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1. (WO2019050507) METHODS OF HANDLING A MASK DEVICE, APPARATUS FOR EXCHANGING A MASK DEVICE, MASK EXCHANGE CHAMBER, AND VACUUM SYSTEM
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2019/050507 국제출원번호: PCT/US2017/050129
공개일: 14.03.2019 국제출원일: 05.09.2017
IPC:
H01L 51/56 (2006.01) ,H01L 51/00 (2006.01) ,H01L 21/67 (2006.01) ,H01L 21/033 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
H SECTION H — 전기
01
기본적 전기소자
L
반도체 장치; 다른 곳에 속하지 않는 전기적 고체 장치
51
능동 부분으로서 유기 재료를 이용하거나 능동 부분으로서 유기 재료와 다른 재료와의 조합을 이용하는 고체 장치; 그들 장치 또는 그 부품의 제조 또는 처리에 특별히 적용되는 방법 또는 장치
50
광방출에 특별히 적용되는 것, 예. 유기 발광 다이오드(OLED) 또는 고분자 발광 다이오드 (PLED)
56
그들 또는 그 부품의 제조 또는 처리에 특별히 적용되는 방법 또는 장치
H SECTION H — 전기
01
기본적 전기소자
L
반도체 장치; 다른 곳에 속하지 않는 전기적 고체 장치
51
능동 부분으로서 유기 재료를 이용하거나 능동 부분으로서 유기 재료와 다른 재료와의 조합을 이용하는 고체 장치; 그들 장치 또는 그 부품의 제조 또는 처리에 특별히 적용되는 방법 또는 장치
H SECTION H — 전기
01
기본적 전기소자
L
반도체 장치; 다른 곳에 속하지 않는 전기적 고체 장치
21
반도체 장치 또는 고체 장치 또는 그러한 부품의 제조 또는 처리에 특별히 적용되는 방법 또는 장비
67
제조 또는 처리중의 반도체 또는 전기 고체 장치 취급에 특별히 적용되는 장치; 반도체 또는 전기 고체 장치 혹은 구성부품의 제조 또는 처리중의 웨이퍼 취급에 특별히 적용되는 장치
H SECTION H — 전기
01
기본적 전기소자
L
반도체 장치; 다른 곳에 속하지 않는 전기적 고체 장치
21
반도체 장치 또는 고체 장치 또는 그러한 부품의 제조 또는 처리에 특별히 적용되는 방법 또는 장비
02
반도체장치 또는 그 부품의 제조나 처리
027
후속 포토리소그래픽(photolithographic) 공정을 위한 반도체본체상의 마스크 제조, 그룹 21/18 또는 21/34에 분류된 것은 제외
033
무기물층이 포함된 것
G SECTION G — 물리학
03
전자사진; 광파 이외의 파를 사용하는 유사기술; 영화; 사진; 홀로그래피(Holography)
F
사진제판법에 의한 요철화 또는 패턴화 표면의 제조, 예. 인쇄용, 반도체장치의 제조법용; 그것을 위한 재료; 그것을 위한 원료; 그것을 위한 특별히 적합한 장치
7
사진제판법, 예 사진석판법에 의한 요철화 또는 패턴화된 표면의 제조, 예. 인쇄표면의 제조 그것을 위한 재료, 예. 포토레지스트로 된 것 그것을 위하여 특히 적합한 장치
20
노광; 그것을 위한 장치
출원인:
APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054, US
발명자:
GOVINDASAMY, Sathiyamurthi; IN
KLEIN, Wolfgang; DE
SALUGU, Srinivas; IN
SAUER, Andreas; DE
ZANG, Sebastian Gunther; DE
대리인:
PATTERSON, B. Todd; US
TACKETT, Keith M.; US
우선권 정보:
발명의 명칭: (EN) METHODS OF HANDLING A MASK DEVICE, APPARATUS FOR EXCHANGING A MASK DEVICE, MASK EXCHANGE CHAMBER, AND VACUUM SYSTEM
(FR) PROCÉDÉS DE MANIPULATION D'UN DISPOSITIF DE MASQUAGE, APPAREIL D'ÉCHANGE D'UN DISPOSITIF DE MASQUAGE, CHAMBRE D’ÉCHANGE DE MASQUE ET SYSTÈME SOUS VIDE
요약서:
(EN) Method of handling a mask device are described. According to m embodiment, the method includes: Loading the mask device on a holding arrangement for holding the mask device; moving the holding arrangement from a first state into a second state, the second slate being a non-horizontal state; aligning the holding- arrangement with a mask carrier; and transferring the mask device from the holding arrangement to the mask earner. Further, an apparatus for exchanging a mask device from a mask carrier as well as a vacuum system including such an apparatus are described.
(FR) L'invention concerne un procédé de manipulation de dispositif de masquage. Selon un mode de réalisation, le procédé consiste à : charger le dispositif de masquage sur un agencement de maintien pour maintenir le dispositif de masquage ; faire passer l'agencement de maintien d'un premier état vers un second état, le second état étant un état non horizontal ; aligner l'agencement de maintien avec un support de masque ; et transférer le dispositif de masquage de l'agencement de maintien au support de masque. En outre, l'invention concerne un appareil d'échange d'un dispositif de masquage à partir d'un support de masque, ainsi qu'un système sous vide comprenant un tel appareil.
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유라시아 특허청 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 영어 (EN)
출원언어: 영어 (EN)