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1. (WO2019065477) OPTICAL FILTER MANUFACTURING METHOD
국제사무국에 기록된 최신 서지정보정보 제출

공개번호: WO/2019/065477 국제출원번호: PCT/JP2018/034941
공개일: 04.04.2019 국제출원일: 21.09.2018
IPC:
G02B 5/20 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,H01L 27/146 (2006.01)
G SECTION G — 물리학
02
광학
B
광학요소, 광학계 또는 광학장치; H01J; X선 광학 H01J; 29/89
5
렌즈 이외 광학요소
20
필터
G SECTION G — 물리학
03
전자사진; 광파 이외의 파를 사용하는 유사기술; 영화; 사진; 홀로그래피(Holography)
F
사진제판법에 의한 요철화 또는 패턴화 표면의 제조, 예. 인쇄용, 반도체장치의 제조법용; 그것을 위한 재료; 그것을 위한 원료; 그것을 위한 특별히 적합한 장치
7
사진제판법, 예 사진석판법에 의한 요철화 또는 패턴화된 표면의 제조, 예. 인쇄표면의 제조 그것을 위한 재료, 예. 포토레지스트로 된 것 그것을 위하여 특히 적합한 장치
004
감광재료
04
크롬산염
H SECTION H — 전기
01
기본적 전기소자
L
반도체 장치; 다른 곳에 속하지 않는 전기적 고체 장치
27
하나의 공통기판내 또는 기판상에 형성된 복수의 반도체구성부품 또는 기타 고체구성부품으로 구성된 장치
14
적외선, 가시광, 단파장의 전자파 또는 입자선 복사에 감응하는 반도체구성부품으로서 이들의 복사선 에너지를 전기적 에너지로 변환하거나 이들의 복사선에 의해 전기적 에너지를 제어하는 것에 특별히 사용되는 것
144
복사선에 의하여 제어되는 장치
146
고체촬상장치(이미지 센서) 구조
출원인:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
발명자:
奈良 裕樹 NARA Yuki; JP
大河原 昂広 OKAWARA Takahiro; JP
대리인:
特許業務法人特許事務所サイクス SIKS & CO.; 東京都中央区京橋一丁目8番7号 京橋日殖ビル8階 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031, JP
우선권 정보:
2017-18963329.09.2017JP
발명의 명칭: (EN) OPTICAL FILTER MANUFACTURING METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE FILTRE OPTIQUE
(JA) 光学フィルタの製造方法
요약서:
(EN) Provided is an optical filter manufacturing method with which it is possible to accurately form pixels having high rectangularity in a region partitioned by a separating wall, or at a position corresponding to a region partitioned by a separating wall. The optical filter manufacturing method comprises: a step of forming a colored photosensitive composition layer by applying, onto a support having separating walls and including a plurality of regions partitioned by the separating walls, a colored photosensitive composition which includes a colorant and a curable compound, the colored photosensitive composition containing the colorant by not less than 10 mass% in a total solid content; a step of irradiating, using a scanner exposure machine, the colored photosensitive composition layer with light of a wavelength of not more than 300 nm to expose the colored photosensitive composition layer in a pattern; and a step of developing and removing an unexposed portion of the colored photosensitive composition layer, and forming pixels in the regions partitioned by the separating walls, or at positions corresponding to the regions partitioned by the separating walls.
(FR) La présente invention concerne un procédé de fabrication de filtre optique avec lequel il est possible de former avec précision des pixels ayant une rectangularité élevée dans une région divisée par une paroi de séparation, ou à une position correspondant à une région divisée par une paroi de séparation. Le procédé de fabrication de filtre optique comprend : une étape de formation d'une couche de composition photosensible colorée par application, sur un support ayant des parois de séparation et comprenant une pluralité de régions séparées par les parois de séparation, d'une composition photosensible colorée qui comprend un colorant et un composé durcissable, la composition photosensible colorée contenant le colorant en une quantité supérieure ou égale à 10 % en masse dans un contenu solide total ; une étape d'irradiation, à l'aide d'une machine d'exposition de scanner, de la couche de composition photosensible colorée ayant une lumière d'une longueur d'onde inférieure ou égale à 300 nm pour exposer la couche de composition photosensible colorée selon un motif ; et une étape de développement et de retrait d'une partie non exposée de la couche de composition photosensible colorée, et de formation de pixels dans les régions divisées par les parois de séparation, ou à des positions correspondant aux régions divisées par les parois de séparation.
(JA) 隔壁で区画された領域内、または、隔壁で区画された領域に対応する位置に矩形性の良い画素を精度よく形成できる光学フィルタの製造方法を提供する。この光学フィルタの製造方法は、隔壁を有する支持体であって、隔壁で区画された複数の領域が設けられた支持体上に、色材と硬化性化合物とを含み色材を全固形分中に10質量%以上含有する着色感光性組成物を塗布して着色感光性組成物層を形成する工程と、スキャナ露光機を用いて着色感光性組成物層に波長300nm以下の光を照射して着色感光性組成物層をパターン状に露光する工程と、未露光部の着色感光性組成物層を現像除去して、隔壁で区画された領域内、または、隔壁で区画された領域に対応する位置に画素を形成する工程と、を含む。
지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
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아프리카 지식재산권기구(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 일본어 (JA)
출원언어: 일본어 (JA)