이 애플리케이션의 일부 콘텐츠는 현재 사용할 수 없습니다.
이 상황이 계속되면 다음 주소로 문의하십시오피드백 및 연락
1. (WO2019064520) ELECTRON BEAM APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2019/064520 국제출원번호: PCT/JP2017/035577
공개일: 04.04.2019 국제출원일: 29.09.2017
IPC:
H01L 21/027 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
H SECTION H — 전기
01
기본적 전기소자
L
반도체 장치; 다른 곳에 속하지 않는 전기적 고체 장치
21
반도체 장치 또는 고체 장치 또는 그러한 부품의 제조 또는 처리에 특별히 적용되는 방법 또는 장비
02
반도체장치 또는 그 부품의 제조나 처리
027
후속 포토리소그래픽(photolithographic) 공정을 위한 반도체본체상의 마스크 제조, 그룹 21/18 또는 21/34에 분류된 것은 제외
G SECTION G — 물리학
03
전자사진; 광파 이외의 파를 사용하는 유사기술; 영화; 사진; 홀로그래피(Holography)
F
사진제판법에 의한 요철화 또는 패턴화 표면의 제조, 예. 인쇄용, 반도체장치의 제조법용; 그것을 위한 재료; 그것을 위한 원료; 그것을 위한 특별히 적합한 장치
7
사진제판법, 예 사진석판법에 의한 요철화 또는 패턴화된 표면의 제조, 예. 인쇄표면의 제조 그것을 위한 재료, 예. 포토레지스트로 된 것 그것을 위하여 특히 적합한 장치
20
노광; 그것을 위한 장치
출원인:
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区港南二丁目15番3号 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
발명자:
佐藤 真路 SATO, Shinji; JP
대리인:
立石 篤司 TATEISHI, Atsuji; JP
우선권 정보:
발명의 명칭: (EN) ELECTRON BEAM APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL À FAISCEAU D'ÉLECTRONS, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
(JA) 電子ビーム装置及びデバイス製造方法
요약서:
(EN) An electron beam exposure apparatus using a photoelectric element (54i) that produces electrons due to irradiation with light comprises: a light optical system (80i) that has an optical device (84i) capable of supplying a plurality of light beams, and a projection system (86i) located between the optical device and the positioning location of the photoelectric element (54i); an electron optical system that makes electrons into an electron beam and bombards a target therewith, said electrons being produced from the photoelectric element (54i) due to irradiation with at least one light beam from the light optical system; and an adjustment apparatus that can adjust the location of the optical device.
(FR) La présente invention concerne un appareil d'exposition à un faisceau d'électrons faisant appel à un élément photoélectrique (54i) qui produit des électrons au moyen d'un rayonnement lumineux, comprenant : un système lumineux optique (80i) qui comporte un dispositif optique (84i) pouvant fournir une pluralité de faisceaux lumineux, et un système de projection (86i) situé entre le dispositif optique et l'emplacement de positionnement de l'élément photoélectrique (54i) ; un système optoélectronique qui forme un faisceau d'électrons à partir d'électrons et bombarde une cible à l'aide dudit faisceau d'électrons, lesdits électrons étant produits à partir de l'élément photoélectrique (54i) au moyen du rayonnement d'au moins un faisceau lumineux provenant du système lumineux optique ; et un appareil de réglage qui peut régler l'emplacement du dispositif optique.
(JA) 光の照射により電子を発生する光電素子(54)を用いる電子ビーム露光装置は、複数の光ビームを提供可能な光学デバイス(84)、及び光学デバイスと光電素子(54)の配置位置との間に位置する投影系(86)を有する光光学系(80)と、光光学系からの少なくとも1つの光ビームの照射により光電素子(54)から発生する電子を電子ビームとしてターゲットに照射する電子光学系と、光学デバイスの位置を調整可能な調整装置と、を備える。
front page image
지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 일본어 (JA)
출원언어: 일본어 (JA)