이 애플리케이션의 일부 콘텐츠는 현재 사용할 수 없습니다.
이 상황이 계속되면 다음 주소로 문의하십시오피드백 및 연락
1. (WO2019059054) METHOD FOR MANUFACTURING HARD CARBON-BASED COATING, AND MEMBER PROVIDED WITH COATING
국제사무국에 기록된 최신 서지정보정보 제출

공개번호: WO/2019/059054 국제출원번호: PCT/JP2018/033715
공개일: 28.03.2019 국제출원일: 11.09.2018
IPC:
C23C 26/00 (2006.01) ,B23B 27/14 (2006.01) ,B23B 27/20 (2006.01) ,C23C 14/00 (2006.01) ,C23C 14/06 (2006.01)
C SECTION C — 화학; 야금
23
금속재료의 피복; 금속 피복재료; 화학적 표면처리; 금속재료의 확산처리; 진공증착, 스퍼터링(SPUTTERING), 이온주입 또는 화학증착에 의한 피복 일반; 금속재료의 방식 또는 이물질 형성 방지 일반
C
금속재료의 피복; 금속 피복재료; 표면 확산, 화학적 전환 또는 치환에 의한 금속재료의 표면처리; 진공증착, 스퍼터링, 이온주입 또는 화학증착에 의한 피복, 일반
26
그룹 2/00 ~ 24/00에 분류되지 않는 피복
B SECTION B — 처리조작; 운수
23
공작 기계; 달리 분류되지 않는 금속 가공
B
선삭; 보오링
27
선반 또는 보오링 머시인용 공구 일반적으로 유사한 종류의 공구; 그것을 위한 부속구
14
비트(bit) 또는 팁(tip)이 특별한 재료로 만들어진 절삭 공구
B SECTION B — 처리조작; 운수
23
공작 기계; 달리 분류되지 않는 금속 가공
B
선삭; 보오링
27
선반 또는 보오링 머시인용 공구 일반적으로 유사한 종류의 공구; 그것을 위한 부속구
14
비트(bit) 또는 팁(tip)이 특별한 재료로 만들어진 절삭 공구
20
다이아몬드 비트를 갖는 것
C SECTION C — 화학; 야금
23
금속재료의 피복; 금속 피복재료; 화학적 표면처리; 금속재료의 확산처리; 진공증착, 스퍼터링(SPUTTERING), 이온주입 또는 화학증착에 의한 피복 일반; 금속재료의 방식 또는 이물질 형성 방지 일반
C
금속재료의 피복; 금속 피복재료; 표면 확산, 화학적 전환 또는 치환에 의한 금속재료의 표면처리; 진공증착, 스퍼터링, 이온주입 또는 화학증착에 의한 피복, 일반
14
피복형성재료의 진공증착, 스퍼터링, 또는 이온주입에 의한 피복
C SECTION C — 화학; 야금
23
금속재료의 피복; 금속 피복재료; 화학적 표면처리; 금속재료의 확산처리; 진공증착, 스퍼터링(SPUTTERING), 이온주입 또는 화학증착에 의한 피복 일반; 금속재료의 방식 또는 이물질 형성 방지 일반
C
금속재료의 피복; 금속 피복재료; 표면 확산, 화학적 전환 또는 치환에 의한 금속재료의 표면처리; 진공증착, 스퍼터링, 이온주입 또는 화학증착에 의한 피복, 일반
14
피복형성재료의 진공증착, 스퍼터링, 또는 이온주입에 의한 피복
06
.피복재료에 특징이 있는 것
출원인:
住友電気工業株式会社 SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 大阪府大阪市中央区北浜四丁目5番33号 5-33, Kitahama 4-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410041, JP
三菱マテリアル株式会社 MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION [JP/JP]; 東京都千代田区大手町一丁目3番2号 3-2, Otemachi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008117, JP
D.N.A.メタル株式会社 D.N.A. METAL COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 大阪府茨木市大池1丁目8-16 8-16, Oike 1-chome, Ibaraki-shi, Osaka 5670826, JP
발명자:
西林 良樹 NISHIBAYASHI Yoshiki; JP
前田 茂樹 MAEDA Shigeki; JP
藤原 和崇 FUJIWARA Kazutaka; JP
대리인:
山野 宏 YAMANO Hiroshi; JP
우선권 정보:
2017-18424025.09.2017JP
2018-04413312.03.2018JP
발명의 명칭: (EN) METHOD FOR MANUFACTURING HARD CARBON-BASED COATING, AND MEMBER PROVIDED WITH COATING
(FR) PROCÉDÉ POUR LA FABRICATION D'UN REVÊTEMENT À BASE DE CARBONE DUR ET ÉLÉMENT POURVU D'UN REVÊTEMENT
(JA) 硬質炭素系被膜の製造方法、及び被膜付き部材
요약서:
(EN) Provided is a method for manufacturing a hard carbon-based coating, the method comprising: a step A for preparing a film-forming device that has a power supply device and a discharge electrode containing a carbon material, and a substrate that has a surface on which a coating is to be formed; and a step B for repeatedly generating, by means of the film-forming device, a discharge between the discharge electrode and the substrate, and thereby forming a hard carbon-based coating on the surface.
(FR) L'invention concerne un procédé pour la fabrication d'un revêtement à base de carbone dur, le procédé comprenant : une étape A consistant à préparer un dispositif de formation de film, qui comprend un dispositif d'alimentation électrique et une électrode de décharge contenant un matériau carboné, et un substrat qui a une surface sur laquelle un revêtement doit être formé ; et une étape B consistant à produire de façon répétée, au moyen du dispositif de formation de film, une décharge entre l'électrode de décharge et le substrat et former ainsi un revêtement à base de carbone dur sur la surface.
(JA) 電源装置と炭素材料を含む放電電極とを有する成膜装置、及び被膜が形成される表面を有する基材を準備する工程Aと、前記成膜装置によって、前記放電電極と前記基材との間に繰り返し放電を発生させることで、前記表面に硬質炭素系被膜を形成する工程Bと、を備える硬質炭素系被膜の製造方法。
front page image
지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
아프리카 지식재산권기구(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 일본어 (JA)
출원언어: 일본어 (JA)