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1. (WO2019066428) 광학 디바이스의 제조 방법
국제사무국에 기록된 최신 서지정보정보 제출

공개번호: WO/2019/066428 국제출원번호: PCT/KR2018/011304
공개일: 04.04.2019 국제출원일: 21.09.2018
IPC:
G02F 1/1337 (2006.01) ,G02F 1/1333 (2006.01)
G SECTION G — 물리학
02
광학
F
광의 강도, 색, 위상, 편광 또는 방향의 제어를 위한 장치 또는 배치, 예. 스위칭, 게이팅, 변조 또는 복조, 의 매체의 광학적성질이 변화에 의하여 광학적 작용이 변화하는 장치 또는 배치; 그와 같은 동작을 위한 기술 또는 처리; 주파수변환; 비선형 광학; 광학적 논리소자; 광학적 아날로그/디지털 변환기
1
독립된 광원으로부터 도달한 광의 강도, 색, 위상, 편광 또는 방향의 제어를 위한 장치 또는 배치, 예. 스위칭, 게이팅 또는 변조 비선형 광학
01
강도, 위상, 편광 또는 색의 제어를 위한 것
13
액정에 기초한 것, 예. 하나의 액정 표시 셀
133
구조배치 ; 액정셀의 작동 ; 회로배치
1333
구조배치
1337
액정분자의 표면유도 배향, 예. 정렬층에 의한
G SECTION G — 물리학
02
광학
F
광의 강도, 색, 위상, 편광 또는 방향의 제어를 위한 장치 또는 배치, 예. 스위칭, 게이팅, 변조 또는 복조, 의 매체의 광학적성질이 변화에 의하여 광학적 작용이 변화하는 장치 또는 배치; 그와 같은 동작을 위한 기술 또는 처리; 주파수변환; 비선형 광학; 광학적 논리소자; 광학적 아날로그/디지털 변환기
1
독립된 광원으로부터 도달한 광의 강도, 색, 위상, 편광 또는 방향의 제어를 위한 장치 또는 배치, 예. 스위칭, 게이팅 또는 변조 비선형 광학
01
강도, 위상, 편광 또는 색의 제어를 위한 것
13
액정에 기초한 것, 예. 하나의 액정 표시 셀
133
구조배치 ; 액정셀의 작동 ; 회로배치
1333
구조배치
출원인:
주식회사 엘지화학 LG CHEM, LTD. [KR/KR]; 서울시 영등포구 여의대로 128 128, Yeoui-daero, Yeongdeungpo-gu, Seoul 07336, KR
발명자:
유정선 YOU, Jung Sun; KR
고동호 KO, Dong Ho; KR
이효진 LEE, Hyo Jin; KR
문인주 MUN, In Ju; KR
김남규 KIM, Nam Gyu; KR
이현준 LEE, Hyun Jun; KR
대리인:
특허법인 다나 DANA PATENT LAW FIRM; 서울시 강남구 역삼로 3길 11 광성빌딩 신관 5층 5th Floor, New Wing, Gwangsung Bldg., 11, Yeoksam-ro 3-gil, Gangnam-gu, Seoul 06242, KR
우선권 정보:
10-2017-012782529.09.2017KR
발명의 명칭: (EN) OPTICAL DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF OPTIQUE
(KO) 광학 디바이스의 제조 방법
요약서:
(EN) The present application relates to an optical device manufacturing method and an optical device. The present application provides a manufacturing method enabling the minimization or possibly the elimination of dotting stains which may occur when an optical device is manufactured by means of a dotting process. Such method, according to the present application, may provide an alignment film exhibiting enhanced alignment properties by improving dotting stains, especially in the presence of a big cell gap or even when high-temperature annealing is impossible as a result of a polymer substrate being applied as a substrate.
(FR) La présente invention concerne un procédé de fabrication de dispositif optique et un dispositif optique. La présente invention concerne un procédé de fabrication permettant la minimisation ou l'élimination de taches pointillage qui peuvent se produire lorsqu'un dispositif optique est fabriqué au moyen d'un processus de pointillage. Un tel procédé, selon la présente invention, peut fournir un film d'alignement présentant des propriétés d'alignement améliorées en améliorant les taches de pointillage, en particulier en présence d'un grand espace de cellules ou même lorsqu'un recuit à haute température est impossible suite à l'application d'un substrat polymère en tant que substrat.
(KO) 본 출원은 광학 디바이스의 제조 방법 및 광학 디바이스에 대한 것이다. 본 출원에서는, 닷팅 공정에 의해 광학 디바이스를 제작하는 경우에 발생할 수 있는 닷팅 얼룩을 최소화하거나, 혹은 없앨 수 있는 제조 방법이 제공된다. 이러한 본 출원의 방법은, 특히 큰 셀갭을 가지거나, 기판으로서 고분자 기판이 적용되어 고온 열처리가 불가능한 경우에도 상기 닷팅 얼룩을 개선하여 배향성이 향상된 배향막을 제공할 수 있다.
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지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
아프리카 지식재산권기구(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 한국어 (KO)
출원언어: 한국어 (KO)