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1. (WO2019066087) VAPOR DEPOSITION DEVICE, DEVICE FOR MANUFACTURING ORGANIC EL PANEL, AND METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC EL PANEL
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2019/066087 국제출원번호: PCT/JP2018/037100
공개일: 04.04.2019 국제출원일: 03.10.2018
IPC:
C23C 14/24 (2006.01) ,C23C 14/04 (2006.01) ,H01L 27/32 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01)
C SECTION C — 화학; 야금
23
금속재료의 피복; 금속 피복재료; 화학적 표면처리; 금속재료의 확산처리; 진공증착, 스퍼터링(SPUTTERING), 이온주입 또는 화학증착에 의한 피복 일반; 금속재료의 방식 또는 이물질 형성 방지 일반
C
금속재료의 피복; 금속 피복재료; 표면 확산, 화학적 전환 또는 치환에 의한 금속재료의 표면처리; 진공증착, 스퍼터링, 이온주입 또는 화학증착에 의한 피복, 일반
14
피복형성재료의 진공증착, 스퍼터링, 또는 이온주입에 의한 피복
22
.피복공정에 특징이 있는 것
24
진공증착
C SECTION C — 화학; 야금
23
금속재료의 피복; 금속 피복재료; 화학적 표면처리; 금속재료의 확산처리; 진공증착, 스퍼터링(SPUTTERING), 이온주입 또는 화학증착에 의한 피복 일반; 금속재료의 방식 또는 이물질 형성 방지 일반
C
금속재료의 피복; 금속 피복재료; 표면 확산, 화학적 전환 또는 치환에 의한 금속재료의 표면처리; 진공증착, 스퍼터링, 이온주입 또는 화학증착에 의한 피복, 일반
14
피복형성재료의 진공증착, 스퍼터링, 또는 이온주입에 의한 피복
04
.선택된 표면부분의 피복, 예. 마스크를 사용하는 것
H SECTION H — 전기
01
기본적 전기소자
L
반도체 장치; 다른 곳에 속하지 않는 전기적 고체 장치
27
하나의 공통기판내 또는 기판상에 형성된 복수의 반도체구성부품 또는 기타 고체구성부품으로 구성된 장치
28
능동 부분으로서 유기 재료를 이용하거나 능동 부분으로서 유기 재료와 다른 재료와의 조합을 이용하는 구성부품을 포함하는 것
32
광방출에 특별히 적용되는 구성부품을 가지는 것, 예.유기 발광 다이오드를 사용한 플랫 패널 디스플레이
H SECTION H — 전기
01
기본적 전기소자
L
반도체 장치; 다른 곳에 속하지 않는 전기적 고체 장치
51
능동 부분으로서 유기 재료를 이용하거나 능동 부분으로서 유기 재료와 다른 재료와의 조합을 이용하는 고체 장치; 그들 장치 또는 그 부품의 제조 또는 처리에 특별히 적용되는 방법 또는 장치
50
광방출에 특별히 적용되는 것, 예. 유기 발광 다이오드(OLED) 또는 고분자 발광 다이오드 (PLED)
H SECTION H — 전기
05
달리 분류되지 않는 전기기술
B
전기가열; 달리 분류되지 않는 전기조명
33
전계 발광 광원
10
전계발광광원의 제조에 특히 적용하는 장치 또는 공정
출원인:
株式会社ブイ・テクノロジー V TECHNOLOGY CO., LTD. [JP/JP]; 神奈川県横浜市保土ヶ谷区神戸町134番地 134, Godo-cho, Hodogaya-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2400005, JP
国立大学法人東北大学 TOHOKU UNIVERSITY [JP/JP]; 宮城県仙台市青葉区片平二丁目1番1号 1-1, Katahira 2-chome, Aoba-ku, Sendai-shi, Miyagi 9808577, JP
발명자:
水村 通伸 MIZUMURA Michinobu; JP
後藤 哲也 GOTO Tetsuya; JP
대리인:
特許業務法人 英知国際特許事務所 EICHI PATENT & TRADEMARK CORP.; 東京都文京区千石4丁目45番13号 45-13, Sengoku 4-chome, Bunkyo-ku, Tokyo 1120011, JP
우선권 정보:
2017-18437326.09.2017JP
발명의 명칭: (EN) VAPOR DEPOSITION DEVICE, DEVICE FOR MANUFACTURING ORGANIC EL PANEL, AND METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC EL PANEL
(FR) DISPOSITIF DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR, ET DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN PANNEAU ÉLECTROLUMINESCENT ORGANIQUE
(JA) 蒸着装置、有機ELパネルの製造装置、有機ELパネルの製造方法
요약서:
(EN) Provided is a vapor deposition device enabling a vapor deposition source to be arranged in proximity to a vapor deposition mask or a substrate to improve directionality of a molecular flux of a film formation material, thereby increasing accuracy of a film formation pattern. The vapor deposition device is provided with: a vapor deposition tank holding therein a substrate having a film formation surface with which a deposition mask is in close contact; and a vapor deposition source arranged in the vapor deposition tank and emitting a film formation material toward the vapor deposition mask. The vapor deposition source includes: a container accommodating the film formation material and having an opening facing the vapor deposition mask; a heating device for heating the film formation material in the container; and an ultrasonic transducer for applying ultrasonic vibrations to the film formation material in the container.
(FR) L'invention concerne un dispositif de dépôt en phase vapeur permettant d'agencer une source de dépôt en phase vapeur à proximité d'un masque de dépôt en phase vapeur ou d'un substrat pour améliorer la capacité d'orientation d'un flux moléculaire d'un matériau de formation de film, afin d'accroître la précision d'un motif de formation de film. Le dispositif de dépôt en phase vapeur comprend : un réservoir de dépôt en phase vapeur contenant un substrat comportant une surface de formation de film avec laquelle un masque de dépôt est en contact étroit ; et une source de dépôt en phase vapeur, agencée dans le réservoir de dépôt en phase vapeur et émettant un matériau de formation de film en direction du masque de dépôt en phase vapeur. La source de dépôt en phase vapeur comprend : un récipient recevant le matériau de formation de film et qui comporte une ouverture faisant face au masque de dépôt en phase vapeur ; un dispositif chauffant pour chauffer le matériau de formation de film dans le récipient ; et un transducteur ultrasonore pour appliquer des vibrations ultrasonores au matériau de formation de film dans le récipient.
(JA) 蒸着装置において、蒸着源を蒸着マスクや基板に近接配置させることを可能にし、成膜材料の分子流束の指向性を改善することで、成膜パターンの精度を向上させる。蒸着装置は、蒸着マスクが被成膜面に密着された基板を内部に保持する蒸着槽と、蒸着槽内に配置され、蒸着マスクに向けて成膜材料を放射する蒸着源とを備え、蒸着源は、成膜材料が収容されると共に蒸着マスクに向けた開口を有する容器と、容器内の成膜材料を加熱する加熱装置と、容器内の成膜材料に超音波振動を与える超音波振動子を備える。
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지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
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유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 일본어 (JA)
출원언어: 일본어 (JA)