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1. (WO2019050620) AUTOMATIC CLEANING MACHINE FOR CLEANING PROCESS KITS
국제사무국에 기록된 최신 서지정보정보 제출

공개번호: WO/2019/050620 국제출원번호: PCT/US2018/041670
공개일: 14.03.2019 국제출원일: 11.07.2018
IPC:
H01L 21/67 (2006.01) ,H01L 21/02 (2006.01)
H SECTION H — 전기
01
기본적 전기소자
L
반도체 장치; 다른 곳에 속하지 않는 전기적 고체 장치
21
반도체 장치 또는 고체 장치 또는 그러한 부품의 제조 또는 처리에 특별히 적용되는 방법 또는 장비
67
제조 또는 처리중의 반도체 또는 전기 고체 장치 취급에 특별히 적용되는 장치; 반도체 또는 전기 고체 장치 혹은 구성부품의 제조 또는 처리중의 웨이퍼 취급에 특별히 적용되는 장치
H SECTION H — 전기
01
기본적 전기소자
L
반도체 장치; 다른 곳에 속하지 않는 전기적 고체 장치
21
반도체 장치 또는 고체 장치 또는 그러한 부품의 제조 또는 처리에 특별히 적용되는 방법 또는 장비
02
반도체장치 또는 그 부품의 제조나 처리
출원인:
APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054, US
발명자:
NANGOY, Roy C.; US
D'AMBRA, Allen L.; US
PAPKE, Kevin A.; US
대리인:
PATTERSON, B. Todd; US
TABOADA, Keith; US
우선권 정보:
15/784,96316.10.2017US
62/555,49207.09.2017US
발명의 명칭: (EN) AUTOMATIC CLEANING MACHINE FOR CLEANING PROCESS KITS
(FR) MACHINE DE NETTOYAGE AUTOMATIQUE POUR LE NETTOYAGE DE KITS DE TRAITEMENT
요약서:
(EN) Disclosed herein is an apparatus for cleaning a process kit comprising a body, a cleaning source, and a control system. The body is formed from multiple modules configured to couple to, and receive therein, a process kit part. A plurality of cleaning agents may be sequentially delivered to the body in order to remove the particles disposed on the process part.
(FR) L'invention concerne un appareil permettant de nettoyer un kit de traitement comprenant un corps, une source de nettoyage et un système de commande. Le corps est constitué de multiples modules conçus pour s'accoupler à une partie de kit de traitement et recevoir celui-ci en leur sein. Une pluralité d'agents de nettoyage peut être distribuée de manière séquentielle au corps afin d'éliminer les particules disposées sur la partie de traitement.
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지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
아프리카 지식재산권기구(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 영어 (EN)
출원언어: 영어 (EN)