이 애플리케이션의 일부 콘텐츠는 현재 사용할 수 없습니다.
이 상황이 계속되면 다음 주소로 문의하십시오피드백 및 연락
1. (WO2019061737) METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL
국제사무국에 기록된 최신 서지정보정보 제출

공개번호: WO/2019/061737 국제출원번호: PCT/CN2017/111432
공개일: 04.04.2019 국제출원일: 16.11.2017
IPC:
G02F 1/1362 (2006.01) ,G02F 1/1368 (2006.01) ,G02F 1/1343 (2006.01)
G SECTION G — 물리학
02
광학
F
광의 강도, 색, 위상, 편광 또는 방향의 제어를 위한 장치 또는 배치, 예. 스위칭, 게이팅, 변조 또는 복조, 의 매체의 광학적성질이 변화에 의하여 광학적 작용이 변화하는 장치 또는 배치; 그와 같은 동작을 위한 기술 또는 처리; 주파수변환; 비선형 광학; 광학적 논리소자; 광학적 아날로그/디지털 변환기
1
독립된 광원으로부터 도달한 광의 강도, 색, 위상, 편광 또는 방향의 제어를 위한 장치 또는 배치, 예. 스위칭, 게이팅 또는 변조 비선형 광학
01
강도, 위상, 편광 또는 색의 제어를 위한 것
13
액정에 기초한 것, 예. 하나의 액정 표시 셀
133
구조배치 ; 액정셀의 작동 ; 회로배치
136
반도체층 또는 기판과 구조적으로 결합된 액정셀, 예. 집적회로의 일부를 구성하는 셀
1362
능동매트릭스 어드레스 셀(active matrix addressed cells)
G SECTION G — 물리학
02
광학
F
광의 강도, 색, 위상, 편광 또는 방향의 제어를 위한 장치 또는 배치, 예. 스위칭, 게이팅, 변조 또는 복조, 의 매체의 광학적성질이 변화에 의하여 광학적 작용이 변화하는 장치 또는 배치; 그와 같은 동작을 위한 기술 또는 처리; 주파수변환; 비선형 광학; 광학적 논리소자; 광학적 아날로그/디지털 변환기
1
독립된 광원으로부터 도달한 광의 강도, 색, 위상, 편광 또는 방향의 제어를 위한 장치 또는 배치, 예. 스위칭, 게이팅 또는 변조 비선형 광학
01
강도, 위상, 편광 또는 색의 제어를 위한 것
13
액정에 기초한 것, 예. 하나의 액정 표시 셀
133
구조배치 ; 액정셀의 작동 ; 회로배치
136
반도체층 또는 기판과 구조적으로 결합된 액정셀, 예. 집적회로의 일부를 구성하는 셀
1362
능동매트릭스 어드레스 셀(active matrix addressed cells)
1368
스위칭 소자가 3단자 장치인 것
G SECTION G — 물리학
02
광학
F
광의 강도, 색, 위상, 편광 또는 방향의 제어를 위한 장치 또는 배치, 예. 스위칭, 게이팅, 변조 또는 복조, 의 매체의 광학적성질이 변화에 의하여 광학적 작용이 변화하는 장치 또는 배치; 그와 같은 동작을 위한 기술 또는 처리; 주파수변환; 비선형 광학; 광학적 논리소자; 광학적 아날로그/디지털 변환기
1
독립된 광원으로부터 도달한 광의 강도, 색, 위상, 편광 또는 방향의 제어를 위한 장치 또는 배치, 예. 스위칭, 게이팅 또는 변조 비선형 광학
01
강도, 위상, 편광 또는 색의 제어를 위한 것
13
액정에 기초한 것, 예. 하나의 액정 표시 셀
133
구조배치 ; 액정셀의 작동 ; 회로배치
1333
구조배치
1343
전극
출원인:
深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 SHENZHEN CHINA STAR OPTOELECTRONICS SEMICONDUCTOR DISPLAY TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; 中国广东省深圳市 光明新区公明街道塘明大道9-2号 No. 9-2,Tangming Road Gongming Street, Guangming New District Shenzhen, Guangdong 518132, CN
발명자:
卞峰苓 BIAN, Fengling; CN
대리인:
深圳市德力知识产权代理事务所 COMIPS INTELLECTUAL PROPERTY OFFICE; 中国广东省深圳市 福田区上步中路深勘大厦15E Room 15E, Shenkan Building Shangbu Zhong Road, Futian District Shenzhen, Guangdong 518028, CN
우선권 정보:
201710901828.828.09.2017CN
발명의 명칭: (EN) METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN PANNEAU D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES ET PANNEAU D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES
(ZH) 液晶显示面板的制作方法及液晶显示面板
요약서:
(EN) A method for manufacturing a liquid crystal display panel and the liquid crystal display panel. According to the method, a mask which is adopted for patterning a second metal layer (6) is utilized for patterning a common electrode (11) on a second substrate (9), so that a hollow-out area (111) of the same pattern as the second metal layer (6) is formed on the common electrode (11), thereby reducing the capacitance between the second metal layer (6) and the common electrode (11), alleviating the problem of horizontal crosstalk, and improving the displaying quality of the liquid crystal display panel.
(FR) L'invention concerne un procédé de fabrication d'un panneau d'affichage à cristaux liquides et le panneau d'affichage à cristaux liquides. Selon le procédé, un masque qui est adopté pour former une deuxième couche métallique (6) est utilisé pour former une électrode commune (11) sur un deuxième substrat (9), de telle sorte qu'une zone évidée (111) du même motif que la deuxième couche métallique (6) est formée sur l'électrode commune (11), ce qui permet de réduire la capacité entre la deuxième couche métallique (6) et l'électrode commune (11), d'atténuer le problème de diaphonie horizontale, et d'améliorer la qualité d'affichage du panneau d'affichage à cristaux liquides.
(ZH) 一种液晶显示面板的制作方法及液晶显示面板。该方法利用第二金属层(6)图案化时所采用的掩膜板对第二基板(9)上的公共电极(11)进行图案化,使得公共电极(11)上形成于第二金属层(6)的图案相同的镂空区(111),从而减小第二金属层(6)与公共电极(11)之间的电容,减轻水平串扰问题,提升液晶显示面板的显示品质。
front page image
지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
아프리카 지식재산권기구(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 중국어 (ZH)
출원언어: 중국어 (ZH)