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1. (WO2016086470) SUBSTRATE CLEANING DEVICE AND METHOD FOR CLEANING SUBSTRATE USING SAME
Dados bibliográficos mais recentes no arquivo da Secretaria Internacional   

№ de pub.:    WO/2016/086470    № do pedido internacional:    PCT/CN2014/094526
Data de publicação: 09.06.2016 Data de depósito internacional: 22.12.2014
CIP:
B08B 11/04 (2006.01), B08B 11/00 (2006.01), B08B 3/02 (2006.01), H01L 21/67 (2006.01)
Requerentes: SHENZHEN CHINA STAR OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; No.9-2, Tangming Road, Guangming New District Shenzhen, Guangdong 518132 (CN)
Inventores: DENG, Haifeng; (CN)
Mandatário: YUHONG INTELLECTUAL PROPERTY LAW FIRM; WU Dajian/LIU Hualian West Wing, Suite 713, One Junefield Plaza 6 Xuanwumenwai Street, Xicheng District Beijing 100052 (CN)
Dados da prioridade:
201410719858.3 02.12.2014 CN
Título (EN) SUBSTRATE CLEANING DEVICE AND METHOD FOR CLEANING SUBSTRATE USING SAME
(FR) DISPOSITIF DE NETTOYAGE DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE NETTOYAGE DE SUBSTRAT L'UTILISANT
(ZH) 基板清洗装置和使用其清洗基板的方法
Resumo: front page image
(EN)A substrate cleaning device and a method for cleaning a substrate using same. The substrate cleaning device comprises a shield that comprises a top plate, a side wall extending downward from the top plate and a sprinkler arranged in the shield. The width of the shield and the width of the sprinkler cover the width of the substrate, and the side wall extends to the position near the surface of the substrate. When the substrate cleaning device is used for cleaning the substrate, water drop in external environment cannot drop on the substrate, so that the condition that the substrate has different degrees of etching is avoided, and accordingly the problem that irreparable spots appear on a liquid crystal panel is avoided.
(FR)L'invention concerne un dispositif de nettoyage de substrat et un procédé de nettoyage d'un substrat l'utilisant. Le dispositif de nettoyage de substrat comprend une protection qui comprend une plaque supérieure, une paroi latérale s'étendant vers le bas à partir de la plaque supérieure et un pulvérisateur agencé dans la protection. La largeur de la protection et la largeur du capot de pulvérisateur couvrent la largeur du substrat et la paroi latérale s'étend jusqu'à la position proche de la surface du substrat. Lorsque le dispositif de nettoyage de substrat est utilisé pour le nettoyage du substrat, une goutte d'eau dans l'environnement externe ne peut pas goutter sur le substrat, de sorte que la condition de présentation de degrés différents d'attaque sur le substrat est évitée et, par conséquent, le problème d'apparition de taches irréparables sur un panneau à cristaux liquides est évité.
(ZH)基板清洗装置和使用其清洗基板的方法,该基板清洗装置包括护罩,其包括顶板和从顶板向下延伸的侧壁,设置在护罩内的喷水器。护罩和喷水器的宽度覆盖了基板的宽度,并且侧壁延伸到基板表面附近。在使用该基板清洗装置清洗基板时,外界环境中的水滴不会滴落到基板上,从而避免了基板出现蚀刻程度不同的状况,并且由此避免了液晶面板出现不可修复的斑点的问题。
Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Língua de publicação: Chinese (ZH)
Língua de depósito: Chinese (ZH)