRO LOCAL
B
AQUECIMENTO ELÉTRICO; ILUMINAÇÃO ELÉTRICA NÃO INCLUÍDA EM OUTRO LOCAL
33
Fontes de luz eletroluminescente
10
Aparelhos ou processos especialmente adaptados à fabricação de fontes de luz eletroluminescente
Requerentes:
JACKMAN, Rebecca, J. [GB/US]; US (UsOnly)
DUFFY, David, C. [GB/US]; US (UsOnly)
WHITESIDES, George, M. [US/US]; US (UsOnly)
VAETH, Kathleen, M. [US/US]; US (UsOnly)
JENSEN, Klavs, F. [US/US]; US (UsOnly)
PRESIDENT AND FELLOWS OF HARVARD COLLEGE [US/US]; Holyoke Center Suite 727 1350 Massachusetts Avenue Cambridge, MA 02138, US (AllExceptUS)
MASSACHUSETTS INSTITUTE OF TECHNOLOGY [US/US]; 77 Massachusetts Avenue Cambridge, MA 02139, US (AllExceptUS)
Inventores:
JACKMAN, Rebecca, J.; US
DUFFY, David, C.; US
WHITESIDES, George, M.; US
VAETH, Kathleen, M.; US
JENSEN, Klavs, F.; US
Mandatário:
OYER, Timothy, J.; Wolf, Greenfield & Sacks, P.C. 600 Atlantic Avenue Boston, MA 02210, US
Dados da prioridade:
09/063,74221.04.1998US
Título (EN) ELASTOMERIC MASK AND USE IN FABRICATION OF DEVICES, INLCUDING PIXELATED ELECTROLUMINESCENT DISPLAYS
(FR) MASQUE ELASTOMERE ET SON UTILISATION DANS LA FABRICATION DE DISPOSITIFS, DONT DES AFFICHEURS ELECTROLUMINESCENTS PIXELISES
Resumo:
(EN) An elastomeric mask is provided that allows deposition of a variety of materials through mask openings. The mask seals effectively against substrate surfaces, allowing simple deposition from fluid phase, gas phase, and the like or removal of material using gaseous or liquid etchants. The mask then can be simply peeled from the surface of the substrate leaving the patterned material behind. Multi-layered mask techniques are described in which openings in an upper mask allow selected openings of a lower mask to remain unshielded, while other openings of the lower mask are shielded. A first deposition step, followed by re-orientation of the upper mask to expose a different set of lower mask openings, allows selective deposition of different materials in different openings of the lower mask. Pixelated organic electroluminescent devices are provided via the described technique.
(FR) L'invention concerne un masque élastomère permettant le dépôt d'une variété de matériaux par les ouvertures du masque. Le masque vient en contact étanche efficace contre les surfaces du substrat, ce qui permet le dépôt simple à partir de phase gazeuse ou liquide et similaire ou le retrait de matériaux au moyen d'agents de gravure gazeux ou liquides. Le masque peut ensuite être simplement pelés de la surface du substrat, seul le matériau à motif subsistant. Des techniques de masquage multicouche sont décrites, dans lesquelles des ouvertures présentes dans un masque supérieur permettent aux ouvertures sélectionnées d'un masque inférieur de rester exposées, alors que d'autres ouvertures du masque inférieur reste protégées. Une première étape de dépôt, suivie de la réorientation du masque supérieur pour permettre l'exposition d'un ensemble différent d'ouvertures du masque inférieur, permet le dépôt sélectif de différents matériaux dans différentes ouvertures du masque inférieur. Des dispositifs organiques électroluminescents pixélisés sont produits au moyen de la technique décrite.
Estados designados: CA, JP, US
Instituto Europeu de Patentes (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Língua de publicação: inglês (EN)
Língua de depósito: inglês (EN)