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1. (WO2019052705) METHOD FOR MACHINING A WORKPIECE DURING THE PRODUCTION OF AN OPTICAL ELEMENT
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Patentansprüche

1 . Verfahren zum Bearbeiten eines Werkstücks bei der Herstellung eines optischen Elements, insbesondere für die Mikrolithographie,

• wobei das Verfahren wenigstens einen Bearbeitungsprozess umfasst, bei welchem eine Relativbewegung zwischen dem Werkstück (1 10, 210) und einem Werkzeug erfolgt, während der das Werkzeug zeitweise über einen über die zu bearbeitende Werkstückoberfläche hinausragenden Überlaufabschnitt geführt wird;

• wobei der Überlaufabschnitt dadurch gebildet wird, dass ein an die zu bearbeitende Werkstückoberfläche angrenzender Bereich mit einem in flüssigem Zustand befindlichen Füllstoff (120, 220) gefüllt wird, wobei dieser Füllstoff (120, 220) vor Durchführung des Bearbeitungsprozesses an dem Werkstück (1 10, 210) ausgehärtet wird;

• wobei der Füllstoff (120, 220) nach Durchführung des Bearbeitungsprozesses entfernt wird, und wobei das Entfernen des Füllstoffs (120, 220) unter Erwärmung und/oder Zufuhr eines Lösungsmittels erfolgt.

2. Verfahren nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass der Füllstoff (120, 220) aus der Gruppe ausgewählt wird, welche niedrigschmelzende Gläser, UV-härtende Klebstoffe und glasartige Polymere enthält.

3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass der an die zu bearbeitende Werkstückoberfläche angrenzende Bereich einen zur Ermöglichung des Lichtdurchtritts durch das optische Element in dem Werkstück (1 10) vorgesehenen Durchbruch umfasst.

4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass der an die zu bearbeitende Werkstückoberfläche angrenzende Bereich einen Randbereich des Werkstücks (210) umfasst.

5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekenn-

zeichnet, dass das Füllen des an die zu bearbeitende Werkstückoberfläche angrenzenden Bereichs mit dem Füllstoff (120, 220) derart erfolgt, dass ein spaltfreier Übergang zwischen Werkstück (1 10, 210) und Füllstoff (120, 220) bzw. Überlaufabschnitt erzeugt wird.

6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass nach dem Aushärten des Füllstoffs (120, 220) eine Nachkon- turierungs-Bearbeitung zur Eliminierung eines Höhenversatzes zwischen Werkstück (1 10, 210) und Füllstoff (120, 220) bzw. Überlaufabschnitt erfolgt.

7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Bearbeitungsprozess einen Läpp- und/oder Polier- prozess umfasst.

8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das optische Element ein Spiegel ist.

9. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das optische Element für eine Arbeitswellenlänge von weniger als 30nm, insbesondere von weniger als 15nm, ausgelegt ist.

10. Optisches Element, insbesondere für die Mikrolithographie, dadurch gekennzeichnet, dass dieses unter Anwendung eines Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 9 hergestellt ist.

1 1 . Optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungs- anlage, insbesondere Beleuchtungseinrichtung oder Projektionsobjektiv, dadurch gekennzeichnet, dass das optische System ein optisches Element nach Anspruch 10 aufweist.

12. Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage mit einer Beleuchtungseinrichtung und einem Projektionsobjektiv, dadurch gekennzeichnet, dass die Projektionsbelichtungsanlage ein optisches Element nach Anspruch 10 aufweist.