이 애플리케이션의 일부 콘텐츠는 현재 사용할 수 없습니다.
이 상황이 계속되면 다음 주소로 문의하십시오피드백 및 연락
1. (WO2019063313) METROLOGY METHOD AND DEVICE
국제사무국에 기록된 최신 서지정보정보 제출

공개번호: WO/2019/063313 국제출원번호: PCT/EP2018/074841
공개일: 04.04.2019 국제출원일: 14.09.2018
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,H01L 21/66 (2006.01)
G SECTION G — 물리학
03
전자사진; 광파 이외의 파를 사용하는 유사기술; 영화; 사진; 홀로그래피(Holography)
F
사진제판법에 의한 요철화 또는 패턴화 표면의 제조, 예. 인쇄용, 반도체장치의 제조법용; 그것을 위한 재료; 그것을 위한 원료; 그것을 위한 특별히 적합한 장치
7
사진제판법, 예 사진석판법에 의한 요철화 또는 패턴화된 표면의 제조, 예. 인쇄표면의 제조 그것을 위한 재료, 예. 포토레지스트로 된 것 그것을 위하여 특히 적합한 장치
20
노광; 그것을 위한 장치
H SECTION H — 전기
01
기본적 전기소자
L
반도체 장치; 다른 곳에 속하지 않는 전기적 고체 장치
21
반도체 장치 또는 고체 장치 또는 그러한 부품의 제조 또는 처리에 특별히 적용되는 방법 또는 장비
66
제조 또는 처리중의 시험이나 측정
출원인:
ASML HOLDING N.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
발명자:
SHMAREV, Yevgeniy, Konstantinovich; US
PANDEY, Nitesh; NL
KOOLEN, Armand, Eugene, Albert; NL
대리인:
SLENDERS, Peter; NL
우선권 정보:
62/565,03328.09.2017US
발명의 명칭: (EN) METROLOGY METHOD AND DEVICE
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE MÉTROLOGIE
요약서:
(EN) An inspection apparatus, including: an objective configured to receive diffracted radiation from a metrology target having positive and negative diffraction order radiation; an optical element configured to separate the diffracted radiation into portions separately corresponding to each of a plurality of different values or types of one or more radiation characteristics and separately corresponding to the positive and negative diffraction orders; and a detector system configured to separately and simultaneously measure the portions.
(FR) La présente invention concerne un appareil d'inspection qui comprend : un objectif configuré pour recevoir un rayonnement diffracté provenant d'une cible de métrologie ayant un rayonnement doté d'un ordre de diffraction positif et négatif ; un élément optique configuré pour séparer le rayonnement diffracté en parties correspondant séparément à chaque valeur ou type d'une pluralité de valeurs ou de types différents d'une ou de plusieurs caractéristiques de rayonnement et correspondant séparément aux ordres de diffraction positif et négatif ; et un système de détection configuré pour mesurer séparément et simultanément les parties.
front page image
지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
아프리카 지식재산권기구(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 영어 (EN)
출원언어: 영어 (EN)