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1. (WO2019064472) UV LIGHT IRRADIATION DEVICE AND UV LIGHT IRRADIATION METHOD
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2019/064472 국제출원번호: PCT/JP2017/035416
공개일: 04.04.2019 국제출원일: 29.09.2017
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
G SECTION G — 물리학
03
전자사진; 광파 이외의 파를 사용하는 유사기술; 영화; 사진; 홀로그래피(Holography)
F
사진제판법에 의한 요철화 또는 패턴화 표면의 제조, 예. 인쇄용, 반도체장치의 제조법용; 그것을 위한 재료; 그것을 위한 원료; 그것을 위한 특별히 적합한 장치
7
사진제판법, 예 사진석판법에 의한 요철화 또는 패턴화된 표면의 제조, 예. 인쇄표면의 제조 그것을 위한 재료, 예. 포토레지스트로 된 것 그것을 위하여 특히 적합한 장치
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노광; 그것을 위한 장치
출원인:
シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
발명자:
昼岡 正樹 HIRUOKA, Masaki; --
대리인:
特許業務法人HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK; 大阪府大阪市北区天神橋2丁目北2番6号 大和南森町ビル Daiwa Minamimorimachi Building, 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300041, JP
우선권 정보:
발명의 명칭: (EN) UV LIGHT IRRADIATION DEVICE AND UV LIGHT IRRADIATION METHOD
(FR) DISPOSITIF DE RAYONNEMENT DE LUMIÈRE UV ET PROCÉDÉ DE RAYONNEMENT DE LUMIÈRE UV
(JA) UV光照射装置及びUV光照射方法
요약서:
(EN) Disclosed is an UV light irradiation device (1) wherein: a supporting pin (20) supports a subject (50) to be irradiated with UV light (A) at the time of irradiating the subject (50) with the UV light; and a difference between the UV light (A) reflectance of a leading end section (22) of the supporting pin (20) and that of a surface (12) of a stage (10) is equal to 1 % or lower.
(FR) L'invention concerne un dispositif de rayonnement de lumière UV (1) dans lequel : une broche de support (20) supporte un sujet (50) à irradier avec une lumière UV (A) au moment de l'irradiation du sujet (50) avec la lumière UV; et une différence entre la réflectance de la lumière UV (A) d'une section d'extrémité avant (22) de la broche de support (20) et celle d'une surface (12) d'un étage (10) est égale à 1 % ou moins.
(JA) 支持ピン(20)は、被照射体(50)にUV光(A)を照射する際、被照射体(50)を支持し、支持ピン(20)の先端部(22)とステージ(10)の表面(12)との、UV光(A)の反射率の差が1%以下であるUV光照射装置(1)。
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 일본어 (JA)
출원언어: 일본어 (JA)